以色列理工學院29日發(fā)布公告稱，該校研究人員首次通過實驗證明，水與光相互作用也能發(fā)出激光，在之前被認為毫無關聯的兩個研究領域間構建起“橋梁”。
2016-12-01 10:47:23
757 引言 近年來，隨著集成電路的微細化，半導體制造的清洗方式從被稱為“批量式”的25枚晶片一次清洗的方式逐漸改變?yōu)椤皢螐埵健钡?b class="flag-6" style="color: red">晶片一次清洗的方式。在半導體的制造中，各工序之間進行晶片的清洗，清洗工序
2021-12-23 16:43:041104 
本文介紹了我們華林科納研究了污染和清洗順序對堿性紋理化的影響。硅表面專門暴露在有機和金屬污染中，以研究它們對堿性紋理化過程的影響，由此可見，無機污染對金字塔密度的影響不小，而對宏觀參數沒有影響，而膠殘留劑或刻蝕劑等有機污染則存在關鍵問題，可以抑制堿性紋理化過程。
2022-05-18 14:55:43714 
引言 過氧化氫被認為是半導體工業(yè)的關鍵化學品。半導體材料的制備和印刷電路板的制造使用過氧化氫水溶液來清洗硅晶片、去除光刻膠或蝕刻印刷電路板上的銅。用于硅晶片表面清洗的最常用的清洗
2022-07-07 17:16:442758 
半導體制造業(yè)面臨的最大挑戰(zhàn)之一是硅的表面污染薄片。最常見的是，硅晶片僅僅因為暴露在空氣中而被污染，空氣中含有高度的有機顆粒污染物。由于強大的靜電力，這些污染物牢固地結合在硅晶片表面，給半導體制造行業(yè)帶來了許多令人頭痛的問題。
2022-07-08 17:18:503378 
在整個晶圓加工過程中，仔細維護清潔的晶圓表面對于在半導體器件制造中獲得高產量至關重要。因此，濕式化學清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中應用最重復的處理步驟。
2023-03-30 10:00:091940 
在當今的器件中，最小結構的尺寸接近于需要從晶片表面移除的粒子的尺寸。在不破壞脆弱設備的情況下，在工藝步驟之間去除納米顆粒的清洗過程的重要性正在不斷增長。兆波清洗可用于單晶片或批量晶片處理。
2023-05-02 16:32:11865 
紋理圖像的特征是什么？指紋圖像的特征是什么？
2021-06-02 07:05:59
1、全自動化的在線式清洗機 一種全自動化的在線式清洗機，該清洗機針對SMT/THT的PCBA焊接后表面殘留的松香助焊劑、水溶性助焊劑、免清洗性助焊劑/焊膏等有機、無機污染物進行徹底有效的清洗
2021-02-05 15:27:50
PIC32 MZ2048 EFHXC32 1.44應與TMR2和TMR4相互作用嗎？問題是：我正在運行兩個計時器，TMR2和TMR4，以驅動一些PWM。為此，我使用OC1和OC2。首先，我測試了兩個
2020-03-18 09:57:30
：太陽能電池清洗設備, 半導體清洗設備,微電子工藝設備及清洗設備，太陽能電池片清洗刻蝕設備, 微電子半導體清洗刻蝕設備,LCD液晶玻璃基板清洗刻蝕設備;LED晶片清洗腐蝕設備,硅片切片后清洗設備，劃片后
2011-04-13 13:23:10
彈性輪與地面相互作用建模及仿真研究以半經驗法為指導思想 對剛性輪與地面相互作用進行了總結在此基礎上對彈性輪與地面相互作用提出了合理假設通過對彈性輪與地面相互作用的受力分析建立了彈性輪的壓實阻力
2009-12-02 12:47:05
電流和磁場的相互作用產生電磁轉矩，利用叉乘可以很方便地推導出永磁同步電機的電磁轉矩，包括表貼式永磁同步電機（SPMSM）和內嵌式永磁同步電機（IPMSM）。
2021-08-27 07:21:00
該學生團隊及其學院和當地一家太空商業(yè)公司合作，為一個新的實驗設備設計了一個電子器件包，該設備將用于研究粒子如何與零重力中的航天器和太空服材料相互作用，并允許研究人員遠程控制和監(jiān)控實驗。
2019-08-06 08:27:52
紋理是游戲不可或缺的一部分。
這是一個藝術家可以直接控制的領域，以提高游戲的性能。
本最佳實踐指南介紹了幾種紋理優(yōu)化，這些優(yōu)化可以幫助您的游戲運行得更流暢、看起來更好。
最佳實踐系列指南的總體目標
2023-08-28 06:39:47
建立數字城市過程中紋理制作問題的探討
2009-01-09 22:18:42
16 大氣中固體燃燒等離子體與微波相互作用的實驗研究:設計制造了含特定組分的化學藥劑，利用熱力學方法對其在大氣中燃燒所產生的等離子體的電子密度進行了理論計
2009-10-26 17:03:2810 ，從而達到潔凈的工藝過程。它是基于激光與物質相互作用效應的一項新技術，與傳統的機械清洗法、化學腐蝕清洗、液體固體強力沖擊清洗、高頻超聲清洗等傳統清洗方法相比，有明顯的
2023-12-06 10:58:54
LED晶片的組成,作用及分類
一、LED晶片的作用：LED晶片為LED的主要原材料，LED主要依靠晶
2009-05-09 09:05:581617 
PHB和PHB-g-MA與甲殼胺的相互作用
隨著科學技術日新月異的發(fā)展，高分子材料得到快速發(fā)展，目前已經成為應用最廣泛的材料。由于PHB是由生物合成的高分子，從PHB的發(fā)
2009-11-21 09:47:361843 BIA（Biomolecular Interaction Analysis）提供了實時觀察生物分子間相互作用的技術。 通過它能觀察兩種分子結合的特異性， 能知道兩種分子的結合有多強，還能了解生物分子的結合過程共有多少個協同者和參與者。 BIA可以讓得到用其他技術方法難以得到的結果
2011-02-08 15:46:0285 從激光技術的發(fā)展、超短超強激光等離子體相互作用研究的特點、方法、內容及其潛在的應用等5個方面對強場物理在國內外的情況作了論述，進一步指出強場物理的實驗研究及其應用依賴于激光裝置的發(fā)展，而超短超強激光技術的發(fā)展又使得強場物理的研究變得更具前景、更具挑戰(zhàn)性。
2017-11-07 10:43:1611 的計算能力進一步幫助我們從硬件上來實現時間嚴格任務的實時處理，從而使對較小系統執(zhí)行反饋控制成為可能，甚至于單個原子與單個光子的相互作用。
使用LabVIEW FPGA，我們可以快速地開發(fā)FPGA
2017-11-17 20:18:511189 
本文主要介紹了太赫茲光譜技術簡單介紹及應用詳解_太赫茲與物質的相互作用。THz脈沖光源與傳統光源相比具有很多獨特的性質：瞬態(tài)性、寬帶性、相干性、低能性。太赫茲光譜測量技術和太赫茲光譜分析技術。Hz
2018-01-08 10:49:4313773 為研究聚類系數對病毒傳播與級聯故障相互作用的影響，提出一種改進的病毒傳播與級聯故障相互作用模型。通過改變平均度和三角連接概率調節(jié)網絡聚類系數，以此觀察病毒傳播與級聯故障相互作用過程。當不考慮三角連接
2018-01-30 17:53:571 雙饋風電場通過串聯補償裝置進行遠距離輸電時存在發(fā)生次同步相互作用（sub-synchronous interactions，ssi）的風險。結合我國華北地區(qū)某風電場的實際情況，在PSCAD
2018-01-31 11:23:5311 大規(guī)模風電經串補線路進行遠距離傳送存在引發(fā)次同步相互作用的風險，系統運行方式、串補度及變頻器控制參數為主要影響因素。采用概率法和模式分析相結合，分別在含雙饋感應型和永磁同步型風電場系統中，研究多運
2018-02-06 14:12:540 雙饋風電機組中存在較多與次同步振蕩頻率范圍耦合的控制環(huán)路，容易引發(fā)控制環(huán)路與線路串聯電容補償之間的次同步控制相互作用（ssci）其中雙饋風電機組轉子側內環(huán)比例參數對SSCI影響顯著，但由于其穩(wěn)定
2018-03-05 15:27:570 物體表面上每一點的紋理像素都能在紋理映射中找到，它們遵循光照公式以某種方式與光照結合在一起。在最簡單的情況下，一個從漫反射紋理映射得到的樣例可以用于調節(jié)漫反射的顏色。
2018-05-05 11:34:354585 的電絕緣性能，是由填料粒子的絕緣性能決定的。導熱塑料的導熱性能取決于聚合物與導熱填料的相互作用。不同種類的填料具有不同的導熱機理。 導熱塑料作為一種全新的材料，具有塑料優(yōu)異的成型加工條件，同時導熱金屬具有更低的密度，更低的成
2020-04-01 09:57:561061 該芯片可以成為基于細胞的藥物篩選平臺，用于探索抗生素相互作用的關鍵藥理學模式，有望擴展篩選其他細胞類藥物和臨床治療指導潛在應用。
2019-04-25 09:34:002723 發(fā)現PCB和路由規(guī)則的正確使用可以減少回修。在這個網絡研討會,我們將向您展示如何PCB設計的三個R的相互影響,以及如何使用它們來你的優(yōu)勢,降低成本,提高投放市場的時間。
2019-10-12 07:04:003101 電磁相互作用即是帶電粒子與電磁場的相互作用以及帶電粒子之間通過電磁場傳遞的相互作用。它是自然界的一種基本相互作用。
2020-01-31 10:37:004490 
單個原子是什么模樣，原子與原子之間是如何相互作用的？最近，據物理學家組織網報道，來自新西蘭奧塔哥大學物理系的科學家首次捕獲到單個原子并讓其發(fā)生受控反應，并觀察到了前所未見的原子間相互作用的情景，他們認為這或將大大影響未來的技術進步。
2020-02-24 22:27:422187 在量子計算的世界里，交互就是一切，為了讓計算機正常工作，比特（構成數字信息的一比特和零比特）必須能夠相互作用并傳遞數據進行處理。
2020-04-02 17:01:102182 列車-軌道相互作用（TTI）是鐵路工程中的一個經典研究課題，主要由列車模型、軌道模型和輪軌相互作用三部分組成。為了提高計算精度，拓寬應用范圍，介紹了一種基于商業(yè)軟件ANSYS二次開發(fā)技術，利用
2020-05-11 08:00:005 據英國劍橋大學官網近日報道，該?？蒲腥藛T和美國科學家攜手，開發(fā)出一種可以模仿人類細胞膜的“芯片上的膜”（membrane on a chip），它可以連續(xù)監(jiān)測藥物和感染因子與人體細胞的相互作用，有望加快新冠肺炎候選藥物篩選工作的進度。
2020-07-24 14:45:07474 知識圖譜和機器學習，這兩個看似不相關的事物，放在一起會發(fā)生什么樣的化學反應？本文將從五個方面，闡述機器學習如何與機器學習相互作用，希望對你有幫助。
2020-07-28 09:10:36782 Mentor的Symphony混合信號仿真平臺看起來將成為設計師工具箱中最有價值的工具之一 混合信號設計是指涉及模擬和數字電路交互相互作用以達到設計目的的設計。驗證這種設計非常棘手，特別是在采用
2021-05-20 16:08:473130 
本發(fā)明的工藝一般涉及到半導體晶片的清洗。更確切地說，本發(fā)明涉及到可能存在于被研磨的單晶硅晶片的表面上的有機殘留物、金屬雜質和其它特定的沾污物的清洗處理步驟的順序。 集成電路制造中所用的半導體晶片
2020-12-29 14:45:211999 的氧化物去除 ， 從而實現對晶片進行清洗的目的。采用這種先氧化再剝離的方法 ，可有效去除附著在晶片表面的雜質及各種沾污物。對于不同的材料 ， 氧化過程以及剝離過程可以在不同的溶液中相互獨立地進行 ; 也可以組合在一起 ， 使用一種混合液同時實現
2021-04-08 14:05:3949 目前，致密油藏的高效開采仍是世界研究的重點及難點，其中CO2壓裂技術受到廣泛重視。為了進一步明確CO2前置壓裂流體之間的相互作用機理，利用室內實驗對地層條件下CO2注入后原油高壓物性（密度、黏度
2021-04-15 15:08:194 在改善鋰離子電池性能的過程中，研究人員大多把精力放在活性物質材料研究與改性上，忽視了導電劑、粘結劑形貌及其與活性物質之間相互作用，以及在電極漿料制備過程中影響漿料分散性的因素。另外，電極材料能夠決定
2021-06-02 10:59:423565 單晶片兆頻超聲波清洗機的聲音分布通過晶片清洗測試、視覺觀察、聲音測量和建模結果來表征。該清潔器由一個水平晶圓旋轉器和一個兆頻超聲波換能器/發(fā)射器組件組成。聲音通過液體彎月面從換能器組件傳輸到水平石英
2021-12-20 15:40:31776 
引言 濕化學蝕刻是制造硅太陽能電池的關鍵工藝步驟。為了蝕刻單晶硅，氫氧化鉀溶液被廣泛使用，因為它們可以形成具有隨機金字塔的表面紋理，從而增強單晶硅晶片的光吸收。對于多晶硅晶片，表面紋理化通常通過
2022-01-13 14:47:19624 
本文討論了稀氫氟酸清洗過程中顆粒沉積在硅片表面的機理。使用原子力顯微鏡的直接表面力測量表明，硅表面上的顆粒再沉積是由于顆粒和晶片表面之間的主要相互作用。表面活性劑的加入可以通過改變顆粒和晶片之間
2022-02-11 14:44:271442 
近年來，隨著集成電路的微細化，半導體制造的清洗方式從被稱為“批量式”的25枚晶片一次清洗的方式逐漸改變?yōu)椤皢螐埵健钡?b class="flag-6" style="color: red">晶片一次清洗的方式。在半導體的制造中，各工序之間進行晶片的清洗，清洗工序
2022-02-22 16:01:08904 
摘要 在許多半導體器件的制造中，硅是最有趣和最有用的半導體材料。在半導體器件制造中，各種加工步驟可分為文章全部詳情：壹叁叁伍捌零陸肆叁叁叁四大類，即沉積、去除、圖形化和電性能的修改。在每一步中，晶片
2022-02-23 17:44:201426 摘要 該公司提供了一種用于清洗半導體晶片的方法和設備 100，該方法和方法包括通過從裝載端口 110 中的盒中取出兩個或多個晶片來填充化學溶液的第一罐將晶片放入。將晶片放入裝滿液體的第一槽(137
2022-02-28 14:56:03927 
摘要 研究了泵送方法對晶片清洗的影響。兩種類型的泵，例如隔膜泵和離心泵，用于在濕浴和單晶片工具中循環(huán)和供應用于晶片清潔的去離子水。清洗研究表明，泵送方法對清洗性能有很大影響。實驗研究表明，在 MLC
2022-03-02 13:56:46521 
摘要 本文介紹了半導體晶片加工中為顆粒去除(清洗)工藝評估而制備的受污染測試晶片老化的實驗研究。比較了兩種晶片制備技術:一種是傳統的濕法技術，其中裸露的硅晶片浸泡在充滿顆粒的溶液中，然后干燥；另一種
2022-03-04 15:03:502588 
在半導體器件的制造過程中，兆聲波已經被廣泛用于從硅晶片上去除污染物顆粒。在這個過程中，平面硅片被浸入水基溶液中，并受到頻率在600千赫-1兆赫范圍內的聲能束的作用。聲波通常沿著平行于晶片/流體界面
2022-03-15 11:28:22460 
本文將詳細探討清洗和紋理的相互作用，在清潔過程中使用的化學類型對平等有著深遠的影響，并在紋理中產生不可預測的影響。 經過線鋸、除膠和切割，最終清理的目的是清除所有泥漿、切削液和線鋸殘留物，通常，這種
2022-03-15 16:25:37320 
本文介紹了新興的全化學晶片清洗技術，研究它們提供更低的水和化學消耗的能力，提供了每種技術的工藝應用、清潔機制、工藝效益和考慮因素、環(huán)境、安全和健康(ESH)效益和考慮因素、技術狀態(tài)和供應商信息的可用信息。
2022-03-16 15:24:57308 
實驗研究了預清洗對KOH/IPA溶液中單晶硅表面紋理化的影響。如果沒有適當的預清洗，表面污染會形成比未污染區(qū)域尺寸小的金字塔，導致晶片表面紋理特征不均勻，晶片表面反射率不均勻。根據供應商的不同，晶片的表面質量和污染水平可能會有所不同，預清洗條件可能需要定制，以達到一致和期望的紋理化結果。
2022-03-17 15:23:08501 NH4OH和H2O2，和/或四甲基氫氧化銨(TMAH)和乙二胺四乙酸(EDTA)的一步清洗溶液對硅表面粗糙度和刻蝕速率的影響。討論了TMAH溶液與硅表面的相互作用機理。此外，還分析了顆粒、有機物和金屬雜質，以評估清潔效率。還評價了用這種新型清洗液清洗后柵氧化層的電特性
2022-03-21 13:39:405472 
在許多半導體器件的制造中，硅是最有趣和最有用的半導體材料。 在半導體器件制造中，各種加工步驟可分為四大類，即沉積、去除、圖形化和電性能的修改。 在每一步中，晶片清洗都是開發(fā)半導體電子器件的首要和基本步驟。 清洗過程是在不改變或損壞晶圓表面或基片的情況下去除化學物質和顆粒雜質。
2022-04-01 14:25:332948 
引言 本文考慮了范德華相互作用的2個數量級范圍，以考慮了實際粒子的形狀和材料，將這些相互作用與靜電電荷、阻力、表面張力、沖擊波、高加速度和氣溶膠粒子所產生的排斥力進行相互比較，可以預測不同清洗
2022-04-08 17:22:531231 
本文考慮了范德華相互作用的2個數量級范圍，以考慮了實際粒子的形狀和材料，將這些相互作用與靜電電荷、阻力、表面張力、沖擊波、高加速度和氣溶膠粒子所產生的排斥力進行相互比較，可以預測不同清洗過程的內在
2022-04-11 16:48:42520 
硅晶片的蝕刻預處理方法包括:對角度聚合的硅晶片進行最終聚合處理，對上述最終聚合的硅晶片進行超聲波清洗后用去離子水沖洗，對上述清洗和沖洗的硅晶片進行SC-1清洗后用去離子水沖洗，對上述清洗和沖洗的硅晶片進行佛山清洗后用去離子水沖洗的步驟，對所有種類的硅晶片進行蝕刻預處理，特別是P(111)。
2022-04-13 13:35:46852 
法與添加臭氧的超純水相結合的新清洗法，與以往的方法相比，具有更好的清洗能力，在抑制自然氧化膜生成的同時，可以在短時間內完全除去晶片表面的有機物。
2022-04-13 15:25:211593 
本文利用CZ、FZ和EPI晶片，研究了濕式化學清洗過程對硅晶片表面微粒度的影響。結果表明，表面微粗糙度影響了氧化物的介電斷裂~特性：隨著硅基底的微粗糙度的增加，氧化物的微電擊穿會降解。利用
2022-04-14 13:57:20459 
本發(fā)明公開了一種用濕式均勻清洗半導體晶片的方法,所公開的本發(fā)明的特點是:具備半導體晶片和含有預定清潔液的清潔組、對齊上述半導體晶片的平坦區(qū)域，使其不與上述清潔組的入口相對、將上述對齊的半導體晶片浸入
2022-04-14 15:13:57604 本文介紹了新型的全化學晶片清洗技術，研究它們是否可以提供更低的水和化學消耗的能力，能否提供每種技術的工藝應用、清潔機制、工藝效益以及考慮因素、環(huán)境、安全、健康(ESH)效益、技術狀態(tài)和供應商信息的可用信息。
2022-04-21 12:28:40258 
本文闡述了金屬雜質和顆粒雜質在硅片表面的粘附機理，并提出了一些清洗方法。
2022-05-11 16:10:274 本文介紹了我們華林科納半導體將空間交替相移(SAPS)兆頻超聲波技術應用于TSV晶片的刻蝕后清洗工藝，SAPS技術通過在兆頻超聲波裝置和晶片之間的間隙中改變兆頻超聲波的相位，在整個晶片的每個點上提供
2022-05-26 15:07:03700 
引言 描述了溢流晶片清洗工藝中的流場。該信息被用于一項倡議，其主要目的是減少晶片清洗中的用水量。使用有限元數值技術計算速度場。大部分的水無助于晶片清洗。 介紹 清洗步驟占工廠中使用的ulaa純水
2022-06-06 17:24:461044 
表面和亞微米深溝槽的清洗在半導體制造中是一個巨大的挑戰(zhàn)。在這項工作中，使用物理數值模擬研究了使用脈動流清洗毯式和圖案化晶片。毯式晶片清洗工藝的初步結果與文獻中的數值和實驗結果吻合良好。毯式和圖案化晶片的初步結果表明，振蕩流清洗比穩(wěn)定流清洗更有效，并且振蕩流的最佳頻率是溝槽尺寸的函數。
2022-06-07 15:51:37291 
解過程的基本原理。本文提出了一個數學模型，它使用了基本的物理機制并提供了一個綜合的過程模擬器。該模型包括流體流動，靜電效應，以及整體和表面的相互作用。該模擬器被應用于研究具有鉿基高k微米和納米結構的圖案化晶片的清洗
2022-06-08 17:28:50865 
本文講述了我們華林科納的一種在單個晶圓清洗工藝中使用新型清洗溶液的方法，該方法涉及在單一晶片模式下使用清洗溶液，并且清洗溶液包括至少包括氫氧化銨（NH-OH）、過氧化氫(HO)、水(HO)和螯合劑
2022-06-30 17:22:112101 
雖然聽起來可能沒有極紫外(EUV)光刻那么性感，但對于確保成功的前沿節(jié)點、先進半導體器件制造，濕法晶片清洗技術可能比EUV更重要，這是因為器件的可靠性和最終產品的產量都與晶片的清潔度直接相關，因為晶片要經過數百個圖案化、蝕刻、沉積和互連工藝步驟。
2022-07-07 16:24:231578 
的實驗和理論分析來建立晶片表面清潔技術。本文解釋了金屬和顆粒雜質在硅片表面的粘附機理，并提出了一些清洗方法。 介紹 LSI(大規(guī)模集成電路)集成密度的增加對硅片質量提出了更高的要求。更高質量的晶片意味著晶體精度、成形質量和
2022-07-11 15:55:451025 
溶液中顆粒和晶片表面之間發(fā)生的基本相互作用是范德華力(分子相互作用)和靜電力(雙電層的相互作用)。近年來，與符合上述兩種作用的溶液中的晶片表面上的顆粒粘附機制相關的研究蓬勃發(fā)展，并為闡明顆粒粘附機制做了大量工作。
2022-07-13 17:18:441491 
南方科技大學顧均等人對目前已報道的串聯CO2RR催化劑中CO傳質行為進行了合理分析和總結。首先，作者討論了生成CO的催化劑與Cu之間的相互作用，包括：①串聯催化劑如何打破線性比例關系；
2022-08-22 10:46:351692 氧化石墨烯（GO）是二維材料中的一顆冉冉升起的新星，但它與液態(tài)水的相互作用仍然是一個懸而未決的問題：難以在原子尺度上進行實驗表征，并且通過經典方法進行建模無法正確描述化學反應性。
2022-08-31 16:00:291024 Weld 回憶道：“Victor 提出的問題是，如果不是單純的無相互作用的量子系統，由于干涉而保持穩(wěn)定，而是有一堆這樣的量子轉子，它們全部可以碰撞和相互作用，會發(fā)生什么？局域化會持續(xù)存在，還是會被相互作用破壞？”
2022-10-27 09:37:24531 我們日常生活中遇到的幾乎所有現象都可以用這兩種相互作用描述，但到了20世紀，我們漸漸遇到了這兩種理論無法解釋的現象——原子核結構與中子衰變。
2022-11-23 11:41:391289 電子發(fā)燒友網站提供《工程微生物相互作用的工具包.zip》資料免費下載
2022-12-13 09:42:370 等離激元是金屬表面電子的集體振蕩，在金屬納米材料中比較常見。研究電子和聲子之間相互作用機制對理解等離激元的能量弛豫至關重要。文獻報道了兩種典型的電子能量弛豫過程。
2023-01-09 14:37:58429 北京工業(yè)大學開發(fā)了一種新的策略來實驗表征W/Cu邊界的連通性和相互作用。通過實驗所得光譜與模擬光譜進行了比較，發(fā)現W/Cu界面的連通性和相互作用具有獨特的特征。因此，W和Cu相的連通性可以被量化
2023-02-10 14:19:47700 概述 在涉及復雜的多物理系統的光學工程中，光及其與不同材料和結構的相互作用的高效和精確建模是一個巨大的挑戰(zhàn)，模擬的使用可以提前對光學產品設計和系統功能的理解，反過來又可以指導產品進行如何的改進和選材
2023-05-16 15:52:23383 
本文介紹了激光在碳化硅（SiC）半導體晶圓制程中的應用，概括講述了激光與碳化硅相互作用的機理，并重點對碳化硅晶圓激光標記、背金激光表切去除、晶粒隱切分片的應用進行了介紹。
2023-05-17 14:39:041222 
超導量子比特與微小的電流一起工作，這些電流以每秒約一百億次的頻率在電路中來回移動。它們使用微波光子（光粒子）相互作用。它們的頻率與手機使用的頻率相似。
2023-05-22 12:52:42258 
21世紀將是光的世紀，光學與微電子學、材料科學、人工智能、生命科學等多學科交叉融合日趨深入。光與物質之間的相互作用已成為許多重要技術的基礎，推動了物質科學的突破與發(fā)展。2023年6月2-4日，閃光
2023-05-30 16:35:26323 
在半導體和太陽能電池制造過程中，清洗晶圓的技術的提升是為了制造高質量產品。目前已經有多種濕法清洗晶圓的技術，如離子水清洗、超聲波清洗、低壓等離子和機械方法。由于濕法工藝一般需要使用含有有害化學物質的酸和堿溶液，會產生大量廢水，因此存在廢物處理成本和環(huán)境監(jiān)管等問題。
2023-06-02 13:33:211021 
光在激光器中是經過以下過程產生的：物質中的電子從激發(fā)態(tài)能級躍遷到較低能級，發(fā)射光子，貢獻于激光 束的產生。因此，光與物質之間的基本相互作用是分析激光器運行和激光特性的基礎。這一節(jié)簡略描述激光 材料
2023-06-12 10:37:54632 
都被磁鐵的吸引力所磁化。磁鐵相互作用當將永磁體置于干簧開關附近時，簧片被磁化后具有磁極性，如圖所示。當外部磁場變得足夠強時，簧片因磁性吸引力閉合。干簧簧片已經過退
2021-05-25 15:08:47790 
磁鐵會釋放磁通線，干簧開關受感應而關閉組件。干簧開關這種相互作用在不消耗任何功率的情況下發(fā)生，且可進行數十億次可靠操作。磁鐵相互作用的基礎干簧開關和磁鐵的相互作用
2021-05-26 10:35:442148 
而產生的一種新型“免清洗”的焊料出現了，而這款有什么作用呢，怎么使用，接下來大家可以了解一下：免清洗型助焊劑是一種不含鹵化物活性劑，焊接后不需要清洗的新型助焊劑。使用這類助焊劑不但能節(jié)約對清洗設備和清洗溶
2021-11-08 14:39:13991 
線性回歸中相互作用項的綜合指南
2023-07-05 16:30:30982 
相較于共價鍵相互作用，分子內非共價相互作用是一種弱的兩個原子之間或者兩個基團之間的非鍵相互作用。
2023-07-31 17:12:43561 
霍爾效應源于帶電粒子在磁場中的運動，它對材料的描述具有深遠的影響，其影響遠遠超出了凝聚態(tài)物質的范圍。了解相互作用系統中的這種效應是一個根本性的挑戰(zhàn)，即使對于小磁場也是如此。
2023-08-01 15:59:31323 
激光加工是利用激光束與材料相互作用的特性對材料進行去除加工 、增材制造 、 材料改性以及微細加工的一門加工技術。
2023-08-08 14:41:161306 
? 背景 盡管我們在宏觀長度尺度上感知地質過程，但地質結構的力學行為可能會受到巖石微觀礦物結構以及接觸礦物表面微觀尺度相互作用的顯著影響。礦物顆粒之間的微觀和納米級空間通常含有流體和水，它們可以反應
2023-08-22 06:26:56135 
中微子是一種非常微小的基本粒子，它幾乎不與其他物質相互作用，所以它可以穿透整個地球而不被阻擋。
2023-08-30 16:02:49497 激光清洗技術是激光技術在工程領域的一種成功應用，其基本原理是利用激光能量密度高的特點，使激光與工件基底上附著的污染物相互作用，以瞬間受熱膨脹、熔化、氣體揮發(fā)等形式與工件基底分離。激光清洗技術具有高效
2023-10-29 08:07:49883 
文本介紹了用光子連接懸浮在真空中的納米粒子，并控制它們之間的相互作用的實驗。這展示了一種在宏觀尺度上實現量子糾纏和量子信息傳輸的可能性。
2024-03-20 11:47:09177
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