標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造工藝可以大致分為兩種工藝。一種是在襯底(晶圓)表面形成電路的工藝,稱為“前端工藝”。另一種是將形成電路的基板切割成小管芯并將它們放入封裝的過程,稱為“后端工藝”或封裝工藝。在半導(dǎo)體制造的傳統(tǒng)封裝工藝中,襯底(晶圓)被研磨到指定的厚度,然后進(jìn)行芯片分離(劃片、切割工藝)。
工藝流程1:各設(shè)備加工(單機(jī))
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例如,如果在晶圓減薄后需要進(jìn)行拋光工藝以去除磨削損傷,則能夠使用砂輪進(jìn)行磨削和干拋光的多重加工設(shè)備降低了晶圓轉(zhuǎn)移過程中晶圓級破損的風(fēng)險。通過顛倒BG膠帶去除和切割膠帶安裝的順序,也可以有效降低總是用膠帶支撐晶片的風(fēng)險。將研磨功能和膠帶安裝/移除功能集成到一個在線系統(tǒng)中,降低了晶圓轉(zhuǎn)移的頻率并降低了晶圓級破損的風(fēng)險。在這些加工方法中,切割是在研磨(拋光)之后進(jìn)行的(與工藝流程 1 相同)。
審核編輯:符乾江
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