如下硅與石墨復(fù)配的負(fù)極材料的背散SEM,圓圈標(biāo)的地方是硅嗎?如果不是還請(qǐng)大佬指點(diǎn)一下,那些位置是硅?
2024-03-12 08:53:37
超聲波清洗四大件:清洗機(jī)、發(fā)生器、換能器、清洗槽在超聲波清洗過(guò)程中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。它們共同協(xié)作,將電能轉(zhuǎn)換為超聲波能,并通過(guò)清洗液的作用,實(shí)現(xiàn)對(duì)物品的高效、環(huán)保清洗。
2024-03-06 10:21:2874 效率和更好的清洗效果。
2. 環(huán)保性:超聲波清洗機(jī)在清洗過(guò)程中無(wú)需使用化學(xué)清洗劑,只需使用清水或少量專用清洗劑即可。這大大降低了清洗過(guò)程對(duì)環(huán)境的污染,符合現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)對(duì)環(huán)保的要求。
3. 適用性
2024-03-04 09:45:59128 超聲清洗是一種高效的清洗技術(shù),廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域,包括工業(yè)制造、醫(yī)療設(shè)備、實(shí)驗(yàn)室和家用清洗。電壓放大器在超聲清洗中扮演著關(guān)鍵的角色,它們用于產(chǎn)生和控制超聲波信號(hào),從而實(shí)現(xiàn)快速而有效的清洗過(guò)程。下面
2024-03-01 16:40:39118 二氧化碳雪清洗作為一種新型的清洗方法,在芯片制造領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。通過(guò)將高壓液態(tài)二氧化碳釋放,得到微米級(jí)固相二氧化碳顆粒,并與高壓氣體混合形成動(dòng)能,可以有效地沖擊晶粒表面,去除微米級(jí)和亞微米
2024-02-27 12:14:4693 為啥nulink 會(huì)在調(diào)試過(guò)程中時(shí)不時(shí)的中斷?是不是要設(shè)置什么?
2024-01-17 06:52:23
PCB表面處理是指在印刷電路板(PCB)制造過(guò)程中,對(duì)PCB表面進(jìn)行處理以改善其性能和外觀。常見(jiàn)的PCB表面處理方法有以下幾種: 熱風(fēng)整平 熱風(fēng)焊料整平 (HASL) 是業(yè)內(nèi)最常用的表面處理方法之一
2024-01-16 17:57:13515 希望MCU在運(yùn)行過(guò)程中,可以調(diào)整它的主頻,比如說(shuō),在30MHz/55MHz/140MHz,這幾個(gè)頻點(diǎn)之間切換。
但不希望重啟或者復(fù)位mcu。
可以實(shí)現(xiàn)嗎?
2024-01-16 07:39:25
高度潔凈的硅片是光伏電池與集成電路生產(chǎn)過(guò)程中的基本要求,其潔凈度直接影響產(chǎn)品的最終性能、效率以及穩(wěn)定性。硅片是由硅棒上切割所得,其表面的多層晶格處于被破壞的狀態(tài),布滿了不飽和的懸掛鍵,而懸掛鍵的活性
2024-01-11 11:29:04348 。在沉銀過(guò)程中,銀離子會(huì)得到電子并被還原,而銅失電子并被氧化,最后銀會(huì)在焊盤表面沉積形成鍍銀層。沉銀板在微電子和半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用廣泛。通常在沉銀板焊盤上印刷上錫膏或?qū)GA球倒裝在板上,沉銀板最后會(huì)被送去回流。錫膏或焊料球會(huì)固化形成焊點(diǎn)。
2024-01-03 09:01:33154 。 激光清洗的原理基于激光的能量能夠被物體表面吸收并轉(zhuǎn)化為熱能,從而將污垢、附著物等迅速加熱并汽化,達(dá)到清洗的目的。在這個(gè)過(guò)程中,激光的能量能夠深入到物體表面的微小部分,因此能夠清洗各種形狀和尺寸的物體。 與傳
2024-01-02 18:33:33302 制造過(guò)程中,清洗是一個(gè)必不可少的環(huán)節(jié)。這是因?yàn)榘雽?dǎo)體材料表面往往存在雜質(zhì)和污染物,這些雜質(zhì)和污染物會(huì)嚴(yán)重影響半導(dǎo)體的性能和可靠性。半導(dǎo)體清洗機(jī)通過(guò)采用先進(jìn)的清洗技術(shù),如超聲波清洗、化學(xué)清洗等,能夠有效地去除半導(dǎo)體表
2023-12-26 13:51:35255 在太陽(yáng)能電池的薄膜沉積工藝中,具有化學(xué)氣相沉積(CVD)與物理氣相沉積(PVD)兩種薄膜沉積方法,電池廠商在沉積工藝中也需要根據(jù)太陽(yáng)能電池的具體問(wèn)題進(jìn)行針對(duì)性選擇,并在完成薄膜沉積工藝后通過(guò)
2023-12-26 08:33:01312 往往有些錫膏容易發(fā)干,一般的錫膏供應(yīng)商都配備了特殊的溶劑——稀釋劑。但對(duì)某些品牌的錫膏而言,本身并沒(méi)有什么大的質(zhì)量問(wèn)題,因此,它們不能提供溶劑供您添加。接下來(lái)由佳金源錫膏廠家來(lái)為大家說(shuō)一下:錫膏干了
2023-12-13 16:37:49538 電機(jī)運(yùn)行過(guò)程中,正轉(zhuǎn)與反轉(zhuǎn)消耗的功率一樣嗎?
2023-12-12 08:03:59
半導(dǎo)體制造業(yè)依賴復(fù)雜而精確的工藝來(lái)制造我們需要的電子元件。其中一個(gè)過(guò)程是晶圓清洗,這個(gè)是去除硅晶圓表面不需要的顆粒或殘留物的過(guò)程,否則可能會(huì)損害產(chǎn)品質(zhì)量或可靠性。RCA清洗技術(shù)能有效去除硅晶圓表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物,是一項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)的晶圓清洗工藝。
2023-12-07 13:19:14235 隨著技術(shù)的不斷變化和器件尺寸的不斷縮小,清潔過(guò)程變得越來(lái)越復(fù)雜。每次清洗不僅要對(duì)晶圓進(jìn)行清洗,所使用的機(jī)器和設(shè)備也必須進(jìn)行清洗。晶圓污染物的范圍包括直徑范圍為0.1至20微米的顆粒、有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物以及雜質(zhì)。
2023-12-06 17:19:58562 激光清洗機(jī) 激光除銹 除油 激光清洗設(shè)備基本介紹 所謂激光清洗技術(shù)是指利用高能激光束照射工件表面,使表面的污物、銹斑或涂層發(fā)生瞬間蒸發(fā)或剝離,高速有效地清除清潔對(duì)象表面附著物或表面涂層
2023-12-06 10:58:54
近日有客戶咨詢?cè)诤附?b class="flag-6" style="color: red">過(guò)程中發(fā)現(xiàn)錫膏太稀怎么辦,今天佳金源錫膏廠家來(lái)為大家簡(jiǎn)單分析一下,如果錫膏太稀,可能會(huì)導(dǎo)致在焊接過(guò)程中無(wú)法獲得良好的焊點(diǎn)質(zhì)量。以下是發(fā)現(xiàn)錫膏太稀怎么辦的幾種可能的臨時(shí)解決方法
2023-11-24 17:31:21199 處的二個(gè)快速熔斷器(RT36-00,GL/80A)燒壞,590的主板上脈沖變壓器的線全部燒黑,可控硅壞了一半。
奇怪的是:為什么590沒(méi)報(bào)警?難道是運(yùn)行過(guò)程中控制電路先損壞再導(dǎo)致主回路損壞的嗎?
2023-11-23 07:21:45
助焊劑是焊接過(guò)程中不可缺少的一種物質(zhì),它的作用是去除焊接部位的氧化物,增加焊點(diǎn)的潤(rùn)濕性,提高焊接質(zhì)量和可靠性。助焊劑分為有機(jī)助焊劑和無(wú)機(jī)助焊劑,根據(jù)是否需要清洗,又可以分為可清洗助焊劑和免洗助焊劑。
2023-11-22 13:05:32383 眾所周知,材料的宏觀性質(zhì),例如硬度、熱和電傳輸以及光學(xué)描述符與其微觀結(jié)構(gòu)特征相關(guān)聯(lián)。通過(guò)改變加工參數(shù),可以改變微結(jié)構(gòu),從而能夠控制這些性質(zhì)。在薄膜沉積的情況下,微結(jié)構(gòu)特征,例如顆粒尺寸和它們的顆粒
2023-11-22 10:20:59213 背景 András Deák博士的研究重點(diǎn)是了解分子如何相互作用并附著在納米顆粒表面背后的物理學(xué)。許多應(yīng)用依賴于以預(yù)定方式附著在納米顆粒表面的引入分子。然而,如果納米顆粒已經(jīng)有分子附著在其表面,則不
2023-11-15 10:33:52174 助焊劑殘余物能用自來(lái)水或溫水(45-650C)容易地清洗掉,離子污染度非常低。助焊劑是專門按特定環(huán)保要求配制而成的,因而清洗過(guò)程中排放水是可被生物遞降分解的。
2023-11-14 15:35:34207 助焊劑活躍,化學(xué)清洗行動(dòng)開(kāi)始,水溶性助焊劑和免洗型助焊劑都會(huì)發(fā)生同樣的清洗行動(dòng),只不過(guò)溫度稍微不同。將金屬氧化物和某些污染從即將結(jié)合的金屬和焊錫顆粒上清除。好的冶金學(xué)上的錫焊點(diǎn)要求“清潔”的表面。
2023-11-03 15:13:06204 高效硅太陽(yáng)能電池的加工在很大程度上取決于高幾何質(zhì)量和較低污染的硅晶片的可用性。在晶圓加工結(jié)束時(shí),有必要去除晶圓表面的潛在污染物,例如有機(jī)物、金屬和顆粒。當(dāng)前的工業(yè)晶圓加工過(guò)程包括兩個(gè)清潔步驟。第一個(gè)
2023-11-01 17:05:58135 nrf24l01傳輸過(guò)程中結(jié)束符有什么作用?
2023-10-23 07:31:57
重要的角色。 在半導(dǎo)體清洗工藝中,PFA管的主要作用是用于傳輸、儲(chǔ)存和排放各種化學(xué)液體。這些化學(xué)液體可能是用于清洗半導(dǎo)體的試劑,也可能是用于腐蝕去除半導(dǎo)體表面的各種薄膜和污垢。在這個(gè)過(guò)程中,PFA管需要承受各種化學(xué)物質(zhì)的侵
2023-10-16 15:34:34258 PCB板子清洗是在制造或組裝完P(guān)CB后對(duì)其進(jìn)行清洗的過(guò)程。那么我們?yōu)槭裁匆M(jìn)行清洗呢?隨著捷多邦小編的步伐一起了解吧~ 清洗的目的是去除PCB表面的污垢、殘留的焊膏、通孔內(nèi)的碎片等,以確保PCB
2023-10-16 10:22:52215 modbus在通信的過(guò)程中如何實(shí)現(xiàn)大數(shù)據(jù)包的傳輸
2023-10-15 12:23:49
freertos運(yùn)行的過(guò)程中,時(shí)鐘基準(zhǔn)能不能由定時(shí)器提供
2023-10-15 07:49:07
STM32的DAC在輸出過(guò)程中怎么實(shí)現(xiàn)負(fù)電壓信號(hào)輸出
2023-10-13 08:05:41
SPI在通信的過(guò)程中如果設(shè)備地址錯(cuò)誤還能正常通信嗎
2023-10-13 06:25:08
步進(jìn)電機(jī)在控制的過(guò)程中怎么防止丟步
2023-10-12 08:07:53
OLED在驅(qū)動(dòng)的過(guò)程中怎么避免燒屏
2023-10-12 08:02:05
SPI通信過(guò)程中,片選信號(hào)可以一直設(shè)置為低電平嗎
2023-10-12 07:54:14
串口在傳輸?shù)?b class="flag-6" style="color: red">過(guò)程中停止位是一個(gè)什么數(shù)據(jù)
2023-10-12 07:23:13
四軸在飛行的控制過(guò)程中可以用什么算法來(lái)控制?姿態(tài)
2023-10-12 07:03:10
串口通信過(guò)程中的回車符是什么兩個(gè)什么字節(jié)
2023-10-12 06:15:38
步進(jìn)電機(jī)在控制的過(guò)程中怎么提高控制的精度
2023-10-12 06:02:50
SPI在通信的過(guò)程中怎么實(shí)現(xiàn)環(huán)形緩沖區(qū)讀取
2023-10-11 08:11:39
modbus在通信的過(guò)程中怎么一次寫入多個(gè)保存寄存器
2023-10-11 08:01:00
HC05在使用的過(guò)程中怎么修改設(shè)備地址
2023-10-11 07:56:45
SPI在通信的過(guò)程中片選信號(hào)除了選中元件還有什么功能
2023-10-11 07:18:05
串口在通信的過(guò)程中怎么對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行校驗(yàn)
2023-10-11 07:13:25
Jlink在下載程序的過(guò)程中怎么實(shí)現(xiàn)插入目標(biāo)板自動(dòng)下載
2023-10-11 06:31:46
直流電機(jī)運(yùn)動(dòng)控制的過(guò)程中怎么實(shí)現(xiàn)高精度的位置控制
2023-10-11 06:23:00
PID在控制的過(guò)程中怎么控制超調(diào)大小
2023-10-10 07:56:49
STM32的IAP升級(jí)過(guò)程中可以使用任意串口嗎
2023-10-10 07:47:31
ST的LL庫(kù)在使用的過(guò)程中需要注意些什么地方
2023-10-09 06:48:58
單片機(jī)python語(yǔ)言程序如何保存運(yùn)算過(guò)程中的小數(shù)位
2023-10-08 06:42:57
,佳金源錫膏廠家來(lái)講解一下:不同大小的錫膏顆粒所呈現(xiàn)的焊接效果差異:1、錫膏抗氧化性不同錫膏顆粒尺寸較大的情況下,顆粒之間的間隙也會(huì)隨之增大,在焊接過(guò)程中,充填間隙的助焊劑
2023-09-20 16:46:04774 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)-概況 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備用于去除晶圓表面的顆粒、污染物和其他雜質(zhì)。清潔后的表面有助于提高半導(dǎo)體器件的產(chǎn)量和性能。市場(chǎng)上有各種類型的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備。一些流行的設(shè)備類型包括
2023-08-22 15:08:001225 缸體超聲波清洗棒采用超聲波清洗,具有清洗速度快、清洗效果好、對(duì)工件無(wú)損傷、降低勞動(dòng)強(qiáng)度、節(jié)約成本等優(yōu)點(diǎn)。缸體超聲波清洗棒對(duì)附著在汽車發(fā)動(dòng)機(jī)缸體表面的機(jī)油、灰塵和顆粒雜質(zhì)通過(guò)超聲波處理從金屬表面分離
2023-08-18 11:48:07445 電路板沾污物的危害:顆粒性污染物——電短路。極性沾污物—介質(zhì)擊穿、漏電、元件/電路腐蝕。非極性沾污—影響外觀、白色粉點(diǎn)、粘附灰塵、電接觸不良。線路板的清洗方式: 普通清洗主要使用單個(gè)清洗槽,需要清洗的PCB放在清洗劑液體里浸泡清洗。
2023-08-17 15:29:371344 表面附著物或表面涂層,從而達(dá)到潔凈的工藝過(guò)程。 手持激光清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn) 1、激光清洗機(jī)是新一代高科技產(chǎn)品,實(shí)現(xiàn)對(duì)產(chǎn)品的非
2023-07-03 10:58:40
清潔對(duì)象表面附著物或表面涂層,從而達(dá)到潔凈的工藝過(guò)程。手持式激光清洗機(jī)可移動(dòng)便攜式工業(yè)激光清洗機(jī)產(chǎn)品特性 1、激光清洗機(jī)是新一代高科技產(chǎn)品,實(shí)現(xiàn)對(duì)產(chǎn)品的
2023-07-03 10:46:30
清潔對(duì)象表面附著物或表面涂層,從而達(dá)到潔凈的工藝過(guò)程。 連續(xù)式激光清洗機(jī)設(shè)備特點(diǎn) 1.非接觸性清洗,無(wú)耗材、無(wú)損傷,使用壽命長(zhǎng)&nb
2023-07-03 10:33:28
和在刻蝕工藝中一樣,半導(dǎo)體制造商在沉積過(guò)程中也會(huì)通過(guò)控制溫度、壓力等不同條件來(lái)把控膜層沉積的質(zhì)量。例如,降低壓強(qiáng),沉積速率就會(huì)放慢,但可以提高垂直方向的沉積質(zhì)量。因?yàn)?,壓?qiáng)低表明設(shè)備內(nèi)反應(yīng)氣體粒子
2023-07-02 11:36:401211 ValSuite報(bào)告改善驗(yàn)證過(guò)程ImproveValidationProcess偏差和記錄會(huì)導(dǎo)致驗(yàn)證過(guò)程延遲,但通過(guò)使用正確的報(bào)告工具,你可以消除障礙,保持審計(jì)準(zhǔn)備和符合FDA的要求。熱驗(yàn)證工藝
2023-06-30 10:08:49574 FPGA開(kāi)發(fā)過(guò)程中,vivado和quartus等開(kāi)發(fā)軟件都會(huì)提供時(shí)序報(bào)告,以方便開(kāi)發(fā)者判斷自己的工程時(shí)序是否滿足時(shí)序要求。
2023-06-26 15:29:05531 檢測(cè)方案已成功應(yīng)用于 low-k 電介質(zhì)沉積應(yīng)用 ( 特別是氮化硅 Si3N4 ), 在減少顆粒污染的同時(shí), 縮短了生產(chǎn)時(shí)間.
2023-06-21 10:03:30238 布線過(guò)程中要注意哪些問(wèn)題,以保證AD采樣的穩(wěn)定性?
2023-06-19 08:31:20
PCB焊盤設(shè)計(jì)缺陷
某些PCB在設(shè)計(jì)過(guò)程中,因空間比較小,過(guò)孔只能打在焊盤上,但焊膏具有流動(dòng)性,可能會(huì)滲入孔內(nèi),導(dǎo)致回流焊接出現(xiàn)焊膏缺失情況,所以當(dāng)引腳吃錫不足時(shí)會(huì)導(dǎo)致虛焊。
2
焊盤表面氧化
被
2023-06-16 11:58:13
原子層沉積(Atomic layer deposition,ALD)是一種可以沉積單分子層薄膜的特殊的化學(xué)氣相沉積技術(shù)。
2023-06-15 16:19:212037 棉簽濕態(tài)發(fā)塵量、擦拭材料、防靜電無(wú)塵布、潔凈室擦拭布、清潔擦拭布、清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測(cè)和分析,目前是英國(guó)普洛
2023-06-08 15:56:10
PMT-2清洗劑液體顆粒計(jì)數(shù)器,采用英國(guó)普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器,雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng),可以對(duì)清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃
2023-06-08 15:50:31
在半導(dǎo)體和太陽(yáng)能電池制造過(guò)程中,清洗晶圓的技術(shù)的提升是為了制造高質(zhì)量產(chǎn)品。目前已經(jīng)有多種濕法清洗晶圓的技術(shù),如離子水清洗、超聲波清洗、低壓等離子和機(jī)械方法。由于濕法工藝一般需要使用含有有害化學(xué)物質(zhì)的酸和堿溶液,會(huì)產(chǎn)生大量廢水,因此存在廢物處理成本和環(huán)境監(jiān)管等問(wèn)題。
2023-06-02 13:33:211020 PVD篇 PVD是通過(guò)濺射或蒸發(fā)靶材材料來(lái)產(chǎn)生金屬蒸汽,然后將金屬蒸汽冷凝在晶圓表面上的過(guò)程。應(yīng)用材料公司在 PVD 技術(shù)開(kāi)發(fā)方面擁有 25 年以上的豐富經(jīng)驗(yàn),是這一領(lǐng)域無(wú)可爭(zhēng)議的市場(chǎng)領(lǐng)導(dǎo)者
2023-05-26 16:36:511749 上海伯東代理美國(guó) KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進(jìn)行預(yù)清潔 Pre-clean 的工藝, 對(duì)基材表面有機(jī)物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應(yīng)力, 工藝效率等!
2023-05-25 10:10:31378 印刷電路板的清洗作為一項(xiàng)增值的工藝流程,印制板清洗后可以去除產(chǎn)品在各道加工過(guò)程中表面污染物的沉積,而且能夠降低產(chǎn)品可靠性在表面上污染物質(zhì)等方面的安全風(fēng)險(xiǎn)。因此,現(xiàn)如今電路板生產(chǎn)中大部分都運(yùn)用了清洗
2023-05-25 09:35:01879 在鋰電池產(chǎn)業(yè)相關(guān)研究方面,劉思達(dá)教授表示,將準(zhǔn)確的充電模型應(yīng)用于氣力輸送過(guò)程,能夠幫助設(shè)計(jì)和優(yōu)化輸送管道和操作條件,深化對(duì)氣力輸送過(guò)程中鋰顆粒摩擦起電行為的理解。
2023-05-24 14:27:43684 工業(yè)PCBA清洗設(shè)備是一種專門用于清洗印刷電路板組裝(PCBA)的設(shè)備。在電子制造過(guò)程中,PCBA需要接受大量的焊接工藝,而這些焊接工藝可能會(huì)使得PCBA表面殘留有化學(xué)物質(zhì)或者金屬粉塵等污染物
2023-05-22 11:45:16438 晶圓清洗工藝的目的是在不改變或損壞晶圓表面或基板的情況下去除化學(xué)雜質(zhì)和顆粒雜質(zhì)。晶圓表面必須保持不受影響,這樣粗糙、腐蝕或點(diǎn)蝕會(huì)抵消晶圓清潔過(guò)程的結(jié)果
2023-05-11 22:03:03783 你如何讓程序在執(zhí)行過(guò)程中暫停,就像Arduino 中的
通過(guò) Basic 中的 delay 函數(shù):
delay:
會(huì)等待一定的毫秒數(shù)再繼續(xù)執(zhí)行。
用于制作 LED 閃爍
延遲 {Var 或 value}
Luc
2023-05-10 07:22:21
激光清洗不僅可用于清洗有機(jī)污染物質(zhì),還可以用來(lái)清洗無(wú)機(jī)化合物。激光清洗的原理是利用激光束的高能量密度,使污垢或涂層等物質(zhì)發(fā)生蒸發(fā)或剝離,從而清洗表面。這個(gè)過(guò)程并不依賴于物質(zhì)的化學(xué)性質(zhì),因此激光清洗
2023-05-08 17:11:07571 激光清洗設(shè)備是一種利用激光束對(duì)表面進(jìn)行清洗的設(shè)備。它可以通過(guò)高能量密度的激光束將表面的污垢、油漬、涂層等物質(zhì)蒸發(fā)或剝離,從而實(shí)現(xiàn)對(duì)表面的清潔。相比傳統(tǒng)的清洗方法,激光清洗設(shè)備具有高效、無(wú)損、環(huán)保
2023-05-08 17:10:07678 激光清洗機(jī)是利用高頻率高能激光單脈沖直射工件表面,涂敷層能夠一瞬間消化吸收對(duì)焦的激光能量,使表面的油漬、銹跡或鍍層產(chǎn)生一瞬間揮發(fā)或脫離,快速高效地消除表面附屬物或表面涂層清理方法,而時(shí)間不長(zhǎng)的激光
2023-05-08 17:08:46422 蒸發(fā)冷凝器是以水和空氣作為冷卻劑,它主要利用部分水的蒸發(fā)帶走工藝介質(zhì)冷凝過(guò)程放出熱量。蒸發(fā)式冷凝器的冷卻水系統(tǒng)在長(zhǎng)時(shí)間使用之后,水蒸發(fā),造成水中的雜質(zhì)含量濃度升高,微生物的繁殖等,會(huì)造成冷卻盤管表面
2023-05-05 15:40:50950 在當(dāng)今的器件中,最小結(jié)構(gòu)的尺寸接近于需要從晶片表面移除的粒子的尺寸。在不破壞脆弱設(shè)備的情況下,在工藝步驟之間去除納米顆粒的清洗過(guò)程的重要性正在不斷增長(zhǎng)。兆波清洗可用于單晶片或批量晶片處理。
2023-05-02 16:32:11865 作為目前主流的貼片生產(chǎn)工藝,SMT焊接是生產(chǎn)過(guò)程中最重要的材料選擇。一種合適的焊膏可以提高產(chǎn)品質(zhì)量,減少損壞,降低生產(chǎn)成本。今天佳金源錫膏廠家就帶大家了解一下如何在SMT生產(chǎn)過(guò)程中選擇焊膏。如何選擇
2023-04-27 17:33:20358 ALD技術(shù)是一種將物質(zhì)以單原子膜的形式逐層鍍?cè)诨?b class="flag-6" style="color: red">表面的方法,能夠?qū)崿F(xiàn)納米量級(jí)超薄膜的沉積。
2023-04-25 16:01:052439 和金。該過(guò)程主要包括:銅活化,ENP(化學(xué)鍍鎳)和浸金。
?銅活化
銅活化是在ENP中進(jìn)行選擇性沉積的特權(quán)。需要置換反應(yīng),以便可以在充當(dāng)催化表面的銅層上生成鈀的薄層。在PCB制造過(guò)程中
2023-04-24 16:07:02
的表面上采用HASL實(shí)施,其外部銅箔由錫鉛保護(hù)。然而,隨著無(wú)鉛工藝的發(fā)展,銅或銀的材料被用于PCB的制造,焊接和電鍍。一旦在焊接過(guò)程中潤(rùn)濕不達(dá)標(biāo),某些銅或銀將暴露在空氣中,并且當(dāng)環(huán)境由于潮濕的影響而變壞
2023-04-21 16:03:02
在一起。徹底清潔后,面板將進(jìn)行一系列化學(xué)浴。在熔池中,化學(xué)沉積過(guò)程會(huì)在面板表面上沉積一薄層銅(約1um厚)。銅進(jìn)入最近鉆出的孔中?! ≡谠摬襟E之前,孔的內(nèi)表面僅暴露構(gòu)成面板內(nèi)部的玻璃纖維材料。銅槽完全覆蓋
2023-04-21 15:55:18
稀釋率的概念稀釋率是指在激光熔覆中,由于熔化基材的混入而引起的熔覆合金成分的變化程度,用基材合金占總?cè)鄹矊拥陌俜致时硎荆ǚ?hào)η)。H:熔覆層高度,h:基材熔深,W:熔覆層寬度,η=A2/(A1+A2
2023-04-20 09:38:241068 書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章:HQ2和HF溶液循環(huán)處理 編號(hào):JFKJ-21-213 作者:炬豐科技 摘要 采用原子顯微鏡研究了濕法化學(xué)處理過(guò)程中的表面形貌。在SC-1清洗過(guò)程中,硅表面
2023-04-19 10:01:00129 在厚銅PCB加工過(guò)程中,可能會(huì)出現(xiàn)開(kāi)路或短路的問(wèn)題,導(dǎo)致電路板無(wú)法正常工作,如何解決厚銅PCB加工過(guò)程中的開(kāi)路或短路問(wèn)題?
2023-04-11 14:33:10
半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)預(yù)計(jì)將達(dá)到129\.1億美元。到 2029 年。晶圓清洗是在不影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的情況下去除顆粒或污染物的過(guò)程。器件表面晶圓上的污染物和顆粒雜質(zhì)對(duì)器件的性能和可靠性有重大影響。本報(bào)告側(cè)重于半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)的不同部分(產(chǎn)品、晶圓尺寸、技術(shù)、操作模式、應(yīng)用和區(qū)域)。
2023-04-03 09:47:511643 清洗過(guò)程在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,在技術(shù)上和經(jīng)濟(jì)上都起著重要的作用。超薄晶片表面必須實(shí)現(xiàn)無(wú)顆粒、無(wú)金屬雜質(zhì)、無(wú)有機(jī)、無(wú)水分、無(wú)天然氧化物、無(wú)表面微粗糙度、無(wú)充電、無(wú)氫。硅片表面的主要容器可分為顆粒、金屬雜質(zhì)和有機(jī)物三類。
2023-03-31 10:56:19314 在整個(gè)晶圓加工過(guò)程中,仔細(xì)維護(hù)清潔的晶圓表面對(duì)于在半導(dǎo)體器件制造中獲得高產(chǎn)量至關(guān)重要。因此,濕式化學(xué)清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中應(yīng)用最重復(fù)的處理步驟。
2023-03-30 10:00:091940
評(píng)論
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