若要說2018以及未來五年最受矚目的半導(dǎo)體制程技術(shù),除了即將量產(chǎn)的7奈米FinFET尖端制程,以及預(yù)計將全面導(dǎo)入極紫外光(EUV)微影技術(shù)的5奈米制程節(jié)點,各家晶圓代工業(yè)者著眼于應(yīng)用廣泛、無所不包的物聯(lián)網(wǎng)(IoT) 市場對低功耗、低成本組件需求而推出的各種中低階制程技術(shù)選項,也是產(chǎn)業(yè)界的關(guān)注焦點。
例如晶圓代工龍頭臺積電(TSMC)的16與12奈米FFC (FinFET Compact Technology)、22奈米超低功耗(ULP)、28奈米HPC/HPC+,以及40奈米ULP、55奈米ULP與低功耗(LP) 等邏輯制程,還有英特爾(Intel)的22奈米低功耗FinFET (22FFL)制程、GlobalFoundries的28奈米HPP (High Performance Plus)/SLP (Super Low Power)、 22FDX制程,以及三星電子(Samsung)的28奈米FDSOI、LPP、LPH... 等等,都是適合廣泛物聯(lián)網(wǎng)應(yīng)用市場需求特性的解決方案。
其中GlobalFoundries的FDX系列制程與Samsung的FD-SOI制程,與其他競爭方案之間的最大差異,就在于采用了無論是英文或中文讀來都十分拗口的「全空乏絕緣上覆硅」(Fully Depleted Silicon On Insulator,F(xiàn)D-SOI)技術(shù);該技術(shù)早在2011年就由SOI產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟(SOI Industry Consortium)、意法半導(dǎo)體(ST)以及其研發(fā)伙伴IBM、GlobalFoundries、 三星等率先在業(yè)界推廣,號稱在28奈米與20 (22)奈米節(jié)點能達到由英特爾、臺積電等支持的新一代FinFET制程相當?shù)男阅?,但成本與風(fēng)險更低。
FD-SOI技術(shù)優(yōu)勢何在?
不同于FinFET制程采用的3D晶體管結(jié)構(gòu),F(xiàn)D-SOI為平面制程;根據(jù)ST官網(wǎng)上的技術(shù)數(shù)據(jù),F(xiàn)D-SOI有兩大主要創(chuàng)新:首先是采用了埋入氧化物(buried oxide,BOX)超薄絕緣層,放置于硅基板之上 ;接著將超薄的硅薄膜布署于晶體管信道,因為其超薄厚度,信道不需要摻雜(dope),使晶體管能達到完全空乏。 以上兩種創(chuàng)新技術(shù)的結(jié)合全名為「超薄基體埋入氧化層全空乏絕緣上覆硅」(ultra-thin body and buried oxide FD-SOI,UTBB-FD-SOI)。
ST表示,與傳統(tǒng)的塊狀硅技術(shù)相較,F(xiàn)D-SOI能提供更好的晶體管靜電特性,而埋入氧化層能降低源極(source)與汲極(drain)之間的寄生電容;此外該技術(shù)能有效限制源極與汲極之間的電子流動, 大幅降低影響組件性能的泄漏電流(圖1)。 除了透過閘極,F(xiàn)D-SOI也能藉由極化(polarizing)組件底層基板來控制晶體管行為,類似于塊狀硅技術(shù)亦可實現(xiàn)的基體偏壓(body bias)。
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圖1:塊狀硅制程與FD-SOI制程晶體管結(jié)構(gòu)比較
不過塊狀硅技術(shù)的基體偏壓非常有限,因為寄生漏電流以及晶體管幾何尺寸縮減之后晶體管效率降低;而FD-SOI因為晶體管結(jié)構(gòu)以及超薄絕緣層,偏壓效率會更好。 此外,埋入氧化層也能實現(xiàn)更高的基體偏壓,達到對晶體管突破性的動態(tài)控制──當基板的極化為正向,也就是順向基體偏壓(FBB),晶體管切換速度能加快,并因此能優(yōu)化組件性能與功耗。
根據(jù)ST的說法,F(xiàn)D-SOI能輕易實現(xiàn)FBB并在晶體管運作期間進行動態(tài)調(diào)節(jié),為設(shè)計工程師提供高度彈性,特別是對省電性能與速度有高度要求、性能并非關(guān)鍵的組件,因此是物聯(lián)網(wǎng)或可攜式/穿戴式消費性電子裝置應(yīng)用的理想解決方案。
市場研究機構(gòu)International Business Strategies (IBS)執(zhí)行長Handel Jones在2014年發(fā)表的一份報告中寫道:「同樣是100mm見方大小的芯片, 采用28奈米FD-SOI制程的成本比塊狀CMOS制程低3%,在20奈米節(jié)點則可以進一步低30%;這是因為帶來更高參數(shù)良率的同時,晶圓成本也更低;」此外FD-SOI制程裸晶的復(fù)雜度與塊狀CMOS制程比較,低了10%~12%。
Jones進一步表示:「更小的裸晶面積與更高的參數(shù)良率之結(jié)合,F(xiàn)D-SOI制程在20奈米節(jié)點的產(chǎn)品成本優(yōu)勢會比塊狀CMOS制程多20%;在28奈米節(jié)點,F(xiàn)D-SOI的性能則比20奈米塊狀CMOS高出15%。 」他并指出:「FD-SOI制程在高/低Vdd方面能提供比塊狀CMOS制程更高的能源效率等級(energy efficiency levels);FD-SOI在位單元(bit cells)上的電源效率也高出塊狀CMOS, 這是因為較低的泄漏電流以及對α粒子更好的免疫力。 」
FD-SOI制程:西方冷、東方熱
不過盡管FD-SOI號稱有上述諸多優(yōu)勢,對于該制程的生產(chǎn)良率、專用晶圓片價格與供應(yīng)來源穩(wěn)定性,還有大量生產(chǎn)確切時程、整體技術(shù)支持生態(tài)系統(tǒng)完整性,產(chǎn)業(yè)界仍有諸多疑慮;因此雖然FD-SOI在歐洲有ST、恩智浦(NXP) 等支持者,三星、GlobalFoundries等也分別積極推廣自家FD-SOI代工業(yè)務(wù),該技術(shù)在市場的討論熱度與能見度一直偏低,特別是在西方。
時間來到2017年2月,GlobalFoundries宣布投資100億美元在中國大陸成都高新西區(qū)建立12吋晶圓廠(圖2),2018年開始營運的第一期生產(chǎn)線會是轉(zhuǎn)移自該公司新加坡廠之為較成熟的180/130奈米制程, 第二期為轉(zhuǎn)移自其德國德勒斯登(Dresden)廠的22FDX FD-SOI制程生產(chǎn)線,預(yù)計2019年開始營運;此訊息在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)界引起廣大回響,除了再次昭示了中國發(fā)展本土半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的企圖心,也代表FD-SOI制程的「 主戰(zhàn)線」將在中國點燃。
圖2:Globalfoundries在中國成都興建12吋廠Fab 11,預(yù)計2019年量產(chǎn)的第二階段生產(chǎn)線為22FDX FD-SOI制程
中國早在2015年就對FD-SOI技術(shù)表達了高度興趣;當時中國大陸IC設(shè)計服務(wù)業(yè)者芯原(VeriSilicon)執(zhí)行長戴偉民(Wayne Dai)在接受EE Times記者訪問時即表示, 與其不斷地在FinFET制程方面追趕臺積電或英特爾的腳步,他認為中國應(yīng)該投資FD-SOI,并以該技術(shù)做為低功耗制程的替代方案。 此外上海新傲科技(Simgui)于2015年秋天開始量產(chǎn)首批8吋SOI晶圓片,采用與該公司策略伙伴、法國業(yè)者Soitec的Smart Cut制程技術(shù)。
還有一個由中國「大基金」成立的投資平臺,上海硅產(chǎn)業(yè)投資有限公司(National Silicon Industry Group,NSIG)在2016年宣布收購14.5%的Soitec股權(quán);晶圓代工業(yè)者上海華力微電子( Shanghai Huali Microelectronics Corp.) 在GlobalFoundries宣布成都廠投資計劃前,也透露了投資FD-SOI生產(chǎn)線的計劃,但并沒有具體時間表。 這些跡象在在顯示FD-SOI將會是中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展藍圖的一部分,并可能讓這個迄今在西方世界市場稍嫌受到冷遇的技術(shù),在東方市場發(fā)光發(fā)熱。
根據(jù)Globalfoundries產(chǎn)品管理資深副總裁Alain Mutricy在2017年5月接受EE Times采訪時的說法,該公司在成都投資設(shè)廠只是第一步,接下來還將在當?shù)亟D-SOI生態(tài)系統(tǒng), 幫助中國無晶圓廠IC設(shè)計業(yè)者以及設(shè)計服務(wù)業(yè)者更容易取得所需的IP與工具。
物聯(lián)網(wǎng)制程戰(zhàn)火即將引爆
2017年9月底,在SOI產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟主辦的第五屆上海FD-SOI論壇上,發(fā)表專題演說的GlobalFoundries執(zhí)行長Sanjay Jha再次大力宣傳FD-SOI制程,并以22奈米──采用單次光罩最小節(jié)點,也是適合物聯(lián)網(wǎng) 、便攜設(shè)備等對成本/功耗敏感應(yīng)用,預(yù)期將會是市場上的「長壽」節(jié)點──為基準,將該公司的22FDX制程以及英特爾22FFL制程、臺積電22ULP制程的性能比較(圖3)。
圖3:GlobalFoundries、臺積電與英特爾的22奈米制程性能比較
Jha在專題演說后接受EE Times China訪問時表示:「從成本上面來說,22奈米FinFET如果采用平面技術(shù),制程步驟會多一些,制程控制的復(fù)雜度很高。 對于FDX,底層的基板成本可能會高一點。 確實很難模擬各自成本的結(jié)構(gòu),但是考慮到我們在中國晶圓廠的建設(shè)投資以及規(guī)模產(chǎn)生的成本效應(yīng),從生產(chǎn)的成本來說,相較于英特爾的技術(shù),可能略有優(yōu)勢。 」
在同一場論壇上,IBS執(zhí)行長Jones也進一步提出了FD-SOI制程的閘極成本(cost per gate)分析(圖4),他指出,28奈米FD-SOI制程與28奈米高介電金屬閘極(HKMG)塊狀CMOS的閘極成本相當, 22奈米FD-SOI的閘極成本也仍具競爭力;而到了下一代的12奈米FD-SOI,因為所需光罩層數(shù)較少,閘極成本會比16奈米FinFET制程低22.4%,比10奈米FinFET低23.4%,比7奈米FinFET低27%, 而FD-SOI的低耗電表現(xiàn)當然也優(yōu)于FinFET。
圖4:FD-SOI與FinFET制程閘極成本比較
此外Jones也提出了各制程節(jié)點的軟硬件設(shè)計成本比較(圖5),估計12奈米FD-SOI的設(shè)計成本在5,000至5,500萬美元之間,而16奈米FinFET設(shè)計成本在7,200萬美元左右, 10奈米FinFET設(shè)計成本在1.31億美元左右;因為設(shè)計成果的營收需要是成本的10倍,所以12奈米FD-SOI的潛在市場規(guī)模(TAM)會比16奈米與10奈米FinFET更大。
圖5:各制程節(jié)點設(shè)計成本比較
綜合FD-SOI低功耗、易于整合RF等特性與成本上的優(yōu)勢,GlobalFoundries將行動裝置、物聯(lián)網(wǎng)、無線通信(5G/LTE/Wi-Fi),以及汽車(ADAS/車用通訊)視為該制程的熱門應(yīng)用;Jones則認為, 現(xiàn)有28奈米制程組件中,有九成都適合轉(zhuǎn)向FD-SOI制程,其TAM規(guī)模在2018年估計達到171億美元(圖6),到2025年甚至可達184億美元,眾家FD-SOI技術(shù)供貨商能實際取得多少營收得各憑本事, 而鎖定物聯(lián)網(wǎng)市場商機的制程大戰(zhàn)已經(jīng)煙硝四起。
圖6:22奈米FD-SOI制程潛在市場規(guī)模預(yù)測
中國IC廠商躍躍欲試,***廠商呢?
根據(jù)GlobalFoundries在第五屆上海FD-SOI論壇提供的統(tǒng)計數(shù)字,該公司的22FDX制程已經(jīng)獲得了總計135家客戶的青睞,其中有20家客戶會在2017年底之前進入多項目晶圓(MPW)試產(chǎn)、 這之中又有15家會在2018年底正式投片,而進入測試設(shè)計/投片階段的這些客戶中,包括10家來自中國的廠商。
GlobalFoundries于2017年2月宣布于成都興建投資額達百億美元的12吋新廠之后,又于同年5月與成都市政府共同宣布,雙方將合作以6年時間建立一個累計投資規(guī)模超過1億美元的「 世界級的FD-SOI生態(tài)系統(tǒng)」,涵蓋多個位于成都的研發(fā)中心以及與大學(xué)院校合作的研究項目,目的是能吸引更多頂尖半導(dǎo)體業(yè)者落戶成都,并使成都「成為下一代芯片設(shè)計的卓越中心」。
將加入成都FD-SOI生態(tài)系統(tǒng)的公司包括EDA供貨商Cadence、Synopsys,設(shè)計服務(wù)業(yè)者芯原、Invecas,還有芯片設(shè)計業(yè)者聯(lián)發(fā)科(MediaTek)、瑞芯微(RockChip)、上海復(fù)旦微電子( Shanghai Fudan Microelectronics Group Company)等等;芯原的戴偉民在接受EE Times訪問時表示,要從成都FD-SOI生態(tài)系統(tǒng)投資中獲得研發(fā)經(jīng)費,「每一家公司都必須在成都部署研發(fā)團隊。 」
戴偉民指出,F(xiàn)D-SOI的支持者已經(jīng)在中國打好基礎(chǔ),藉由像是上海FD-SOI論壇這樣的活動,持續(xù)向中國本地的芯片業(yè)者與IC設(shè)計工程師、政府官員、私人投資基金等大力宣傳;而他認為,要壯大中國的FD-SOI生態(tài)系統(tǒng)有幾個要點 ,包括:使用FD-SOI實現(xiàn)混合訊號和RF設(shè)計的可行性、設(shè)計服務(wù)業(yè)者(如芯原)的支持、實現(xiàn)基體偏壓設(shè)計流程和工具,還有設(shè)計教學(xué)、研討會、大學(xué)課程、實驗室和教科書,以及政府的支持。
中國IC業(yè)者對FD-SOI技術(shù)躍躍欲試,當?shù)氐漠a(chǎn)業(yè)生態(tài)系統(tǒng)逐漸成形;以全球來看,GlobalFoundries則表示其FD-SOI制程生態(tài)系統(tǒng)FDXcelerator的合作伙伴截至2017年9月已經(jīng)達到33家(圖7), 涵蓋半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上下游業(yè)者。 盡管占據(jù)十分少數(shù),***業(yè)者也在其中,包括封測大廠日月光(ASE)、嵌入式內(nèi)存IP供貨商力旺電子(eMemory),以及處理器IP供貨商晶心科技(Andes)。
圖7:GlobalFoundries積極為FD-SOI制程建立產(chǎn)業(yè)生態(tài)系統(tǒng)
晶心科技總經(jīng)理林志明接受EE Times采訪時表示,該公司是在2015年與GlobalFoundries的長期伙伴、美國IC設(shè)計服務(wù)業(yè)者Invecas合作,將其32位N7處理器核心導(dǎo)入采用FD-SOI制程的參考設(shè)計, 后來也獲得了GlobalFoundries的22FDX制程驗證。
他指出,晶心的處理器核心開發(fā)原本就是以低功耗、高效率為訴求,其N7、N8與N9等系列都已經(jīng)在物聯(lián)網(wǎng)與可攜式消費性電子市場獲得采用,進駐包括智能手表、智能語音助理、游戲機以及隨身卡拉OK麥克風(fēng)等等裝置, 目標市場與FD-SOI技術(shù)的方向一致,以此制程選項搭配晶心的IP,可望為客戶的設(shè)計帶來更佳的省電效能。
圖8:晶心科技總經(jīng)理林志明:FD-SOI制程的終端目標市場正好與我們的產(chǎn)品線非常一致
***的半導(dǎo)體IP供貨商并未在FD-SOI生態(tài)系統(tǒng)中缺席,但***IC設(shè)計業(yè)者何時會跟進? 除了已經(jīng)準備加入成都FD-SOI生態(tài)系統(tǒng)的聯(lián)發(fā)科技,***本地業(yè)者對此技術(shù)的態(tài)度與西方市場一樣偏冷;如半導(dǎo)體測試實驗室宜特科技(iST)表示,據(jù)了解正在嘗試FD-SOI設(shè)計的***IC業(yè)者仍在少數(shù), 預(yù)期對該制程的接受速度會比中國大陸業(yè)者緩慢得多。
結(jié)語
***的市場研究機構(gòu)集邦科技(TrendForce)旗下拓墣產(chǎn)業(yè)研究所半導(dǎo)體研究中心分析師黃志宇表示,目前全球FD-SOI產(chǎn)能的統(tǒng)計數(shù)字不易取得,僅能大略估計該制程占據(jù)2017年全球晶圓代工銷售的比例為0.2%左右 ;他并指出,中國大陸積極建立FD-SOI產(chǎn)業(yè)鏈,引進晶圓片制造商Soitec、晶圓代工業(yè)者GlobalFoundries,對***晶圓代工業(yè)者的28奈米制程競爭力可能會帶來沖擊。
不過黃志宇也指出,觀察中國FD-SOI產(chǎn)能開出的時間點亦相當重要,必須同時考慮市場上既有晶圓代工業(yè)者的28奈米制程的折舊情形以及FD-SOI的實際產(chǎn)能規(guī)模:「當FD-SOI制程產(chǎn)能規(guī)模小、成本就相對變高, 而若晶圓代工業(yè)者折舊情形良好、將可提供更優(yōu)惠的28奈米制程價格,如此在以成本導(dǎo)向的終端產(chǎn)品競爭上,F(xiàn)D-SOI就未必有利。 」
28奈米制程可說是***晶圓代工雙雄聯(lián)電(UMC)、臺積電的「搖錢樹」,其中臺積電在2017年的28奈米晶圓片出貨量創(chuàng)下了18萬片的新高紀錄,該節(jié)點營收在臺積電2017年第三季仍然是占據(jù)當季整體營收最高比例、達到27%, 高于先進的16/20奈米節(jié)點;聯(lián)電則在第三季看到28奈米HKMG的市場需求趨緩。
來勢洶洶的FD-SOI制程將會對現(xiàn)有28奈米晶圓代工市場帶來什么樣的影響? 中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是否將因為FD-SOI技術(shù)的發(fā)展而改寫歷史? 臺積電即將開出的22奈米新制程又是否能取得市場動力? 為物聯(lián)網(wǎng)市場商機,聯(lián)電在28奈米制程之后又將祭出甚么新「武器」? 2018年半導(dǎo)體市場的發(fā)展局勢值得陸續(xù)觀察!
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