OS管相比于三極管,開關(guān)速度快,導(dǎo)通電壓低,電壓驅(qū)動簡單,所以越來越受工程師的喜歡,然而,若不當(dāng)設(shè)計,哪怕是小功率MOS管,也會導(dǎo)致芯片燒壞,原本想著更簡單的,最后變得更加復(fù)雜。
NMOS 管開關(guān)等效電路
PMOS 管開關(guān)等效電路
MOS管等效電路及應(yīng)用電路如下圖所示:
把MOS管的微觀模型疊加起來,就如下圖所示:
我們知道,MOS管的輸入與輸出是相位相反,恰好180度,也就是等效于一個反相器,也可以理解為一個反相工作的運放,如下圖:
有了以上模型,就好辦了,尤其從運放這張圖中,可以一眼看出,這就是一個反相積分電路,當(dāng)輸入電阻較大時,開關(guān)速度比較緩慢,Cgd這顆積分電容影響不明顯,但是當(dāng)開關(guān)速度比較高,而且VDD供電電壓比較高,比如310V下,通過Cgd的電流比較大,強的積分很容易引起振蕩,這個振蕩叫米勒振蕩。所以Cgd也叫米勒電容,而在MOS管開關(guān)導(dǎo)通或者關(guān)斷的那段時間,也就是積分那段時間,叫米勒平臺,如下圖圓圈中的那部分為米勒平臺,右邊的是振蕩嚴(yán)重的米勒振蕩:
因為MOS管的反饋引入了電容,當(dāng)這個電容足夠大,并且前段信號變化快,后端供電電壓高,三者結(jié)合起來,就會引起積分過充振蕩,這個等價于溫控的PID中的I模型,要想解決解決這個米勒振蕩,在頻率和電壓不變的情況下,一般可以提高MOS管的驅(qū)動電阻,減緩開關(guān)的邊沿速度,其次比較有效的方式是增加Cgs電容。在條件允許的情況下,可以在Cds之間并上低內(nèi)阻抗沖擊的小電容,或者用RC電路來做吸收電路。
下圖給出我常用的三顆大功率MOS管的電容值:LCR電橋直接測量
從圖上可以看出,Inifineon6代MOS管和APT7代MOS管性能遠(yuǎn)遠(yuǎn)不如碳化硅性能,它的各個指標(biāo)都很小,當(dāng)米勒振蕩通過其他手段無法降低時,可以考慮更換更小的米勒電容MOS管,尤其需要重視Cgd要盡可能的小于Cgs。
MOS管高頻小信號等效電路
在高頻應(yīng)用時,MOS管的分布電容就不能疏忽,即在考慮高頻溝通小信號作業(yè)時有必要考慮MOS管的分布電容對電路功能的影響,所以MOS管的高頻小信號等效電路能夠在其低頻小信號等效電路的基礎(chǔ)上參加MOS管的極間電容完成,如圖1.17所示。
因為在不同作業(yè)狀況(截止、飽滿、線性)時MOS管的分布電容值不同,因而若進行詳細(xì)的核算比較困難,但能夠經(jīng)過軟件模仿進行剖析。
另外,在高頻電路中有必要注意其作業(yè)頻率受MOS管的最高作業(yè)頻率的約束(即電路的工作頻率,如高于MOS管的最高作業(yè)頻率時,電路不能正常工作)。
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