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硬核科普:一堆沙子究竟是怎樣變成一顆性能強(qiáng)勁的Intel處理器

kus1_iawbs2016 ? 來源:楊湘祁 ? 作者:電子發(fā)燒友 ? 2019-02-27 14:32 ? 次閱讀

沙子:硅是地殼內(nèi)第二豐富的元素,而脫氧后的沙子(尤其是石英)最多包含25%的硅元素,以二氧化硅(SiO2)的形式存在,這也是半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)。

硅熔煉:12英寸/300毫米晶圓級,下同。通過多步凈化得到可用于半導(dǎo)體制造質(zhì)量的硅,學(xué)名電子級硅(EGS),平均每一百萬個(gè)硅原子中最多只有一個(gè)雜質(zhì)原子。此圖展示了是如何通過硅凈化熔煉得到大晶體的,最后得到的就是硅錠(Ingot)。

單晶硅錠:整體基本呈圓柱形,重約100千克,硅純度 99.9999%。

硅錠切割:橫向切割成圓形的單個(gè)硅片,也就是我們常說的晶圓 (Wafer)。順便說,這下知道為什么晶圓都是圓形的了吧?

晶圓:切割出的晶圓經(jīng)過拋光后變得幾乎完美無瑕,表面甚至可以當(dāng)鏡子。事實(shí)上, Intel自己并不生產(chǎn)這種晶圓,而是從第三方半導(dǎo)體企業(yè)那里直接購買成品,然后利用自己的生產(chǎn)線進(jìn)一步加工,比如現(xiàn)在主流的45nm HKMG(高K金屬柵極)。值得一提的是,InteI公司創(chuàng)立之初使用的晶圓尺寸只有2英寸/50毫米

光刻膠(Photo Resist):圖中藍(lán)色部分就是在晶圓旋轉(zhuǎn)過程中澆上去的光刻膠液體,類似制作傳統(tǒng)膠片的那種。晶圓旋轉(zhuǎn)可以讓光刻膠鋪的非常薄、非常平。

光刻:光刻膠層隨后透過掩模(Mask)被曝光在紫外線(UV)之下,變得可溶,期間發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)類似按下機(jī)械相機(jī)快門那一刻膠片的變化。掩模上印著預(yù) 先設(shè)計(jì)好的電路圖案,紫外線透過它照在光刻膠層上,就會形成微處理器的每一層電路圖案。一般來說,在晶圓上得到的電路圖案是掩模上圖案的四分之一。

光刻:由此進(jìn)入納米尺寸的晶體管級別。一塊晶圓上可以切割出數(shù)百個(gè)處理器,不過從這里開始把視野縮小到其中一個(gè)上,展示如何制作晶體管等部件。晶體管相當(dāng)于開關(guān),控制著電流的方向?,F(xiàn)在的晶體管已經(jīng)如此之小,一個(gè)針頭上就能放下大約3000萬個(gè)。

溶解光刻膠:光刻過程中曝光在紫外線下的光刻膠被溶解掉,清除后留下的圖案和掩模上的一致

蝕刻:使用化學(xué)物質(zhì)溶解掉暴露出來的晶圓部分,而剩下的光刻膠保護(hù)著不應(yīng)該蝕刻的部分。

清除光刻膠:蝕刻完成后,光刻膠的使命宣告完成,全部清除后就可以看到設(shè)計(jì)好的電路圖案。

光刻膠:再次澆上光刻膠(藍(lán)色部分),然后光刻,并洗掉曝光的部分,剩下的光刻膠還是用來保護(hù)不會離子注入的那部分材料。

離子注入(lonImplantation):在真空系統(tǒng)中,用經(jīng)過加速的、要摻雜的原子的離子照射(注入)固體材料,從而在被注入的區(qū)域形成特殊的注入層,并改變這些區(qū)域的硅的導(dǎo)電性。經(jīng)過電場加速后,注入的離子流的速度可以超過30萬千米每小時(shí)。

清除光刻膠:離子注入完成后,光刻膠也被清除,而注入?yún)^(qū)域(綠色部分)也已摻雜,注入了不同的原子。注意這時(shí)候的綠色和之前已經(jīng)有所不同。

晶體管就緒:至此,晶體管已經(jīng)基本完成。在絕緣材(品紅色)上蝕刻出三個(gè)孔洞,并填充銅,以便和其它晶體管互連。

電鍍:在晶圓上電鍍一層硫酸銅,將銅離子沉淀到晶體管上。銅離子會從正極(陽極)走向負(fù)極(陰極)。

銅層:電鍍完成后,銅離子沉積在晶圓表面,形成一個(gè)薄薄的銅層。

拋光:將多余的銅拋光掉,也就是磨光晶圓表面。

金屬層:晶體管級別,六個(gè)晶體管的組合,大約500納米。在不同晶體管之間形成復(fù)合互連金屬層,具體布局取決于相應(yīng)處理器所需要的不同功能性。芯片表面看起來異常平滑,但事實(shí)上可能包含20多層復(fù)雜的電路,放大之后可以看到極其復(fù)雜的電路網(wǎng)絡(luò),形如未來派的多層高速公路系統(tǒng)。

晶圓測試:內(nèi)核級別,大約10毫米/0.5英寸。圖中是晶圓的局部,正在接受第一次功能性測試,使用參考電路圖案和每一塊芯片進(jìn)行對比。

晶圓切片(Slicing):晶圓級別,300毫米/12英寸。將晶圓切割成塊,每一塊就是一個(gè)處理器的內(nèi)核(Die)。

丟棄瑕疵內(nèi)核:晶圓級別。測試過程中發(fā)現(xiàn)的有瑕疵的內(nèi)核被拋棄,留下完好的準(zhǔn)備進(jìn)入下一步。

單個(gè)內(nèi)核:內(nèi)核級別。從晶圓上切割下來的單個(gè)內(nèi)核,這里展示的是Corei7的核心。

封裝:封裝級別,20毫米/1英寸。襯底(基片)、內(nèi)核、散熱片堆疊在一起,就形成了我們看到的處理器的樣子。襯底(綠色)相當(dāng)于一個(gè)底座,并為處理器內(nèi)核提供電氣與機(jī)械界面,便于與PC系統(tǒng)的其它部分交互。散熱片(銀色)就是負(fù)責(zé)內(nèi)核散熱的了。

等級測試:最后一次測試,可以鑒別出每一顆處理器的關(guān)鍵特性,比如最高頻率、功耗、發(fā)熱量等,并決定處理器的等級,比如適合做成最高端的Corei7-975Extreme,還是低端型號Corei7-920。

裝箱:根據(jù)等級測試結(jié)果將同樣級別的處理器放在一起裝運(yùn)。

零售包裝:制造、測試完畢的處理器要么批量交付給OEM廠商,要么放在包裝盒里進(jìn)入零售市場。

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原文標(biāo)題:芯科普 | 圖解intel芯

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