0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

一文匯總2018年全球光刻機出貨情況

集成電路園地 ? 來源:陳翠 ? 2019-02-21 17:03 ? 次閱讀

根據(jù)芯思想研究院的數(shù)據(jù)表明,2018年全球***出貨逾600臺,較2017年的460臺增幅達30%。

一文匯總2018年全球***出貨情況

一文匯總2018年全球***出貨情況

2018年ASML、Nikon、Canon三巨頭半導體用***出貨374臺,較2017年的294臺增加80臺,增長27.21%。

2018年ASML、Nikon、Canon三巨頭***總營收118.92億歐元,較2017年增長25.21%。

從EUV、ArFi、ArF機型的出貨來看,全年共出貨134臺。其中ASML出貨120臺,占有9成的市場。

ASML

2018年ASML***出貨224臺,營收達82.76億歐元,較2017年成長35.74%。其中EUV***營收達18.86億歐元,較2017年增加7.85億歐元。

2018年ASML共出貨224臺***,較2017年198年增加26臺,增長13.13%。其中EUV***出貨18臺,較2017年增加7臺;ArFi***出貨86臺,較2017年增加10臺;ArF***出貨16臺,較2017年增加2臺;KrF***出貨78臺,增加7臺;i-line***出貨26臺,和2017年持平。

2018年單臺EUV平均售價1.04億歐元,較2017年單臺平均售價增長4%。而在2018年一季度和第四季的售價更是高達1.16億歐元。

目前全球知名廠商包括英特爾Intel三星Samsung、臺積電TSMC、SK海力士SK Hynix、聯(lián)電UMC、格芯GF、中芯國際SMIC、華虹宏力、華力微等等全球一線公司都是ASML的客戶。

2018年中國已經(jīng)進口多臺ArFi***,包括長江存儲、華力微二期。

Nikon

2018年度(非財年),Nikon***出貨106臺,營收達20.66億歐元,較2017年成長25.29%。

2018年度,Nikon半導體用***出貨36臺,比2017年度增加9臺,增長33.33%。其中ArFi***出貨5臺,較2017年度減少1臺;ArF***出貨9臺,較2017年度增加1臺;KrF***出貨5臺,較2017年度增加3臺;i-line***出貨17臺,較2017年度增加6臺。

2018年度,Nikon半導體用***出貨36臺中,其中全新機臺出貨19臺,翻新機臺出貨17臺。

2018年度,Nikon面板(FPD)用***出貨70臺。

Canon

2018年Canon***出貨183臺,營收達15.5億歐元,較2017年微增1.6%。

2018年Canon半導體用***出貨達114臺,較2017年增加44臺,增長62.85%。但是主要是i-line、KrF兩個低端機臺出貨。

2018年全年面板(FPD)用***出貨69臺。

其他***公司

上海微電子裝備(集團)股份有限***主要用于廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD、MEMSLED、功率器件等制造領(lǐng)域,2018年出貨大概在50-60臺之間。

德國SUSS***主要用于半導體集成電路先進封裝、MEMS、LED,2018年***收入約1.2億歐元,較2017年增長約7個百分點。

ASML公司EUV進展

2018年,ASML和IMEC建設(shè)聯(lián)合實驗室,目標一是加速EUV技術(shù)導入量產(chǎn);二是實驗以0.55 NA取代目前的0.33 NA,具有更高NA的EUV微影系統(tǒng)能將EUV光源投射到較大角度的晶圓,從而提高分辨率,并且實現(xiàn)更小的特征尺寸。

2019年下半年,ASML將推出每小時吞吐量為170片的EUV新機型NXE:3400C;2021年將推出0.55 NA的新機型EXE:5000,可用于2納米生產(chǎn)。

ASML預估2019年全年將出貨30臺EUV***,據(jù)悉DRAM公司也將于2019年開始采用EUV***制造。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 光刻機
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1153

    瀏覽量

    47454

原文標題:2018年全球光刻機出貨情況

文章出處:【微信號:cjssia,微信公眾號:集成電路園地】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦

    光刻機巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前EUV光刻機基本由荷蘭阿
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?2788次閱讀

    組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹了組成光刻機的各個分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機是實現(xiàn)這工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過程,但精度要求極高
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?154次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分系統(tǒng)介紹

    用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹

    時,摩爾定律開始面臨挑戰(zhàn)。光刻機巨頭選擇了保守策略,寄希望于F2準分子光源157nm波長的干式光刻技術(shù)。2002,浸潤式光刻的構(gòu)想被提
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?749次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機的工作原理和分類

    ,是半導體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過程對精度要求極高,光刻機通過系列復雜的技術(shù)手段,將光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補償各種光學誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?1735次閱讀

    看懂光刻機的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)

    光刻機作為IC制造裝備中最核心、技術(shù)難度最大的設(shè)備,其重要性日益凸顯。本文將從光刻機的發(fā)展歷程、結(jié)構(gòu)組成、關(guān)鍵性能參數(shù)以及雙工件臺技術(shù)展開介紹。 光刻機發(fā)展歷程
    的頭像 發(fā)表于 11-22 09:09 ?1468次閱讀
    <b class='flag-5'>一</b><b class='flag-5'>文</b>看懂<b class='flag-5'>光刻機</b>的結(jié)構(gòu)及雙工件臺技術(shù)

    了解光刻機成像系統(tǒng)及光學鍍膜技術(shù)

    高端光刻機研發(fā)是個系統(tǒng)工程,涉及到各方面技術(shù)的持續(xù)改進和突破,在材料科學方面涉及低吸收損耗石英材料、高純度薄膜材料的開發(fā),在精密光學領(lǐng)域涉及精密光學加工技術(shù)、鍍膜技術(shù)、光學集成裝配技術(shù)等,在
    的頭像 發(fā)表于 11-21 13:43 ?508次閱讀
    <b class='flag-5'>一</b><b class='flag-5'>文</b>了解<b class='flag-5'>光刻機</b>成像系統(tǒng)及光學鍍膜技術(shù)

    俄羅斯首臺光刻機問世

    部分,目前正在對其進行測試,該設(shè)備可確保生產(chǎn)350nm的芯片。什帕克還指出,到2026將獲得130nm的國產(chǎn)光刻機,下步將是開發(fā)90nm光刻
    的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?799次閱讀

    臺積電A16制程采用EUV光刻機,2026下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機,而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機進行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機。
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?1023次閱讀

    光刻機的常見類型解析

    光刻機有很多種類型,但有時也很難用類型進行分類來區(qū)別設(shè)備,因為有些分類僅是在某分類下的分類。
    發(fā)表于 04-10 15:02 ?1986次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的常見類型解析

    光刻機的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?6447次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

    英特爾成為全球首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑光刻機的廠商

    英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第臺高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止,英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠,據(jù)報道它們的售價約為3.8億
    的頭像 發(fā)表于 03-06 14:49 ?478次閱讀
    英特爾成為<b class='flag-5'>全球</b>首家購買3.8億美元高數(shù)值孔徑<b class='flag-5'>光刻機</b>的廠商

    光刻膠和光刻機的區(qū)別

    光刻膠是種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4797次閱讀

    佳能預計到2024出貨納米壓印光刻機

    Takeishi向英國《金融時報》表示,公司計劃于2024開始出貨其納米壓印光刻機FPA-1200NZ2C,并補充說芯片可以輕松以低成本制造。202311月,該公司表示該設(shè)備的價
    的頭像 發(fā)表于 02-01 15:42 ?1006次閱讀
    佳能預計到2024<b class='flag-5'>年</b><b class='flag-5'>出貨</b>納米壓印<b class='flag-5'>光刻機</b>

    光刻機結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    光刻機是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
    發(fā)表于 01-29 09:37 ?3562次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    狂加工一年!ASML把欠中國的600億光刻機,成功交付了

    關(guān)于光刻機,大家還記得美國荷蘭日本的三方協(xié)議嗎?來回憶下。 隨著芯片在各個領(lǐng)域的重要性不斷提升,人們對芯片制造的關(guān)注也日益增加。 但半導體產(chǎn)業(yè)鏈非常復雜,不僅僅涉及到底層的架構(gòu)設(shè)計,還需要通過
    的頭像 發(fā)表于 01-17 17:56 ?718次閱讀