P型半導(dǎo)體
在純凈的硅晶體中摻入3價元素如硼,使之取代晶格中硅原子的位置,就形成了P型半導(dǎo)體。在P型半導(dǎo)體中,空穴為多字,自由電子為少子,主要靠空穴導(dǎo)電。摻入的雜質(zhì)越多,空穴的濃度就越大,導(dǎo)電性就越強。
N型半導(dǎo)體
在純凈的硅晶體中摻入5價元素如磷, 使之取代晶格中硅原子的位置,就形成了N型半導(dǎo)體。在N 型半導(dǎo)體中,自由電子的濃度大于空穴的濃度,故自由電子為多子,空穴為少子。如下圖:
pn結(jié)的形成
當(dāng)P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體接合在一起的時候,由于P型半導(dǎo)體中空穴濃度高,而N型半導(dǎo)體中電子濃度高,因此會形成一個擴散運動,P型半導(dǎo)體中空穴會向它濃度低的地方擴散,從而擴散到N型區(qū),N型半導(dǎo)體的電子也會向它濃度低的地方擴散,從而擴散到P型區(qū)。這樣一來,P型區(qū)剩下不能自由移動的負離子,而N型區(qū)剩下不能自由移動的正離子,一正一負,在PN結(jié)內(nèi)部形成了一個從左往右的內(nèi)電場,基本上這個內(nèi)電場就體現(xiàn)PN結(jié)的工作特性。另外有一點要說明的是,PN結(jié)只是局部帶電,即P型區(qū)呈負電,而N型區(qū)呈負電,但是它們倆一中和,整體上是呈中性的。
pn結(jié)的形成過程
在雜質(zhì)半導(dǎo)體中, 正負電荷數(shù)是相等的,它們的作用相互抵消,因此保持電中性。
1、載流子的濃度差產(chǎn)生的多子的擴散運動
在P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體結(jié)合后,在它們的交界處就出現(xiàn)了電子和空穴的濃度差,N型區(qū)內(nèi)的電子很多而空穴很少,P型區(qū)內(nèi)的空穴而電子很少,這樣電子和空穴很多都要從濃度高的地方向濃度低的地方擴散,因此,有些電子要從N型區(qū)向P型區(qū)擴散, 也有一些空穴要從P型區(qū)向N型區(qū)擴散。
2、電子和空穴的復(fù)合形成了空間電荷區(qū)
電子和空穴帶有相反的電荷,它們在擴散過程中要產(chǎn)生復(fù)合(中和),結(jié)果使P區(qū)和N區(qū)中原來的電中性被破壞。 P區(qū)失去空穴留下帶負電的離子,N區(qū)失去電子留下帶正電的離子, 這些離子因物質(zhì)結(jié)構(gòu)的關(guān)系,它們不能移動,因此稱為空間電荷,它們集中在P區(qū)和N區(qū)的交界面附近,形成了一個很薄的空間電荷區(qū),這就是所謂的PN結(jié)。
3、空間電荷區(qū)產(chǎn)生的內(nèi)電場E又阻止多子的擴散運動
在空間電荷區(qū)后,由于正負電荷之間的相互作用,在空間電荷區(qū)中形成一個電場,其方向從帶正電的N區(qū)指向帶負電的P區(qū),由于該電場是由載流子擴散后在半導(dǎo)體內(nèi)部形成的,故稱為內(nèi)電場。因為內(nèi)電場的方向與電子的擴散方向相同,與空穴的擴散方向相反,所以它是阻止載流子的擴散運動的。
綜上所述,PN結(jié)中存在著兩種載流子的運動。一種是多子克服電場的阻力的擴散運動;另一種是少子在內(nèi)電場的作用下產(chǎn)生的漂移運動。因此,只有當(dāng)擴散運動與漂移運動達到動態(tài)平衡時,空間電荷區(qū)的寬度和內(nèi)建電場才能相對穩(wěn)定。由于兩種運動產(chǎn)生的電流方向相反,因而在無外電場或其他因素激勵時,PN結(jié)中無宏觀電流。
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