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2018年全球半導體支出將超千億美元 三星占兩成

肖青梅 ? 來源:未知 ? 作者:xiaoqingmei ? 2018-05-23 11:07 ? 次閱讀

【導讀】:中興事件后,半導體產業(yè)受到了前所有未的關注。日前,分析公司報告2018年全球半導體支出將超千億美元,三星占兩成,掌握核心技術不得不服韓國企業(yè)。

市場調查機構 IC insight 調查報告指出,2018 年全球半導體產業(yè)的資本支出將首次突破千億美元大關。

報告中表示,之前在 2018 年 3 月份,IC insight 曾經預期 2018 年全年半導體的資本支出將成長 8%。如今,才不到一季的時間,IC insigh 就把預估值由原本的 8% 上調至 14%。這樣看來,2018 年全年的半導體支出將首次破千億美元大關,而且金額將比 2016 年足足成長 53%。

報告中進一步指出,近兩年來始終位居半導體資本支出龍頭的韓國三星,雖然 2018 年還未公布全年的資本支出金額,但是一般相信,將不會超出 2017 年 242 億美元的數字。不過,就目前的觀察,三星仍在上緊發(fā)條不放松。

事實上,三星在 2018 年第 1 季的半導體資本支出達到 67.2 億美元,較之前 3 季水平略高。但是,若相較 2016 年同期,則已經成長近 4 倍的規(guī)模。累計過去 4 季以來,三星半導體部門的資本支出已經達到 266 億美元的金額。

IC insight 預期,2018 年三星半導體的資本支出將在 200 億元上下,略低于 2017 年 242 億美元。不過,因為 2018 年首季就有較之前略高的成長。因此,最后的結果很 可能將比預期的 200 億美元來的高。

另外,因為 NAND Flash 及 DRAM 的市場需求強勁,韓國存儲器大廠 SK 海力士預期也將在 2018 年增加資本支出至 115 億美元,較 2017 年的 81 億美元成長 42%。

而 SK 海力士在 2018 年增加的資本支出,將主用于在韓國清州兩家大型存儲器工廠的建置工作上。另外,還要擴大中國無錫的 DRAM 工廠。清州工廠在 2018 年年底前將開始興建,而中國無錫 DRAM 廠的擴建,也計劃在2018年年底前動工,這時間將比原計劃的 2019 年初開工要早幾個月。

我國半導體行業(yè)的支出相對于國際大廠還有差距,不過經過中興事件后,或許會有很大的改善,如果中國多幾家華為這樣的公司,那么將來也許不怕被別人卡住喉嚨了。

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