臺(tái)積電與三星下重金，ASML 2019年EUV產(chǎn)量訂單有望全滿

《巴倫》報(bào)導(dǎo)，芯片設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾ASML的表現(xiàn)可能要比大多數(shù)人想像的要好，瑞士信貸分析師Farhan Ahmad即認(rèn)為，艾司摩爾的產(chǎn)品是芯片制造商臺(tái)積電與競爭對(duì)手三星電子爭奪霸主地位的關(guān)鍵要素，估計(jì)可以在鷸蚌相爭中，漁翁得利。

Ahmad特別指出，“最近對(duì)EUV工具（極紫外光刻Extreme UV，EUV)的謠言眾多。我們的調(diào)查表明，EUV的前景并不是減弱，而是增強(qiáng)。ASML 2019年EUV產(chǎn)量訂單有望全滿”。

他指出，臺(tái)積電“在4月2日向ASML和Lasertec下了大約10億美元的訂單”，認(rèn)為“很可能在第1季度財(cái)報(bào)上顯示為6至8種工具的訂單量”。

Ahmad表示：“三星繼續(xù)在EUV上砸重本。最近的資料顯示，除了7納米外，三星可能會(huì)在10納米級(jí)DRAM的部份制造上采用EUV進(jìn)行。因三星計(jì)劃用EUV制造低風(fēng)險(xiǎn)DRAM，DRAM的產(chǎn)品產(chǎn)出有望早于7納米出爐，這也是為了擴(kuò)大7納米生產(chǎn)全面使用EUV的計(jì)劃之一”。

三星正行銷其設(shè)計(jì)靈活性、更短的周期時(shí)間、及更小的模具，作為7納米制程的獨(dú)特優(yōu)勢。三星也正在建設(shè)一個(gè)由DRAM和Logic共享的38臺(tái)EUV工具的EUV專用工廠”。

Ahmad認(rèn)為臺(tái)積電“可能需要加快5納米的腳步，以確保與三星的競爭力”。5納米技術(shù)將是ASML在臺(tái)積電的EUV真正發(fā)光的時(shí)期。

Ahmad繼續(xù)認(rèn)為：“中國***有報(bào)導(dǎo)稱臺(tái)積電客戶對(duì)7納米的興趣不高。這是可以理解的，因?yàn)?納米不能提供與EUV單一圖案化相關(guān)的設(shè)計(jì)靈活性，而其EUV制程只被用于裁焊VIA孔（無需改變?cè)O(shè)計(jì)）。同時(shí)，7納米本預(yù)計(jì)為在廣泛使用EUV制程的5納米（真正的7納米）節(jié)點(diǎn)前的試車前奏。我們一直堅(jiān)持認(rèn)為7納米的采用可能僅限于少數(shù)幾層芯片上，并且僅限于一部分容量而已。我們預(yù)計(jì)臺(tái)積電將在2019年初開始生產(chǎn)7納米產(chǎn)品，并準(zhǔn)備在2020年量產(chǎn)5納米。為了滿足產(chǎn)能需求，臺(tái)積電需要在2019年開始安裝相關(guān)工具機(jī)臺(tái)。我們認(rèn)為ASML最近的工具訂單是來自于臺(tái)積電，也表示臺(tái)積電正在努力加強(qiáng)其5納米計(jì)劃”。