英諾達榮獲2025年中國IC設(shè)計成就獎之年度技術(shù)突破EDA公司獎

2025年3月27、28日，在上海舉辦的國際集成電路展覽會暨研討會（IIC Shanghai 2025）上，本土EDA企業(yè)英諾達攜其創(chuàng)新技術(shù)成果亮相，并憑借在低功耗設(shè)計領(lǐng)域的突破性貢獻，榮獲“2025年中國IC設(shè)計成就獎——年度技術(shù)突破EDA公司獎”。

算法驅(qū)動早期功耗優(yōu)化，ERPE填補國內(nèi)空白

在中國IC領(lǐng)袖峰會論壇上，英諾達EDA研發(fā)副總裁李英夢博士發(fā)表了題為《算法驅(qū)動早期功耗優(yōu)化——加速后摩爾時代芯片能效躍遷》的演講，詳細介紹了國內(nèi)首款RTL功耗優(yōu)化EDA工具——EnFortius凝鋒RPE（ERPE）。該工具通過內(nèi)建核心算法，在設(shè)計早期階段即可精準識別功耗優(yōu)化關(guān)鍵點，顯著降低后期迭代成本，助力芯片設(shè)計實現(xiàn)能效目標。

李英夢博士表示：“ERPE的推出標志著國產(chǎn)EDA工具在低功耗設(shè)計領(lǐng)域的重要突破。其核心優(yōu)勢在于將功耗分析與優(yōu)化前移至RTL階段，為設(shè)計團隊提供切實可行的優(yōu)化建議，從而縮短開發(fā)周期并提升芯片競爭力?！?/p>

今年，英諾達再度榮登電子工程專輯評定的TOP 10 EDA公司榜單，并憑借卓越的技術(shù)實力一舉摘得年度技術(shù)突破EDA公司獎。ERPE產(chǎn)品的創(chuàng)新突破，源于英諾達在低功耗與靜態(tài)驗證工具領(lǐng)域的持續(xù)深耕，以及40余項發(fā)明專利支撐的核心技術(shù)。公司通過自主研發(fā)的EDA解決方案，為芯片設(shè)計的左移和能效提升提供關(guān)鍵支持，推動國產(chǎn)EDA技術(shù)從“可用”向“好用”躍進。

關(guān)于IIC Shanghai

作為國內(nèi)集成電路領(lǐng)域最具影響力的年度盛會之一，IIC Shanghai聚焦全球半導體技術(shù)趨勢與產(chǎn)業(yè)生態(tài)，匯聚產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)，展示尖端產(chǎn)品與解決方案，為行業(yè)搭建交流合作平臺。

關(guān)于英諾達

英諾達（成都）電子科技有限公司是一家由行業(yè)頂尖資深人士創(chuàng)立的本土EDA企業(yè)，公司堅持以客戶需求為導向，幫助客戶實現(xiàn)價值最大化，為中國半導體產(chǎn)業(yè)提供卓越的EDA解決方案。公司的長期目標是通過EDA工具的研發(fā)和上云實踐，參與國產(chǎn)EDA完整工具鏈布局并探索適合中國國情的工業(yè)軟件上云的路徑與模式，賦能半導體產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。公司的主營業(yè)務(wù)包括：EDA軟件研發(fā)、IC設(shè)計云解決方案以及IC設(shè)計服務(wù)。