晶圓清洗加熱器的原理主要涉及感應加熱（IH）法和短時間過熱蒸汽（SHS）工藝。
下面就是詳細給大家說明的具體工藝詳情：
感應加熱法（IH）：這種方法通過電磁感應原理，在不接觸的情況下對物體進行加熱，從而避免了顆粒污染。在晶圓清洗過程中，純鈦被用作加熱對象，利用感應加熱法可以有效地產(chǎn)生高溫蒸汽。
短時間過熱蒸汽（SHS）：SHS工藝能夠在極短的時間內(nèi)生成超過200°C的過熱蒸汽，適用于液晶顯示器和半導體晶片的清洗。這種工藝不僅環(huán)保，而且具有優(yōu)異的洗滌能力。
自蔓延高溫合成（SHS）：這是一種使用加熱器加熱水箱中的水，在200℃以上的溫度下產(chǎn)生自蔓延高溫合成的方法。產(chǎn)生的高溫合成物隨后被噴涂到鎂和晶片上以清潔它們。
這些技術的應用確保了晶圓清洗過程的高效性和清潔度，同時減少了污染物的產(chǎn)生，提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。
審核編輯 黃宇
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