一、引言
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的飛速發(fā)展,碳化硅(SiC)作為一種具有優(yōu)異物理和化學(xué)性質(zhì)的材料,在電力電子、微波器件、高溫傳感器等領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的應(yīng)用潛力。高質(zhì)量、大面積的SiC外延片是實(shí)現(xiàn)高性能SiC器件制造的關(guān)鍵。鐘罩式熱壁碳化硅高溫外延片生長(zhǎng)裝置作為一種先進(jìn)的生長(zhǎng)設(shè)備,以其獨(dú)特的結(jié)構(gòu)和高效的生長(zhǎng)性能,成為制備高質(zhì)量SiC外延片的重要工具。本文將詳細(xì)介紹鐘罩式熱壁碳化硅高溫外延片生長(zhǎng)裝置的結(jié)構(gòu)、工作原理及其在應(yīng)用中的優(yōu)勢(shì)。
二、裝置結(jié)構(gòu)
鐘罩式熱壁碳化硅高溫外延片生長(zhǎng)裝置主要由以下幾個(gè)部分組成:支架、升降架、石墨托盤(pán)、石英鐘罩、隔熱板、射頻加熱器、不銹鋼腔體以及氣體控制系統(tǒng)等。
支架與升降架
支架是整個(gè)裝置的支撐結(jié)構(gòu),用于固定和支撐其他組件。升降架則用于調(diào)節(jié)石墨托盤(pán)的高度,以便在生長(zhǎng)過(guò)程中方便地放入和取出SiC襯底。
石墨托盤(pán)
石墨托盤(pán)用于承載SiC襯底,并具有良好的導(dǎo)熱性能,確保生長(zhǎng)過(guò)程中熱量的均勻傳遞。石墨托盤(pán)的設(shè)計(jì)通??紤]到高溫下的穩(wěn)定性和化學(xué)惰性,以防止與SiC襯底發(fā)生反應(yīng)。
石英鐘罩
石英鐘罩是裝置的核心部件之一,其形狀類(lèi)似鐘罩,用于覆蓋和保護(hù)石墨托盤(pán)及其上的SiC襯底。石英材料具有良好的耐高溫性能和化學(xué)穩(wěn)定性,能夠承受高溫生長(zhǎng)過(guò)程中的各種化學(xué)反應(yīng)和物理變化。
隔熱板
隔熱板位于射頻加熱器與石墨托盤(pán)之間,用于減少熱量的散失,提高加熱效率。隔熱板通常采用高性能的保溫材料制成,以確保生長(zhǎng)過(guò)程中的溫度穩(wěn)定。
射頻加熱器
射頻加熱器是提供生長(zhǎng)所需高溫環(huán)境的關(guān)鍵部件。通過(guò)射頻電流的激勵(lì),射頻加熱器產(chǎn)生強(qiáng)烈的電磁場(chǎng),使石墨托盤(pán)及其上的SiC襯底迅速升溫至所需的生長(zhǎng)溫度。射頻加熱器具有加熱速度快、溫度均勻性好等優(yōu)點(diǎn)。
不銹鋼腔體
不銹鋼腔體是裝置的外部保護(hù)結(jié)構(gòu),用于容納其他組件并提供一個(gè)封閉的生長(zhǎng)環(huán)境。不銹鋼材料具有良好的耐腐蝕性和機(jī)械強(qiáng)度,能夠承受高溫生長(zhǎng)過(guò)程中的各種應(yīng)力和化學(xué)反應(yīng)。
氣體控制系統(tǒng)
氣體控制系統(tǒng)用于調(diào)節(jié)和控制生長(zhǎng)室內(nèi)的氣體氛圍,包括反應(yīng)氣體的流量、壓力和組成等。通過(guò)精確的氣體控制,可以實(shí)現(xiàn)SiC外延生長(zhǎng)的精確調(diào)控,提高外延片的質(zhì)量和均勻性。
三、工作原理
鐘罩式熱壁碳化硅高溫外延片生長(zhǎng)裝置的工作原理基于化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)。在生長(zhǎng)過(guò)程中,反應(yīng)氣體(如硅烷和碳?xì)浠衔铮┰谏漕l加熱器的加熱作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成SiC外延層。具體過(guò)程如下:
加熱
射頻加熱器啟動(dòng),對(duì)石墨托盤(pán)及其上的SiC襯底進(jìn)行加熱,使其達(dá)到所需的生長(zhǎng)溫度。加熱過(guò)程中,隔熱板減少了熱量的散失,提高了加熱效率。
氣體引入
通過(guò)氣體控制系統(tǒng),將反應(yīng)氣體引入生長(zhǎng)室內(nèi)。反應(yīng)氣體在石墨托盤(pán)上方形成一層均勻的氣流,為SiC外延生長(zhǎng)提供必要的反應(yīng)物。
化學(xué)反應(yīng)
在高溫下,反應(yīng)氣體在SiC襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),生成SiC外延層。化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中,副產(chǎn)物氣體從表面脫離并穿過(guò)邊界層向氣流中擴(kuò)散,最后和未反應(yīng)的反應(yīng)物一起排出系統(tǒng)。
外延生長(zhǎng)
隨著化學(xué)反應(yīng)的進(jìn)行,SiC外延層逐漸在SiC襯底上生長(zhǎng)。通過(guò)精確控制反應(yīng)氣體的流量、壓力和組成等參數(shù),可以實(shí)現(xiàn)SiC外延層的精確調(diào)控,獲得高質(zhì)量、大面積的外延片。
四、應(yīng)用優(yōu)勢(shì)
鐘罩式熱壁碳化硅高溫外延片生長(zhǎng)裝置在應(yīng)用中具有以下優(yōu)勢(shì):
高質(zhì)量外延片
裝置采用先進(jìn)的化學(xué)氣相沉積技術(shù),通過(guò)精確控制反應(yīng)氣體的流量、壓力和組成等參數(shù),可以獲得高質(zhì)量、大面積、均勻的SiC外延片。
高效生長(zhǎng)
射頻加熱器具有加熱速度快、溫度均勻性好等優(yōu)點(diǎn),能夠迅速將石墨托盤(pán)及其上的SiC襯底加熱至所需的生長(zhǎng)溫度,提高生長(zhǎng)效率。
良好的穩(wěn)定性
裝置采用高性能的保溫材料和隔熱設(shè)計(jì),能夠減少熱量的散失,提高加熱效率,同時(shí)保證生長(zhǎng)過(guò)程中的溫度穩(wěn)定。
廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域
鐘罩式熱壁碳化硅高溫外延片生長(zhǎng)裝置制備的SiC外延片具有優(yōu)異的物理和化學(xué)性質(zhì),適用于電力電子、微波器件、高溫傳感器等領(lǐng)域的高性能器件制造。
五、結(jié)論
鐘罩式熱壁碳化硅高溫外延片生長(zhǎng)裝置是一種先進(jìn)的生長(zhǎng)設(shè)備,具有高質(zhì)量、高效、穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。通過(guò)精確控制反應(yīng)氣體的流量、壓力和組成等參數(shù),可以實(shí)現(xiàn)SiC外延層的精確調(diào)控,獲得高質(zhì)量、大面積的外延片。該裝置在電力電子、微波器件、高溫傳感器等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景,為SiC技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展和應(yīng)用提供了有力的支持。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的拓展,鐘罩式熱壁碳化硅高溫外延片生長(zhǎng)裝置將不斷得到完善和推廣,為高性能SiC器件的制造提供更加可靠的技術(shù)保障。
六、高通量晶圓測(cè)厚系統(tǒng)
高通量晶圓測(cè)厚系統(tǒng)以光學(xué)相干層析成像原理,可解決晶圓/晶片厚度TTV(Total Thickness Variation,總厚度偏差)、BOW(彎曲度)、WARP(翹曲度),TIR(Total Indicated Reading 總指示讀數(shù),STIR(Site Total Indicated Reading 局部總指示讀數(shù)),LTV(Local Thickness Variation 局部厚度偏差)等這類(lèi)技術(shù)指標(biāo)。
高通量晶圓測(cè)厚系統(tǒng),全新采用的第三代可調(diào)諧掃頻激光技術(shù),相比傳統(tǒng)上下雙探頭對(duì)射掃描方式;可一次性測(cè)量所有平面度及厚度參數(shù)。
靈活適用更復(fù)雜的材料,從輕摻到重?fù)?P 型硅 (P++),碳化硅,藍(lán)寶石,玻璃,鈮酸鋰等晶圓材料。
重?fù)叫凸瑁◤?qiáng)吸收晶圓的前后表面探測(cè))
粗糙的晶圓表面,(點(diǎn)掃描的第三代掃頻激光,相比靠光譜探測(cè)方案,不易受到光譜中相鄰單位的串?dāng)_噪聲影響,因而對(duì)測(cè)量粗糙表面晶圓)
低反射的碳化硅(SiC)和鈮酸鋰(LiNbO3)(通過(guò)對(duì)偏振效應(yīng)的補(bǔ)償,加強(qiáng)對(duì)低反射晶圓表面測(cè)量的信噪比)
絕緣體上硅(SOI)和MEMS,可同時(shí)測(cè)量多層結(jié)構(gòu),厚度可從μm級(jí)到數(shù)百μm級(jí)不等。
1,可用于測(cè)量各類(lèi)薄膜厚度,厚度最薄可低至 4 μm ,精度可達(dá)1nm。
2,可調(diào)諧掃頻激光的“溫漂”處理能力,體現(xiàn)在極端工作環(huán)境中抗干擾能力強(qiáng),一改過(guò)去傳統(tǒng)晶圓測(cè)量對(duì)于“主動(dòng)式減震平臺(tái)”的重度依賴(lài),成本顯著降低。
3,靈活的運(yùn)動(dòng)控制方式,可兼容2英寸到12英寸方片和圓片測(cè)量。
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