腔室壓力對(duì)刻蝕的影響

本文介紹了腔室壓力對(duì)刻蝕的影響。

腔室壓力是如何調(diào)節(jié)的？對(duì)刻蝕的結(jié)果有什么影響？

什么是腔室壓力？ 腔室壓力是指在刻蝕設(shè)備的工藝腔室內(nèi)的氣體壓力，通常以托（Torr）或帕斯卡（Pa）為單位。

腔室壓力由什么決定的？

1，氣體流量越高，壓力越大。

2，真空泵排氣，泵速越高，腔室壓力越低。

腔室壓力對(duì)于刻蝕的影響

1，離子轟擊能量。低壓力，分子平均自由程大，離子的碰撞幾率小，能量耗散少，故能量高。

2，離子與自由基的比例。低壓力時(shí)，離子的比例高，有利于物理刻蝕。高壓力時(shí)，自由基比例高，有利于化學(xué)刻蝕。

3，刻蝕均勻性。高壓力時(shí)，高頻碰撞會(huì)使氣體流速降低，自由基更容易擴(kuò)散到晶圓表面各處，包括邊緣區(qū)域，整個(gè)晶圓表面接觸到的反應(yīng)物濃度均勻，刻蝕速率趨于一致。

總結(jié) 隨著腔室壓力的提高，刻蝕反應(yīng)逐漸由物理刻蝕到物理+化學(xué)刻蝕到化學(xué)刻蝕所轉(zhuǎn)變。