拓荊科技：超高深寬比溝槽填充CVD產(chǎn)品首臺(tái)已通過(guò)客戶驗(yàn)證

來(lái)源：集成電路材料研究

近日，拓荊科技在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時(shí)表示，公司自主研發(fā)并推出的超高深寬比溝槽填充CVD產(chǎn)品首臺(tái)已通過(guò)客戶驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，并獲得客戶重復(fù)訂單及不同客戶訂單，陸續(xù)出貨至客戶端驗(yàn)證。

超高深寬比溝槽填充CVD設(shè)備可以在晶圓表面沉積高品質(zhì)的介電薄膜材料，經(jīng)過(guò)固化及氧化等處理工藝后，可達(dá)到完全填充間隙而不會(huì)留下孔洞和縫隙的效果。拓荊科技稱，目前與超高深寬比溝槽填充CVD設(shè)備相關(guān)的反應(yīng)腔累計(jì)出貨超過(guò)15個(gè)。

另外，拓荊科技的PECVD Bianca設(shè)備為晶圓背面薄膜沉積設(shè)備，主要應(yīng)用于集成電路制造過(guò)程中對(duì)晶圓翹曲的糾正以及晶圓背面保護(hù)，可以應(yīng)用于存儲(chǔ)領(lǐng)域及邏輯領(lǐng)域。今年上半年，拓荊科技首臺(tái)PECVD Bianca工藝設(shè)備通過(guò)客戶驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，截至上半年末，累計(jì)超過(guò)25個(gè)反應(yīng)腔獲得訂單，部分反應(yīng)腔已出貨至客戶端。

拓荊科技表示，研發(fā)是公司發(fā)展的基石，公司會(huì)持續(xù)進(jìn)行高強(qiáng)度的研發(fā)投入，不斷拓展新產(chǎn)品、新工藝，并根據(jù)客戶需求進(jìn)行產(chǎn)品迭代升級(jí)，進(jìn)而促進(jìn)公司的穩(wěn)定發(fā)展，預(yù)計(jì)2024年研發(fā)投入占營(yíng)業(yè)收入的比例將保持在20%以上。

【近期會(huì)議】

10月30-31日，由寬禁帶半導(dǎo)體國(guó)家工程研究中心主辦的“化合物半導(dǎo)體先進(jìn)技術(shù)及應(yīng)用大會(huì)”將首次與大家在江蘇·常州相見(jiàn)，邀您齊聚常州新城希爾頓酒店，解耦產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)袌?chǎng)布局！https://w.lwc.cn/s/uueAru

11月28-29日，“第二屆半導(dǎo)體先進(jìn)封測(cè)產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新大會(huì)”將再次與各位相見(jiàn)于廈門(mén)，秉承“延續(xù)去年，創(chuàng)新今年”的思想，仍將由云天半導(dǎo)體與廈門(mén)大學(xué)聯(lián)合主辦，雅時(shí)國(guó)際商訊承辦，邀您齊聚廈門(mén)·海滄融信華邑酒店共探行業(yè)發(fā)展！誠(chéng)邀您報(bào)名參會(huì)：https://w.lwc.cn/s/n6FFne

聲明：本網(wǎng)站部分文章轉(zhuǎn)載自網(wǎng)絡(luò)，轉(zhuǎn)發(fā)僅為更大范圍傳播。 轉(zhuǎn)載文章版權(quán)歸原作者所有，如有異議，請(qǐng)聯(lián)系我們修改或刪除。聯(lián)系郵箱：viviz@actintl.com.hk， 電話：0755-25988573

審核編輯 黃宇