廣明源172nm高能光清洗機(jī)產(chǎn)品概述

隨著科技飛速發(fā)展，半導(dǎo)體行業(yè)在現(xiàn)代工業(yè)中扮演著關(guān)鍵角色，涵蓋從計(jì)算機(jī)、智能手機(jī)到各種家用電器。然而，半導(dǎo)體制造過(guò)程復(fù)雜且嚴(yán)格，任何微小污染或缺陷都會(huì)嚴(yán)重影響產(chǎn)品的良率和性能。因此，高效、無(wú)損的清洗技術(shù)在半導(dǎo)體生產(chǎn)中尤為重要。廣明源推出了創(chuàng)新的172nm高能光清洗機(jī)，為半導(dǎo)體行業(yè)提供一種革新的清洗方案。

01172nm高能光清洗機(jī)

廣明源172nm高能光清洗機(jī)利用高能量的172nm紫外光子，能夠切斷有機(jī)物分子的化學(xué)鍵，使其分解成更小的分子自由基。同時(shí)，空氣中的氧氣吸收這些光子后生成活性氧和臭氧，臭氧進(jìn)一步分解產(chǎn)生更多活性氧。特定合適的照度可以對(duì)基材表面完成納米級(jí)別改性。這種清洗方式不僅高效去除表面有機(jī)污染物，還不會(huì)對(duì)基材表面造成損傷，實(shí)現(xiàn)無(wú)損清洗。

02產(chǎn)品特點(diǎn)

●高能光清洗: 利用172nm 光源，高效分解基材上的灰塵、脂肪和油污等有機(jī)物，實(shí)現(xiàn)高精度清洗，提升產(chǎn)品合格率。

●環(huán)保節(jié)能: 無(wú)需使用有害化學(xué)物質(zhì)和耗材，實(shí)現(xiàn)環(huán)保清洗，降低能耗。

●技術(shù)優(yōu)勢(shì): 采用準(zhǔn)分子技術(shù)，高能低穿透，避免靜電干擾，確保無(wú)接觸操作，不損傷基材，不改變機(jī)械性能。

●效率提升: 快速照射基材，縮短清洗周期，提高生產(chǎn)效率。

●自動(dòng)化控制: 自動(dòng)化控制系統(tǒng)確保清洗過(guò)程的精確性和可重復(fù)性，簡(jiǎn)化操作流程。

●均勻輻射: 在整個(gè)輻射區(qū)域內(nèi)提供優(yōu)良的均勻性，恒定強(qiáng)度輸出，確保清洗過(guò)程持續(xù)穩(wěn)定。

●專業(yè)定制: 可根據(jù)客戶需求定制不同面積的照射平臺(tái)和不同強(qiáng)度、功率的設(shè)備，以適應(yīng)各種不同基材和應(yīng)用場(chǎng)景的需求。

03應(yīng)用前景

1醫(yī)療器械制造

高效清洗微小部件，確保無(wú)菌操作；能夠優(yōu)化人體植入物表面，減少人體的排異反應(yīng)，進(jìn)一步提高醫(yī)療器械的安全性和有效性。

2材料科學(xué)研究

清洗樣品表面或促進(jìn)材料氧化還原反應(yīng)，保證實(shí)驗(yàn)結(jié)果的準(zhǔn)確性，促進(jìn)新材料的開發(fā)。

3TOC降解

通過(guò)光照高能或光照產(chǎn)生的羥基離子（OHˉ），對(duì)純水中的TOC進(jìn)行降解，使其降低到ppb級(jí)別。

4電子行業(yè)

去除印刷電路板和微電子元件中的有機(jī)污染物，確保電子設(shè)備的穩(wěn)定性能。

5光學(xué)儀器生產(chǎn)

去除極細(xì)微的雜質(zhì)，提高鏡片和傳感器的精度。

6航空航天領(lǐng)域

清洗精密零部件，提高各部件結(jié)合精密性，保證飛行器的安全和性能。