摘要:文章簡(jiǎn)單介紹了微波集成電路的發(fā)展動(dòng)態(tài),綜述了以美國DARPA為代表的國內(nèi)外機(jī)構(gòu)在射頻微系統(tǒng)方面的重大研究計(jì)劃及其水平,和射頻微系統(tǒng)在通信、雷達(dá)、相控陣等領(lǐng)域的代表性應(yīng)用,并總結(jié)了射頻微系統(tǒng)互連、仿真與優(yōu)化和集成架構(gòu)設(shè)計(jì)等三個(gè)關(guān)鍵技術(shù)及其進(jìn)展情況,最后對(duì)射頻微系統(tǒng)今后的發(fā)展趨勢(shì)做出了展望。
Chrent引言小型化是微波毫米波集成電路與系統(tǒng)發(fā)展的必然趨勢(shì),而集成技術(shù)是必由之路。20世紀(jì)40年代雷達(dá)的出現(xiàn)推動(dòng)了微波電路的迅猛發(fā)展,出現(xiàn)了以波導(dǎo)分離立體電路為代表的第一代微波集成電路(如圖1所示)。隨著60年代低損耗平面?zhèn)鬏敿夹g(shù)的發(fā)展,實(shí)現(xiàn)了單層介質(zhì)基板集成電路,形成了以平面微波混合集成電路(HMIC)為代表的第二代微波集成電路,提高了性能和可靠性的同時(shí)減小了體積和重量。到70年代,依托砷化鎵等半導(dǎo)體芯片技術(shù)的突破發(fā)展,微波單片集成電路技術(shù)(MMIC)以其低成本、高性能、小型化等優(yōu)勢(shì),成為了第三代微波集成電路高速發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)。同時(shí),低損耗多層復(fù)合介質(zhì)電路板和厚膜工藝技術(shù)的發(fā)展,使得無源電路實(shí)現(xiàn)多層布局結(jié)構(gòu),與MMIC芯片集成后的多芯片組件(MCM)進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)了微波電路的小型化。
20世紀(jì)90年代末,美國國防部高級(jí)研究計(jì)劃局(DARPA)率先提出采用異構(gòu)集成技術(shù)將微電子器件、光電子器件和微機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)器件集成,形成微型化異構(gòu)集成電路。此后,隨著異質(zhì)半導(dǎo)體外延技術(shù)和硅通孔(TSV)為代表的垂直互連技術(shù)的突破,以片上系統(tǒng)(SoC)和系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP)為代表的第四代微波集成電路得到了快速發(fā)展。該技術(shù)可將無源電路和有源電路在中間層上進(jìn)行布線和打孔的2.5維(2.5D)或者在芯片上打孔和重布線(RDL)的3維(3D)集成方式進(jìn)行,不僅實(shí)現(xiàn)了微波電路從小型化到微型化的跨越,且在功能集成度上有著明顯的提升,因此第四代微波集成電路也被稱為射頻微系統(tǒng)。
SoC技術(shù)具有最優(yōu)的尺寸、重量和功耗(SWaP),然而在輸出功率、噪聲系數(shù)和成本等方面仍存在諸多瓶頸。SiP技術(shù)則采用封裝把不同功能的芯片進(jìn)行高維度集成,融合了HMIC和MMIC的優(yōu)點(diǎn),設(shè)計(jì)更為靈活。射頻微系統(tǒng)的典型概念是采用異質(zhì)異構(gòu)集成工藝,將射頻前端功能模塊(例如變頻、接收、發(fā)射、天線等)進(jìn)行2.5D/3D集成的微波電路,其小型化、低成本、多功能等優(yōu)點(diǎn)在電子戰(zhàn)、新一代移動(dòng)通信、物聯(lián)網(wǎng)、汽車?yán)走_(dá)、可穿戴等民用領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景。
圖1微波集成電路發(fā)展歷程
Chrent國內(nèi)外射頻微系統(tǒng)研究現(xiàn)狀異質(zhì)異構(gòu)集成中的“異構(gòu)”集成側(cè)重“多片”,將不同工藝單獨(dú)制造的部件(芯片、組件等)通過TSV、RDL和微凸點(diǎn)銅柱等工藝進(jìn)行系統(tǒng)集成;而“異質(zhì)”集成側(cè)重“單片”,強(qiáng)調(diào)的是通過異質(zhì)外延生長(zhǎng)方式,將不同半導(dǎo)體材料,如硅(Si)、砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)、氮化鎵(GaN)等在一個(gè)襯底上形成單片集成電路。
美國DARPA成立了微系統(tǒng)技術(shù)辦公室(MTO)重點(diǎn)發(fā)展集成微系統(tǒng)技術(shù),在射頻微系統(tǒng)領(lǐng)域布局了一系列的研究計(jì)劃(如圖2所示)。2006年DARPA啟動(dòng)了“用于可重構(gòu)收發(fā)機(jī)的可擴(kuò)展毫米波架構(gòu)(SMART)”項(xiàng)目,其目標(biāo)是通過毫米波收發(fā)機(jī)架構(gòu)設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)微型化和高功率,到2010年實(shí)現(xiàn)5W/cm2的功率密度。同年啟動(dòng)的“三維微電磁射頻系統(tǒng)(3D-MERFS)”項(xiàng)目擬通過MEMS印刷電路板技術(shù)改進(jìn)射頻系統(tǒng)的性能。
為進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)射頻系統(tǒng)的微型化,DARPA又開展了異質(zhì)集成射頻微系統(tǒng)研究。2007年DARPA啟動(dòng)“硅上化合物半導(dǎo)體材料(COSMOS)”項(xiàng)目,目標(biāo)是采用互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)工藝在Si上異質(zhì)集成多種化合物半導(dǎo)體晶體管,突破了SiCMOS與InP異質(zhì)結(jié)雙極晶體管(HBT)兩種器件工藝的異質(zhì)集成。2013年DARPA啟動(dòng)了“多樣化異質(zhì)異構(gòu)集成”(DAHI)項(xiàng)目,不僅開發(fā)了多種工藝集成技術(shù),并實(shí)現(xiàn)了相應(yīng)的工藝套件(PDK)和仿真平臺(tái)。Northrop Grumman公司依靠該平臺(tái)實(shí)現(xiàn)了InP HBT和GaN高電子遷移率晶體管(HEMT)在Si CMOS上的異質(zhì)集成,首次實(shí)現(xiàn)三種半導(dǎo)體工藝的異質(zhì)集成,將原本的Si基混頻器的輸出功率從8mW提高到3.4W。2017年DARPA啟動(dòng)了“電子復(fù)興計(jì)劃(ERI 1.0)”,包含了三維單片集成微系統(tǒng)等項(xiàng)目,可進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)微型化。
圖2DARPA射頻微系統(tǒng)相關(guān)重點(diǎn)計(jì)劃
隨著系統(tǒng)集成復(fù)雜度的提高和工藝節(jié)點(diǎn)的進(jìn)一步縮小,電路設(shè)計(jì)面臨著成本高、良率低、可靠性差等問題。對(duì)此,DARPA在2017年啟動(dòng)了“通用異構(gòu)集成及知識(shí)產(chǎn)權(quán)復(fù)用策略(CHIPS)”項(xiàng)目。該項(xiàng)目意在通過混合和匹配即插即用式“芯?!保–hiplet)構(gòu)建一個(gè)模塊化雷達(dá)系統(tǒng),不僅可以通過減小芯片面積而降低半導(dǎo)體中的缺陷密度,從而提高良率和可靠性,還可以通過IP復(fù)用,降低設(shè)計(jì)成本。此后,DARPA加強(qiáng)了異質(zhì)異構(gòu)集成技術(shù)在射頻領(lǐng)域的應(yīng)用和平臺(tái)建設(shè)方面的支持力度,2018年提出了“毫米波數(shù)字陣列(MIDAS)”項(xiàng)目,發(fā)展18~50 GHz頻段的多波束數(shù)字相控陣技術(shù),采用三維異構(gòu)集成,降低了體積和重量,提高了數(shù)字毫米波收發(fā)器性能。2022年DARPA宣布設(shè)立“下一代微電子制造”(NGMM)研究項(xiàng)目,旨在創(chuàng)建一個(gè)三維異構(gòu)集成(3DHI)設(shè)計(jì)與工藝研究公共平臺(tái)。2023年,DARPA宣布將構(gòu)建3DHI微系統(tǒng)設(shè)計(jì)和制造研究中心,并啟動(dòng)電子復(fù)興計(jì)劃(ERI 2.0),為三維集成射頻微系統(tǒng)發(fā)展和應(yīng)用提供更加完善的平臺(tái)。
在歐洲方面,1987年歐洲的西門子、安奕極(AEG)、飛利浦和弗勞恩霍夫開始進(jìn)行3D集成技術(shù)的開發(fā)。在2006年歐洲啟動(dòng)了e-CUBES(electronic-cubes)項(xiàng)目,實(shí)現(xiàn)了面向整個(gè)歐洲的3D集成系統(tǒng)封裝(3D-SiP)平臺(tái)。在2007-2013年又啟動(dòng)了“最可靠的環(huán)境智能納米傳感系統(tǒng)(e-BRAINS)”項(xiàng)目,目的是整合3D集成與納米技術(shù),為下一代異質(zhì)集成半導(dǎo)體技術(shù)開發(fā)提供更高效的解決方案。
射頻微系統(tǒng)主要分為不集成天線的前端收發(fā)組件(FEM)射頻微系統(tǒng)和集成了天線的前端(FE)射頻微系統(tǒng)。射頻微系統(tǒng)的輸出功率取決于功率放大器芯片,目前典型射頻放大器芯片的半導(dǎo)體材料有Si、GaAs、InP、GaN等。Si基放大器成本和集成度具有優(yōu)勢(shì),但輸出功率較小且噪聲大。InP和GaAs放大器具有噪聲系數(shù)低的優(yōu)勢(shì),適合用于低噪聲放大器,其中InP放大器在220 GHz以上頻率的輸出功率有較大優(yōu)勢(shì)。GaN器件因其高功率密度特性,已經(jīng)是射頻固態(tài)功放中的主流技術(shù),也是提升射頻微系統(tǒng)輸出功率的關(guān)鍵。
FE射頻微系統(tǒng)主要采用天線外集成(包括封裝上天線(AOP)片上天線(AOC))和天線內(nèi)集成(AiP)兩種方式實(shí)現(xiàn)天線與FEM射頻微系統(tǒng)的集成。由于天線尺寸與工作波長(zhǎng)成正比,再加上功放體積大、散熱困難等問題,低頻段(如L波段)的射頻微系統(tǒng)主要集中在FEM射頻微系統(tǒng),而FE射頻微系統(tǒng)主要集中在毫米波和太赫茲等頻段。2012年德國英飛凌采用了內(nèi)嵌晶圓級(jí)球柵陣列封裝(eWLB)首次實(shí)現(xiàn)了集成了77 GHz鍺硅(SiGe)4通道收發(fā)芯片和4個(gè)天線的FE射頻微系統(tǒng)(如圖3所示),采用RDL技術(shù)將天線集成在模組內(nèi)形成AiP,使得毫米波信號(hào)無需通過PCB板進(jìn)行傳輸,從而降低了互連引入的損耗,模塊體積為8×8mm2。
圖3基于eWLB工藝的77 GHz FE微系統(tǒng)
近年來,隨著射頻微系統(tǒng)技術(shù)的日趨成熟,已經(jīng)開始從基礎(chǔ)研究面向了應(yīng)用研究。2019年法國格勒諾布爾-阿爾卑斯大學(xué)針對(duì)下一代應(yīng)急通信提出了集成3D電感的高阻Si轉(zhuǎn)接板技術(shù),采用RDL和TSV工藝實(shí)現(xiàn)了集成功率放大器、可變?cè)鲆娣糯笃?/u>(VGA)、壓控振蕩器(VCO-PLL)和正交(IQ)調(diào)制器芯片的FEM微系統(tǒng)(如圖4所示),在實(shí)現(xiàn)小型化的同時(shí)滿足專業(yè)移動(dòng)電臺(tái)(PMR)和3GPP等雙模通信系統(tǒng)要求。
圖4SiP射頻微系統(tǒng)模組
在雷達(dá)應(yīng)用方面,2021年中電科38所設(shè)計(jì)了一款76~81 GHz的調(diào)頻連續(xù)波(FMCW)多輸入多輸出(MIMO)雷達(dá)(如圖5所示)。該雷達(dá)采用了埋入玻璃扇出(eGFO)工藝,集成了2個(gè)發(fā)射天線和8個(gè)接收天線,典型輸出功率為14.5 dBm,在多饋源虛擬陣下提升了7.5 dB的等效各向同性輻射功率(EIRP)。2022年上海交通大學(xué)基于苯并環(huán)丁烯(BCB)將X波段硅基鎖相環(huán)芯片、W波段SiGe毫米波芯片、GaN功率放大芯片、電容、TaN電阻和濾波器等無源元件進(jìn)行集成(如圖6所示),輸出功率達(dá)到22 dBm,整體體積僅為60×40×8mm3。
圖52×8 MMIO eGFO封裝AiP
針對(duì)大陣面相控陣系統(tǒng),雷神公司提出了可擴(kuò)展的瓦片式FEM射頻微系統(tǒng)(如圖7所示)。該組件由4×4個(gè)單元組成,基于BCB的RDL和TSV轉(zhuǎn)接板將高效率InP功放、InGaAs低噪聲放大器和32通道的CMOS收發(fā)專用集成電路(ASIC)數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)化芯片進(jìn)行集成,在18~50 GHz發(fā)射功率大于3 dBm,接收支路增益可調(diào)范圍9~25 dB。
圖694 GHz FMCW射頻前端(含電源)
圖7可擴(kuò)展集成架構(gòu)
Chrent射頻微系統(tǒng)關(guān)鍵技術(shù)及其發(fā)展現(xiàn)狀2.1射頻微系統(tǒng)互連
射頻微系統(tǒng)的互連作為連接其中不同電路和組件的紐帶,對(duì)系統(tǒng)性能有著重要影響,主要技術(shù)指標(biāo)包括傳輸損耗、駐波、帶寬、隔離度等。
在TSV互連中,轉(zhuǎn)接板通常采用高阻Si。2008年南洋理工大學(xué)研究了基于傳統(tǒng)銅插入式互連與同軸式TSV互連兩種結(jié)構(gòu)形式,實(shí)測(cè)表明基于高阻Si的同軸結(jié)構(gòu)TSV互連(介質(zhì)采用SU-8)在10 GHz下具有更低的損耗(0.33 dB/mm)和駐波特性。與TSV相比,基于更高體電阻率、更低介電常數(shù)的玻璃通孔(TGV)可以實(shí)現(xiàn)更低的傳輸損耗。2018年瑞典皇家理工學(xué)院提出一種共形金屬電鍍工藝(如圖8所示),實(shí)現(xiàn)的TGV通孔在10 GHz的插入損耗僅為0.14 dB/mm。
隨著工作頻率的進(jìn)一步升高,傳輸線的導(dǎo)體損耗、寄生電容等寄生參數(shù)效應(yīng)變大。2015年瑞典皇家理工學(xué)院采用一種可實(shí)現(xiàn)高深寬比的磁自組裝TSV工藝。該工藝采用比SiO2/Si3N4更低介電常數(shù)和低楊氏模量的BCB材料充當(dāng)絕緣層,實(shí)現(xiàn)了DC~86 GHz帶寬互連,75 GHz下插損為2.12 dB/mm。2020年德國IHP萊布尼茨創(chuàng)新微電子研究所制備了一種BiCMOS內(nèi)嵌的環(huán)形TSV結(jié)構(gòu)(如圖9所示),在240 GHz和300 GHz處可以實(shí)現(xiàn)優(yōu)于0.83 dB和0.94 dB的插損。
圖8傳統(tǒng)TGV與共形金屬電鍍TGV
圖9BiCMOS內(nèi)嵌TSV結(jié)構(gòu)
射頻微系統(tǒng)中互連與互連、互連與有源器件的電磁耦合效應(yīng)對(duì)電路性能(特別是信號(hào)完整性)有著重要的影響,需要考慮傳輸線的隔離度。為減少串?dāng)_,一方面可從集成架構(gòu)上考慮,例如采用周期性結(jié)構(gòu)(EBG)進(jìn)行分塊功能的隔離;另一方面,從互連線本身出發(fā),設(shè)計(jì)高隔離的互連結(jié)構(gòu)。2011年韓國科學(xué)技術(shù)院(KAIST)針對(duì)TSV互連提出了一種保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu)(如圖10所示),可以將穿過絕緣層的泄露電流經(jīng)過接地的保護(hù)環(huán)從而降低串?dāng)_噪聲。該結(jié)構(gòu)在1 GHz處耦合噪聲幅值降低了53.5%,在0~20 GHz改善隔離10 dB以上。2020年西安電子科技大學(xué)提出了一種六邊形硅通孔接地屏蔽結(jié)構(gòu),通過將屏蔽通孔接地,電磁場(chǎng)被限制在中心導(dǎo)體和屏蔽通孔之間從而降低損耗,相較傳統(tǒng)G-S TSV分布結(jié)構(gòu),在0~20 GHz范圍內(nèi)串?dāng)_優(yōu)化15 dB。
2.2射頻微系統(tǒng)仿真與優(yōu)化
隨著射頻微系統(tǒng)中芯片和互連集成密度的提高,電路內(nèi)部的電磁、熱、力、流等多物理場(chǎng)耦合效應(yīng)更加突出,導(dǎo)致電磁兼容和可靠性問題成為應(yīng)用的瓶頸。此外,系統(tǒng)中的尺度涵蓋10-9~10-1m,跨尺度的計(jì)算進(jìn)一步加劇了射頻微系統(tǒng)的仿真效率,因此如何在多場(chǎng)-多尺度下開展射頻電路高效率仿真成為射頻微系統(tǒng)設(shè)計(jì)的關(guān)鍵。
圖11為射頻微系統(tǒng)中多物理場(chǎng)之間的耦合關(guān)系。電磁場(chǎng)與熱場(chǎng)間耦合效應(yīng)主要由兩方面構(gòu)成:一方面是材料與半導(dǎo)體器件在電磁場(chǎng)作用下產(chǎn)生焦耳熱;另一方面由于溫度的變化導(dǎo)致材料的電導(dǎo)率、介電常數(shù)、載流子遷移率產(chǎn)生變化,在影響材料和半導(dǎo)體器件性能的同時(shí)也產(chǎn)生了焦耳熱,從而形成一種互耦關(guān)系。熱場(chǎng)與力場(chǎng)的耦合效應(yīng)是因?yàn)椴牧系臒崤蛎浥c熱效應(yīng)有關(guān),因此溫度會(huì)改變材料的體積和位移,從而改變異構(gòu)異質(zhì)材料間的應(yīng)力,導(dǎo)致形變。形變一方面會(huì)導(dǎo)致材料和器件電磁特性的變化,另一方面會(huì)產(chǎn)生材料間的應(yīng)力失配而產(chǎn)生裂紋甚至斷裂等問題。此外,射頻微系統(tǒng)中為降低系統(tǒng)溫度,部分電路會(huì)引入流體散熱等主動(dòng)散熱技術(shù)。微流道速度和流量對(duì)溫度調(diào)節(jié)效果顯著,但流速和流量的不同對(duì)流道的壓力也不同,因此在降低溫度的同時(shí)也帶了新的應(yīng)力。
圖10保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu)及其等效電路模型
圖11射頻微系統(tǒng)中多物理場(chǎng)耦合關(guān)系
目前主流的多物理場(chǎng)耦合仿真平臺(tái)有兩大類型一種是采用直接耦合求解方法(緊耦合,例如COMSOL),直接聯(lián)立求解所有場(chǎng)方程;另一種是間接耦合求解方法(松耦合,例如ANSYS),先對(duì)每一個(gè)場(chǎng)單獨(dú)求解,然后將求解結(jié)果代入到下一個(gè)場(chǎng)進(jìn)行求解,完成所有場(chǎng)求解后迭代直至所有場(chǎng)的解收斂。2018年上海交通大學(xué)針對(duì)無源和有源器件進(jìn)行了電-熱耦合計(jì)算和仿真,并開發(fā)了多場(chǎng)耦合仿真軟件。無論是緊耦合還是松耦合的求解方案,其本質(zhì)均為基于有限元方法進(jìn)行微分方程和偏微分方程的求解,求解依賴網(wǎng)格劃分的精度。射頻微系統(tǒng)幾何尺度跨度大,內(nèi)部元器件眾多,其RDL、TSV等與芯片、封裝、PCB、腔體等結(jié)構(gòu)比最大可達(dá)到1∶50000,為得到精確的仿真結(jié)果需要大量的仿真資源和計(jì)算時(shí)間。
對(duì)此,近年來模型驅(qū)動(dòng)的多物理場(chǎng)仿真技術(shù)以其仿真計(jì)算效率高的特點(diǎn)獲得了關(guān)注。2013年法國THALES構(gòu)建了一套協(xié)同設(shè)計(jì)平臺(tái),可實(shí)現(xiàn)數(shù)字、電磁、電路、熱的多專業(yè)協(xié)同設(shè)計(jì),以及從晶體管-組件-系統(tǒng)的跨層級(jí)仿真(如圖12所示)。2016年DARPA在DAHI項(xiàng)目下也形成了一套系統(tǒng)、功能單元、基礎(chǔ)工藝的協(xié)同設(shè)計(jì)方法,其軟件平臺(tái)已成熟應(yīng)用。2021年電子科技大學(xué)對(duì)射頻微系統(tǒng)互連結(jié)構(gòu)開展多場(chǎng)耦合可靠性研究,并研制了一款射頻微系統(tǒng)可靠性分析軟件,通過建立封裝可靠性模型,提高計(jì)算效率。2022年中電科55所通過器件級(jí)熱仿真、電路級(jí)仿真和系統(tǒng)級(jí)仿真相結(jié)合的方法進(jìn)行了超寬帶射頻微系統(tǒng)熱電設(shè)計(jì)。
圖12法國THALES多場(chǎng)協(xié)同設(shè)計(jì)方案
2.3射頻微系統(tǒng)集成架構(gòu)設(shè)計(jì)
射頻微系統(tǒng)的集成架構(gòu)設(shè)計(jì)主要指堆疊結(jié)構(gòu)和電路布版,除考慮系統(tǒng)性能、體積和成本外,還需重點(diǎn)考慮高效散熱和集成天線。
隨著集成度的提高,熱流密度也隨之增大,因此設(shè)計(jì)高效散熱的集成架構(gòu)是射頻微系統(tǒng)需要關(guān)注的重點(diǎn)之一。典型的散熱技術(shù)有采用高導(dǎo)熱材料的被動(dòng)散熱和采用微流道的主動(dòng)散熱技術(shù)。2021年中電科55所基于硅基微流道散熱架構(gòu)提出了一款射頻FE微系統(tǒng)架構(gòu)(如圖13所示),內(nèi)置微流道的同時(shí)還在芯片下設(shè)置金屬柱陣列提高散熱效率。2023年北京大學(xué)提出了一種內(nèi)嵌微流道轉(zhuǎn)接板的優(yōu)化設(shè)計(jì)方法(如圖14所示)。該結(jié)構(gòu)包括三層,頂層是流道的蓋層,第二層是放置了三角形微針鰭陣列的硅基微流道層,大的微針鰭用于支撐,流道采用4進(jìn)2出方式以改善溫度均勻性,最下面一層是低溫共燒陶瓷(LTCC)基板,優(yōu)化后實(shí)現(xiàn)最大散熱能力達(dá)到1300 W/cm2,優(yōu)于圓形微針鰭陣列和S形結(jié)構(gòu)。
圖13硅基微流道FE射頻微系統(tǒng)
圖14基于內(nèi)嵌微流道轉(zhuǎn)接板4×4 FEM微系統(tǒng)
2019年美國科羅拉多大學(xué)提出了一種金屬嵌入式芯片(MECA)高效散熱集成技術(shù)(如圖15所示)。該技術(shù)將射頻芯片和氧化鋁基板無源器件內(nèi)嵌到銅金屬中,與沒有用MECA技術(shù)的裝配相比,MECA技術(shù)可使得GaN芯片在10 GHz下增益提升3 dB,效率增加3.2%。
圖15金屬嵌入式芯片結(jié)構(gòu)示意圖及其集成后實(shí)物照片
在FE射頻微系統(tǒng)上,其核心是如何實(shí)現(xiàn)AiP天線設(shè)計(jì)以及與芯片的互連。2013年新加坡微電子所設(shè)計(jì)了一種基于TSV互連的晶圓級(jí)封裝的AiP(如圖16所示),該天線采用基于TSV的兩層高阻Si堆疊,底層Si上是共面波導(dǎo)(CPW)饋電和槽線輻射器,頂層Si上放置了貼片用于改善增益和輻射效率,在76~93 GHz實(shí)現(xiàn)了2.4 dBi增益。
圖16基于TSV互連的晶圓級(jí)封裝的AiP
2023年,美國佐治亞理工學(xué)院提出了一種集成芯片的玻璃ABF樹脂基轉(zhuǎn)接板AiP技術(shù),該技術(shù)采用了交錯(cuò)介質(zhì)通孔結(jié)構(gòu),比傳統(tǒng)的金絲和倒裝互連具有更低的損耗,而且利用該技術(shù)還可以集成傳統(tǒng)熱沉而實(shí)現(xiàn)高效散熱(如圖17所示)。利用該技術(shù)實(shí)現(xiàn)了1×8 AiP貼片天線陣列,在D波段實(shí)現(xiàn)了11.6 dB的高增益。
圖17玻璃樹脂基FE射頻微系統(tǒng)
Chrent射頻微系統(tǒng)展望在互連方面,目前的性能水平基本上能夠滿足射頻微系統(tǒng)的需求。然而互連尺寸進(jìn)一步縮小可以增加射頻電路設(shè)計(jì)的靈活性,因此在微型化、低損耗和低成本方面仍是重要的發(fā)展方向。此外,微型化的同時(shí)也給可靠性帶來了新的挑戰(zhàn),但目前在可靠性方面的研究仍較少。在微型化、低損耗方面,目前有研究表明選用碳納米管(CNT)充當(dāng)導(dǎo)體材料,相較于傳統(tǒng)導(dǎo)體銅、鎢、鋁受高頻下的趨膚效應(yīng)影響小,整體性能均得到有效提升,同時(shí)碳納米管具有高熱導(dǎo)率和高載流能力,有利于提高系統(tǒng)整體的可靠性,但在制備工藝上仍有較高難度。
在散熱方面,隨著射頻微系統(tǒng)微型化的進(jìn)一步發(fā)展和高功率固態(tài)器件集成,使得射頻微系統(tǒng)的熱流密度進(jìn)一步提升,如何實(shí)現(xiàn)大功率、微型化的射頻微系統(tǒng)將是未來發(fā)展的難點(diǎn)之一。除了采用傳統(tǒng)Si基微流道和高效散熱集成架構(gòu)設(shè)計(jì),在高導(dǎo)熱新材料集成方面仍有很大的空間,例如近年來面向固態(tài)微波器件的金剛石散熱技術(shù)和金剛石微流道技術(shù)已經(jīng)取得較好的進(jìn)展,未來如能集成到射頻微系統(tǒng)工藝中,將有效提升射頻微系統(tǒng)的輸出功率。此外,智能熱管理技術(shù)的發(fā)展也將進(jìn)一步提升系統(tǒng)的散熱能力。
在仿真與優(yōu)化方面,高效仿真平臺(tái)對(duì)縮短研發(fā)周期、降低產(chǎn)品成本和提升電學(xué)與可靠性性能有著重要意義,但由于射頻微系統(tǒng)跨尺度、多層級(jí)、多物理場(chǎng)耦合的特殊性,實(shí)現(xiàn)高效的多場(chǎng)協(xié)同仿真仍是未來需重點(diǎn)解決的問題。近年來人工智能技術(shù)發(fā)展,有望推動(dòng)模型甚至數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)的新一代快速仿真方法。此外,在設(shè)計(jì)方面,隨著新材料和新器件的發(fā)展,未來射頻微系統(tǒng)的仿真將跨越到設(shè)計(jì)-工藝協(xié)同優(yōu)化(DTCO)和系統(tǒng)-工藝協(xié)同優(yōu)化(STCO)。
最后,隨著偵干探通一體化電子技術(shù)的發(fā)展,多功能一體化集成也是射頻微系統(tǒng)發(fā)展的趨勢(shì),除了在集成架構(gòu)方面,還需要對(duì)射頻微系統(tǒng)的電路設(shè)計(jì)架構(gòu)上延伸,滿足不同功能的可重構(gòu)和智能化。此外,射頻與光電、數(shù)字、模擬等集成接口及其標(biāo)準(zhǔn)化也是射頻微系統(tǒng)未來走向“芯?!奔尚枰紤]的內(nèi)容。
Chrent總結(jié)射頻微系統(tǒng)是微波電路與系統(tǒng)從小型化發(fā)展到微型化的標(biāo)志。高性能互連、高效仿真與優(yōu)化、高密度集成架構(gòu)等技術(shù)是射頻微系統(tǒng)進(jìn)一步發(fā)展和應(yīng)用的關(guān)鍵。隨著新材料、新型半導(dǎo)體器件、新工藝和新設(shè)計(jì)理論的發(fā)展,射頻微系統(tǒng)在工作頻率、輸出功率、集成度和成本等特性上仍將繼續(xù)突破,對(duì)小型化無人機(jī)、新一代戰(zhàn)機(jī)、航空航天、5G/6G移動(dòng)通信、衛(wèi)星通信、可穿戴裝備等對(duì)微型化要求較高的應(yīng)用場(chǎng)景有著巨大潛力。
文章摘自:《微波學(xué)報(bào)》
作者:徐銳敏,王歡鵬,徐躍杭
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