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美光日本廣島DRAM新廠預(yù)計(jì)2027年量產(chǎn)

CHANBAEK ? 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)整理 ? 2024-06-14 09:53 ? 次閱讀

全球知名DRAM大廠美光,早在去年就已宣布了其在日本廣島的重大投資計(jì)劃。據(jù)悉,美光計(jì)劃斥資6,000至8,000億日元,在廣島興建一座全新的DRAM工廠。這一項(xiàng)目預(yù)計(jì)將在2026年初破土動(dòng)工,最快有望在2027年底前完成廠房建設(shè)、機(jī)臺(tái)設(shè)備安裝,并正式投入營(yíng)運(yùn)。

新廠的選址頗具深意,將緊鄰美光已建成的Fab15工廠。這一地理位置的選擇不僅有利于資源的整合與共享,更能充分利用現(xiàn)有的基礎(chǔ)設(shè)施和供應(yīng)鏈網(wǎng)絡(luò),確保新廠建設(shè)的順利進(jìn)行。

據(jù)美光透露,新廠初期規(guī)劃主要聚焦于DRAM晶圓的生產(chǎn),暫不涉及后段的封裝及測(cè)試環(huán)節(jié)。而產(chǎn)能方面,將重點(diǎn)投向HBM(高帶寬內(nèi)存)產(chǎn)品,以滿足市場(chǎng)對(duì)高性能、大容量存儲(chǔ)器的不斷增長(zhǎng)的需求。

尤為值得一提的是,美光廣島DRAM新廠將首次引入極紫外光(EUV)光刻設(shè)備。這一技術(shù)的引入,將使得新廠能夠生產(chǎn)先進(jìn)的1-Gamma制程DRAM,并在后續(xù)逐步導(dǎo)入1-Delta制程。隨著制程技術(shù)的不斷升級(jí),EUV設(shè)備的安裝數(shù)量也將大幅增加,并將采用更多高標(biāo)準(zhǔn)的無(wú)塵室來(lái)確保生產(chǎn)環(huán)境的純凈度。

美光此次在日本廣島興建DRAM新廠,不僅是對(duì)其全球布局的一次重要補(bǔ)充,更是對(duì)先進(jìn)制程技術(shù)的一次大膽嘗試。隨著新廠的建成投產(chǎn),美光有望在DRAM市場(chǎng)上繼續(xù)保持領(lǐng)先地位,為全球客戶提供更優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和服務(wù)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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