近日，比利時(shí)微電子研究中心（IMEC）與全球光刻技術(shù)領(lǐng)軍企業(yè)阿斯麥（ASML）共同宣布，在荷蘭費(fèi)爾德霍芬正式啟用聯(lián)合High-NA EUV光刻實(shí)驗(yàn)室。
這一實(shí)驗(yàn)室的啟用標(biāo)志著High-NA EUV技術(shù)向大批量生產(chǎn)邁出了重要一步。實(shí)驗(yàn)室的核心設(shè)備為一臺(tái)先進(jìn)的原型高數(shù)值孔徑EUV掃描儀，以及與之相配套的一系列處理和計(jì)量工具。這些設(shè)備將用于研究、開發(fā)和驗(yàn)證High-NA EUV光刻技術(shù)，以滿足未來半導(dǎo)體制造對更高精度和更小尺寸的需求。
IMEC與阿斯麥的此次合作，不僅將推動(dòng)High-NA EUV技術(shù)的進(jìn)一步發(fā)展，還將為半導(dǎo)體行業(yè)帶來更加先進(jìn)的制造技術(shù)和解決方案。通過共同研發(fā)，雙方將致力于解決半導(dǎo)體制造中的技術(shù)難題，推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新和發(fā)展。
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