北京智芯微電子科技有限公司近期獲得了一項(xiàng)“芯片的三維建模方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)”專(zhuān)利權(quán),授權(quán)編號(hào)CN117556777B,最近公布日期為2024年5月28日,申請(qǐng)日期為2024年1月12日。
此項(xiàng)發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,主要內(nèi)容是提供一種芯片的三維建模方法、裝置、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)。具體步驟包括:首先獲取芯片的平面版圖,同時(shí)獲取芯片流片的層級(jí)信息與光罩信息;然后根據(jù)這些信息,確定平面版圖中芯片各層對(duì)應(yīng)的層級(jí)幾何參數(shù);接著通過(guò)邏輯運(yùn)算得出芯片的輕摻雜漏結(jié)構(gòu)的層級(jí)幾何參數(shù);最后綜合利用上述信息,對(duì)芯片進(jìn)行三維建模,生成包含輕摻雜漏結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)模塊的三維結(jié)構(gòu)模型。這種方法能夠精確構(gòu)建包含LDD區(qū)域的三維結(jié)構(gòu)模型,全面準(zhǔn)確地展現(xiàn)芯片的幾何結(jié)構(gòu),確保模型中器件電學(xué)性能及可靠性的準(zhǔn)確性,從而提高芯片仿真的精度。
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