目錄一、什么是掩膜版:定義、分類二、掩膜版制造加工工藝:關(guān)鍵參數(shù)量測(cè)及檢測(cè)三、掩膜版產(chǎn)業(yè)鏈:產(chǎn)業(yè)
發(fā)表于 06-07 05:59
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掩膜版作為微納加工技術(shù)中光刻工藝所使用的圖形母版,在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著信息技術(shù)和智能制造的快速發(fā)展,特別是智能手機(jī)、平板電腦、車載電子等市場(chǎng)的快速增長(zhǎng)
發(fā)表于 02-19 16:33
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正性光刻對(duì)掩膜版的要求主要包括以下幾個(gè)方面: 基板材料:掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩(wěn)定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料,因?yàn)樗哂休^低的熱膨脹系數(shù),能夠在溫度變化時(shí)保
發(fā)表于 02-17 11:42
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。 掩膜版對(duì)下游行業(yè)生產(chǎn)線的作用主要體現(xiàn)為,利用掩膜版上已設(shè)計(jì)好的圖案,通過透光與非透光的方式進(jìn)行圖像(電路圖形)復(fù)制,將電路圖案精確地轉(zhuǎn)移
發(fā)表于 01-02 13:46
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在正性光刻過程中,掩膜版(Photomask)作為圖形轉(zhuǎn)移的關(guān)鍵工具,其性能直接影響到最終圖形的精確度和質(zhì)量。以下是正性光刻對(duì)掩膜版的主要要求: 圖案準(zhǔn)確性 在正性光刻中,
發(fā)表于 12-20 14:34
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微流控SU8掩膜版的制作是一個(gè)復(fù)雜的工藝過程,涉及到多個(gè)步驟。以下是詳細(xì)的制作流程: 1. 掩膜版設(shè)計(jì) 原理圖設(shè)計(jì):根據(jù)微流控芯片的設(shè)計(jì)要求,進(jìn)行原理圖設(shè)計(jì),分析元件需接線方向,設(shè)計(jì)需
發(fā)表于 11-20 16:07
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光刻掩膜(也稱為光罩)和模具在微納加工技術(shù)中都起著重要的作用,但它們的功能和應(yīng)用有所不同。 光刻掩膜版 光刻掩
發(fā)表于 10-14 14:42
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想必大家都有所了解,光刻機(jī)對(duì)芯片制造的重要性,而光掩膜版又稱光罩,光掩膜等; 光掩膜版是由制造商
發(fā)表于 10-09 14:24
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使用計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)軟件來實(shí)現(xiàn)。設(shè)計(jì)好后,會(huì)生成一個(gè)掩模圖案的數(shù)據(jù)文件。 2. 選擇基板 選擇適當(dāng)?shù)幕宀牧鲜侵谱鞴饪?b class='flag-5'>掩膜的重要環(huán)節(jié)。常用的基板材料是石英或玻璃。基板應(yīng)該具有高透明度、低膨脹系數(shù)、高抗拉強(qiáng)度等特性。 3.
發(fā)表于 09-14 13:26
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在近期舉行的All-In Summit 2024活動(dòng)上,特斯拉CEO埃隆·馬斯克透露了公司AI技術(shù)發(fā)展的最新藍(lán)圖。他宣布,特斯拉下一代AI訓(xùn)練芯片——Dojo 2,預(yù)計(jì)將于2025年末實(shí)現(xiàn)批量裝備。這一消息彰顯了特斯拉在自動(dòng)駕駛
發(fā)表于 09-12 17:39
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掩膜版產(chǎn)品誕生至今約70多年,是電子制造行業(yè)中使用的生產(chǎn)制具。由于掩膜版技術(shù)演變較慢,下游運(yùn)用廣泛且不同行業(yè)對(duì)掩
發(fā)表于 09-10 14:00
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是作為設(shè)計(jì)圖形的載體,通過光刻過程將掩膜版上的設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上,再經(jīng)過刻蝕,將圖形刻到襯底上,從而實(shí)現(xiàn)圖形到硅片的轉(zhuǎn)移。掩膜版的精度和
發(fā)表于 09-06 14:09
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8月23日,據(jù)可靠消息稱,蘋果備受矚目的折疊式MacBook上市日期可能會(huì)延后到2027年末或者2028年初,主因在于技術(shù)挑戰(zhàn)。這一訊息出自蘋果知名分析師郭明錤的最新研判,其中明確提到該設(shè)備的開發(fā)過程中遭遇了諸多困難。
發(fā)表于 08-23 16:04
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半導(dǎo)體掩膜版制造工藝及流程 掩膜版(Photomask)又稱光罩,是液晶顯示器、半導(dǎo)體等制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具。光掩
發(fā)表于 08-19 13:20
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計(jì)算機(jī)圖形軟件設(shè)計(jì)微通道,?并將設(shè)計(jì)圖形轉(zhuǎn)換為圖形文件。?這些設(shè)計(jì)圖形隨后被用于指導(dǎo)掩膜版的制作。? 在制版階段,?設(shè)計(jì)好的圖形通過直寫光刻設(shè)備(?如激光直寫光刻機(jī)或電子束光刻機(jī))?在玻璃/石英基片上形成
發(fā)表于 08-08 14:56
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評(píng)論