近日,希捷公司與日本的兩家科研單位——日本國立材料研究所(NIMS)及日本東北大學(xué)聯(lián)手,開發(fā)出一種名為多級堆棧的技術(shù),預(yù)計十至十五年后,該技術(shù)將實現(xiàn)120TB以上的硬盤存儲量。
其關(guān)鍵手段是應(yīng)用熱輔助磁記錄 (HAMR) 技術(shù),這一技術(shù)的運用與傳統(tǒng)的垂直磁記錄 (PMR) 技術(shù)相比,可使磁盤的磁區(qū)密度和存儲能力翻番。
此次,希捷與合作伙伴共同研發(fā)了多級熱輔助記錄技術(shù),并已成功驗證了在雙層顆粒介質(zhì)上重復(fù)進行磁記錄的可能性。
他們建造了一種獨特的顆粒介質(zhì),這種介質(zhì)由兩層FePt-C納米顆粒薄膜組成,中間包含具有立方晶體結(jié)構(gòu)的Ru-C間隔層,使得每一層都能夠獨立記錄其對應(yīng)的周圍磁場和溫度變化。
換言之,在不改變磁層材料的基礎(chǔ)上,他們成功地將存儲密度和存儲容量提升到了原來的兩倍。
這項突破性的成果,得益于他們發(fā)現(xiàn)的一種新型顆粒介質(zhì):兩層FePT膜之間用Ru-C間隔層分開。這種介質(zhì)可在溫度和磁場條件變化時,各自記錄不同的信息。
此外,研究者還發(fā)現(xiàn),通過調(diào)節(jié)寫入激光能量和磁場強度,可以獨立控制雙層FePT膜,從而有效提高記錄密度。他們預(yù)測,利用雙層顆粒介質(zhì),記錄密度可以達到驚人的10 Tbit/in^2,因此,10塊這樣的硬盤合并起來就能實現(xiàn)超過120 TB的總?cè)萘俊?/p>
更令人振奮的是,研究者表示,熱輔助磁記憶技術(shù)的磁性測試和模擬結(jié)果顯示,多級HAMR介質(zhì)理論上最多可以支持到三級甚至四級的記錄方式。
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