在下周四(4月18日),臺(tái)積電預(yù)計(jì)召開法說(shuō)會(huì)。此前,市場(chǎng)曾對(duì)其年度資本支出上漲有所揣測(cè)。然而,據(jù)最新供應(yīng)鏈信息顯示,臺(tái)積電今年的資本支出極可能維持在上季度透露的280億美元至320億美元這一區(qū)間內(nèi),既無(wú)漲幅亦不會(huì)下跌,預(yù)計(jì)實(shí)際數(shù)額將會(huì)接近高標(biāo)320億美元。
業(yè)內(nèi)專家普遍認(rèn)為,鑒于臺(tái)積電能效計(jì)算(HPC)和AI業(yè)務(wù)需求增長(zhǎng)迅猛以及先進(jìn)制程產(chǎn)能利用率提升,但3納米和5納米等相關(guān)系列產(chǎn)品所依賴的設(shè)備機(jī)器大部分都可共享使用,故而投資額較大部分將投入到先進(jìn)封裝和2納米先進(jìn)制程技術(shù)研究領(lǐng)域;因此,盡管制程材料成本不斷攀升,今年的資本支出仍無(wú)明顯調(diào)整。
臺(tái)積電早前在1月份的法說(shuō)會(huì)上明確表示,2024年資本支出范圍為280億美元至320億美元,其中70%至80%預(yù)留給先進(jìn)制程技術(shù),10%至20%用于特殊制程技術(shù),其余10%則投向先進(jìn)封裝、測(cè)試、光罩制作以及其他項(xiàng)目。
需要注意的是,2023年臺(tái)積電實(shí)際資本支出為304.5億美元,低于預(yù)期仍能達(dá)到的320億美元底線;雖然未達(dá)標(biāo),引起了市場(chǎng)廣泛討論。據(jù)分析,此情況主要是因?yàn)槌鲇趯?duì)市場(chǎng)短期不確定性的擔(dān)憂,適度收縮資本支出所致。
據(jù)相關(guān)人士預(yù)測(cè),今年臺(tái)積電實(shí)際資本支出有望達(dá)到305億美元至320億美元左右,相當(dāng)于前期公布的年度資本支出目標(biāo)的上限。具體數(shù)量,尚需等待臺(tái)積電本周四(4月18日)法說(shuō)會(huì)的正式發(fā)布。
-
臺(tái)積電
+關(guān)注
關(guān)注
44文章
5650瀏覽量
166633 -
3納米
+關(guān)注
關(guān)注
0文章
32瀏覽量
5175 -
先進(jìn)封裝
+關(guān)注
關(guān)注
2文章
413瀏覽量
254
發(fā)布評(píng)論請(qǐng)先 登錄
相關(guān)推薦
評(píng)論