引言:EV和充電樁將成為IGBT和MOSFET最大單一產(chǎn)業(yè)鏈?zhǔn)袌觯V中的電機(jī)控制系統(tǒng)、引擎控制系統(tǒng)、車身控制系統(tǒng)均需使用大量的半導(dǎo)體功率器件,它的普及為汽車功率半導(dǎo)體市場打開了增長的窗口。充電樁中決定充電效率和能量轉(zhuǎn)化的關(guān)鍵元件是IGBT和MOSFET。在各類半導(dǎo)體功率器件中,未來增長最強(qiáng)勁的產(chǎn)品將是MOSFET與IGBT模塊。
MOSFET和IGBT區(qū)別以下內(nèi)容主要是關(guān)于MOSFET和IGBT的區(qū)別,包括它們各自的優(yōu)缺點(diǎn)和結(jié)構(gòu)差異,如何選擇MOSFET或IGBT等。另外,二極管恢復(fù)性能是決定MOSFET或IGBT通態(tài)開關(guān)的首要因素?fù)p耗,因此還討論了二極管恢復(fù)對硬開關(guān)拓?fù)涞挠绊憽?/span>
MOSFET和IGBT的概念
場效應(yīng)管主要有兩種類型,分別是結(jié)型場效應(yīng)管(JFET)和絕緣柵場效應(yīng)管(MOS管)。
MOS管即MOSFET,中文全稱是金屬-氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管,由于這種場效應(yīng)管的柵極被絕緣層隔離,所以又叫絕緣柵場效應(yīng)管。MOSFET又可分為N溝耗盡型和增強(qiáng)型;P溝耗盡型和增強(qiáng)型四大類。
IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor),絕緣柵雙極型晶體管,是由晶體三極管和MOS管組成的復(fù)合型半導(dǎo)體器件。
IGBT作為新型電子半導(dǎo)體器件,具有輸入阻抗高,電壓控制功耗低,控制電路簡單,耐高壓,承受電流大等特性,在各種電子電路中獲得極廣泛的應(yīng)用。
二、MOSFET和IGBT的功率區(qū)別
IGBT可以提供很大的功率、電流和電壓,但是頻率并不太高。目前的IGBT硬開關(guān)速度可以達(dá)到100KHZ,已經(jīng)不錯了。但是,相對于MOSFET的工作頻率來說還是杯水車薪,MOSFET可以工作到幾百KHZ、MHZ,甚至幾十MHZ的射頻產(chǎn)品。
MOSFET VS IGBT
三、MOSFET和IGBT的優(yōu)缺點(diǎn)
3.1 MOSFET
MOSFET 是一個三端(柵極、漏極和源極)全控開關(guān)。柵極/控制信號發(fā)生在柵極和源極之間,其開關(guān)端為漏極和源極。柵極本身由金屬制成,使用金屬氧化物與源極和漏極分開。這可以減少功耗,并使晶體管成為用作電子開關(guān)或共源放大器的絕佳選擇。
為了正常工作,MOSFET 必須保持正溫度系數(shù)。這意味著幾乎沒有熱失控的機(jī)會。通態(tài)損耗較低,因?yàn)槔碚撋暇w管的通態(tài)電阻沒有限制。此外,由于 MOSFET 可以在高頻下工作,它們可以執(zhí)行快速開關(guān)應(yīng)用而關(guān)斷損耗很小。
MOSFET 的種類很多,但最能與 IGBT 相媲美的是功率 MOSFET。它專為處理重要的功率水平而設(shè)計(jì)。它們僅在“開”或“關(guān)”狀態(tài)下使用,這導(dǎo)致它們成為使用最廣泛的低壓開關(guān)。與 IGBT 相比,功率 MOSFET 在低電壓工作時具有換流速度更快和效率更高的優(yōu)點(diǎn)。
更重要的是,它可以維持高阻斷電壓并保持高電流。這是因?yàn)榇蠖鄶?shù)功率 MOSFET 結(jié)構(gòu)都是垂直的(不是平面的)。它的額定電壓是N-外延層的摻雜和厚度的直接函數(shù),它的額定電流與溝道的寬度有關(guān)(溝道越寬,電流越高)。由于其效率,功率 MOSFET 用于電源、dc/dc 轉(zhuǎn)換器和低壓電機(jī)控制器。
3.2 IGBT
IGBT也是一個三端(柵極、集電極和發(fā)射極)全控開關(guān)。它的柵極/控制信號發(fā)生在柵極和發(fā)射極之間,其開關(guān)端子是漏極和發(fā)射極。它結(jié)合了 MOSFET 中的簡單柵極驅(qū)動特性和雙極晶體管的高電流和低飽和電壓能力。它通過使用隔離柵場效應(yīng)晶體管作為控制輸入,使用雙極功率晶體管作為開關(guān)來實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)。
更重要的是,IGBT專門設(shè)計(jì)用于快速開啟和關(guān)閉。事實(shí)上,它的脈沖重復(fù)頻率實(shí)際上進(jìn)入了超聲波范圍。這種獨(dú)特的能力是為什么 IGBT 經(jīng)常與放大器一起使用,以利用脈寬調(diào)制和低通濾波器合成復(fù)雜波形。它們還用于在粒子和等離子體物理學(xué)等領(lǐng)域產(chǎn)生大功率脈沖,并在電動汽車、火車、變速冰箱、空調(diào)等現(xiàn)代電器中發(fā)揮作用。更多詳細(xì)信息,請參閱本文“ MOSFET 與 IGBT ”。
四、MOSFET和IGBT的應(yīng)用特點(diǎn)
至于它的應(yīng)用,根據(jù)它的特點(diǎn):MOSFET用于開關(guān)電源(可以看這篇論文《大功率可調(diào)開關(guān)電源的工作原理》,鎮(zhèn)流器,高頻感應(yīng)加熱,高頻逆變焊接機(jī)、通訊電源等高頻電源,IGBT專注于焊接、逆變器、逆變器、電鍍電源、超音頻感應(yīng)加熱等領(lǐng)域。
開關(guān)電源 (SMPS) 的性能在很大程度上取決于功率半導(dǎo)體器件的選擇,即開關(guān)和整流器。
MOSFET開關(guān)電源
雖然對于選擇 IGBT 或 MOSFET 的問題并沒有全面的解決方案,但比較 IGBT 和 MOSFET 在具體 SMPS 應(yīng)用中的性能,仍然可以確定關(guān)鍵參數(shù)的范圍。
MOSFET 和 IGBT 中的 V 傳導(dǎo)損耗
除了 IGBT 壓降更長之外,IGBT 和功率 MOSFET 的導(dǎo)通特性非常相似。從基本的 IGBT 等效電路(見圖 1)可以看出,PNP BJT 集電極基區(qū)的少數(shù)載流子完全調(diào)整所需的時間導(dǎo)致電壓拖尾電壓的出現(xiàn)。
圖 1:IGBT 等效電路
這種延遲會導(dǎo)致準(zhǔn)飽和效應(yīng),因此集電極/發(fā)射極電壓不會立即降至其 VCE (sat) 值。當(dāng)負(fù)載電流從封裝的并聯(lián)、反并聯(lián)二極管切換到 IGBT 的集電極時,這種效應(yīng)還會導(dǎo)致 ZVS 情況下的 VCE 電壓升高。
IGBT 數(shù)據(jù)表中列出的 Eon 能耗是每個轉(zhuǎn)換周期的 Icollector 和 VCE 乘積的時間積分,單位為焦耳,并且包含與等級飽和相關(guān)的額外損耗。它進(jìn)一步分為兩個Eon能量參數(shù),Eon1和Eon2。Eon1 不包括與硬開關(guān)二極管損耗相關(guān)的功率損耗,而 Eon2 包括與二極管恢復(fù)相關(guān)的硬開關(guān)開通能量,可以通過恢復(fù)與二極管封裝二極管相同的二極管來測量。
通常,Eon2 測試電路如圖 2 所示。IGBT 通過使用兩個脈沖打開和關(guān)閉來測量 Eon。第一個脈沖將增加電感電流以達(dá)到所需的測試電流,然后第二個脈沖將測量測試電流在二極管上恢復(fù)時的 Eon 損耗。
圖 2:典型的導(dǎo)通能量 Eon 和關(guān)斷能量 Eoff 測試電路
Eon 開關(guān)損耗由柵極驅(qū)動電壓和阻抗以及硬開關(guān)導(dǎo)通時整流二極管的恢復(fù)特性決定。對于傳統(tǒng)的CCM升壓PFC電路,升壓二極管恢復(fù)特性在Eon(on)能耗控制中極為重要。除了選擇具有最小 Trr 和 QRR 的升壓二極管外,確保二極管具有軟恢復(fù)特性也很重要。柔軟度,即 tb / ta 的比率,對開關(guān)器件產(chǎn)生的電噪聲和電壓尖峰有相當(dāng)大的影響。
一些高速二極管在時間 tb 期間 IRM (REC) 的電流下降率 (di/dt) 很高,從而在電路的寄生電感中產(chǎn)生高電壓尖峰。這些電壓尖峰會導(dǎo)致電磁干擾 (EMI),并可能導(dǎo)致二極管上的反向電壓過高。
在全橋和半橋拓?fù)涞扔?a href="http://wenjunhu.com/soft/data/4-15/" target="_blank">開關(guān)電路中,采用 IGBT 封裝的封裝是快速恢復(fù)晶體管或 MOSFET 體二極管。當(dāng)相應(yīng)的開關(guān)導(dǎo)通時,二極管有電流流過,二極管的恢復(fù)特性決定了Eon損耗。因此,選擇具有快速體二極管恢復(fù)特性的 MOSFET 非常重要。不幸的是,MOSFET的寄生二極管或體二極管的恢復(fù)特性比目前業(yè)界使用的分立二極管要慢。因此,對于硬開關(guān) MOSFET 應(yīng)用,體二極管通常是決定 SMPS 工作頻率的限制因素。
通常,選擇 IGBT 封裝二極管以匹配其應(yīng)用,具有較低正向傳導(dǎo)損耗的較慢超快二極管和較慢的低 VCE (sat) 電機(jī)驅(qū)動 IGBT 封裝。相比之下,軟恢復(fù)超快二極管可以與高頻 SMPS2 開關(guān)模式 IGBT 組合進(jìn)行封裝。除了選擇合適的二極管外,設(shè)計(jì)人員還可以通過調(diào)整柵極驅(qū)動導(dǎo)通源阻抗來控制 Eon 損耗。降低驅(qū)動源阻抗將增加 IGBT 或 MOSFET 的開/關(guān)并降低 Eon 損耗。Eon 損耗和 EMI 需要妥協(xié),因?yàn)楦叩?di/dt 會導(dǎo)致電壓尖峰,增加輻射和傳導(dǎo) EMI。為了選擇正確的柵極驅(qū)動阻抗以滿足開通 di/dt 要求,可能需要對電路進(jìn)行內(nèi)部測試和驗(yàn)證。
圖 3:MOSFET 傳輸特性
假設(shè) FET 電流在導(dǎo)通時上升到 10 A,則柵極電壓必須從 5.2 V 過渡到 6.7 V,才能根據(jù)圖 3 中 25 °C 時的曲線達(dá)到 10 A 的值,平均 GFS 為 10 A / (6.7 V- 5.2V) = 6.7mΩ。
等式 1 得出所需 on di / dt 的柵極驅(qū)動阻抗
將平均 GFS 值應(yīng)用于公式 1 會導(dǎo)致柵極驅(qū)動電壓 Vdrive = 10V,所需的 di / dt = 600A / μs,F(xiàn)CP11N60 的 VGS (avg) = 6V 和 Ciss = 1200pF 的典型值;柵極驅(qū)動阻抗為 37Ω。由于瞬態(tài) GFS 值在圖 3 的圖表中是一條對角線,因此在 Eon 期間會發(fā)生變化,這意味著 di / dt 也會發(fā)生變化。指數(shù)衰減的柵極驅(qū)動電流 Vdrive 和下降的 Ciss 也作為 VGS 的函數(shù)進(jìn)入公式,呈現(xiàn)出令人驚訝的線性電流上升的整體效應(yīng)。
類似地,可以對 IGBT 執(zhí)行類似的柵極驅(qū)動導(dǎo)通電阻計(jì)算。VGE (avg) 和 GFS 可以由 IGBT 開關(guān)特性確定,并且使用 VGE (avg) 處的 CIES 值代替 Ciss。計(jì)算得到的IGBT開通柵極驅(qū)動阻抗為100Ω,高于之前的37Ω,說明IGBT GFS越高,CIES越低。這里的關(guān)鍵點(diǎn)是,為了從 MOSFET 切換到 IGBT,必須調(diào)整柵極驅(qū)動電路。
六、傳導(dǎo)損耗詳解
與額定電壓為 600V 的器件相比,IGBT 通常比相同芯片尺寸的 600V MOSFET 具有更少的傳導(dǎo)損耗。當(dāng)集電極和漏極電流密度被清楚地檢測到并且在最壞的情況下工作結(jié)溫時,應(yīng)該進(jìn)行這種比較。例如,F(xiàn)GP20N6S2 SMPS2 IGBT 和 FCP11N60 SuperFET 的 RθJC 值為 1°C/W。圖 4 顯示了結(jié)溫為 125°C 時導(dǎo)通損耗與直流電流的關(guān)系。MOSFET 在直流電流大于 2.92A 時更大。
圖 4:傳導(dǎo)損耗 DC 工作和圖 5:CCM 升壓 PFC 電路中的傳導(dǎo)損耗
然而,圖 4 中的直流傳導(dǎo)損耗不太適合大多數(shù)應(yīng)用。同時,圖 5 顯示了 CCM(連續(xù)電流模式)、升壓 PFC 電路、125°C 結(jié)溫以及 85V 交流輸入電壓 Vac 和 400Vdc 直流輸出電壓工作模式下的傳導(dǎo)損耗比較。圖中,MOSFET-IGBT的曲線交叉點(diǎn)為2.65A RMS。對于 PFC 電路,當(dāng)交流輸入電流大于 2.65A RMS 時,MOSFET 的傳導(dǎo)損耗更大。2.65A PFC 交流輸入電流等于 MOSFET 中通過公式 2 計(jì)算的 2.29A RMS。計(jì)算 MOSFET 傳導(dǎo)損耗 I2R、公式 2 定義的電流以及 125°C 時 MOSFET 的 RDS (on)。將 RDS (on) 考慮到漏極電流的變化,可以進(jìn)一步細(xì)化導(dǎo)通損耗,如圖 6 所示。
圖 6:FCP11N60 (MOSFET):RDS (on) 與 IDRAIN 和 VGE 變化
在 MOSFET 傳導(dǎo)非常小的占空比的高脈動電流拓?fù)渲?,?yīng)考慮圖 6 所示的特性。如果 FCP11N60 MOSFET 工作在一個漏極電流為 20A 脈沖(即 5.5A RMS)且占空比為 7.5% 的電路中,則有效 RDS (on) 將小于 5.5A(數(shù)據(jù)表中的測試電流) 0.32 歐姆大 25%。
公式 2 CCM PFC 電路中的 RMS 電流
在公式 2 中,Iacrms 是 PFC 電路 RMS 輸入電流;Vac 為 PFC 電路 RMS 輸入電壓;Vout 是直流輸出電壓。
在實(shí)際應(yīng)用中,計(jì)算類似 PFC 電路中 IGBT 的導(dǎo)通損耗會更加復(fù)雜,因?yàn)槊總€開關(guān)周期是在不同的 IC 上執(zhí)行的。IGBT的VCE(sat)不能用單一阻抗來表示。更簡單直接的方法是將其表示為與固定 VFCE 電壓串聯(lián)的電阻器 RFCE,VCE (ICE) = ICE × RFCE + VFCE。然后可以將傳導(dǎo)損耗計(jì)算為平均集電極電流和 VFCE 的乘積,加上 RMS 集電極電流的平方,再乘以阻抗 RFCE。
圖 5 中的示例僅考慮了 CCM PFC 電路的傳導(dǎo)損耗,對于最差傳導(dǎo)情況的設(shè)計(jì)目標(biāo),假設(shè)其小于 15W。以FCP11N60 MOSFET為例,該電路限制在5.8A,F(xiàn)GP20N6S2 IGBT可以在9.8A交流輸入電流下工作。它傳導(dǎo) 70% 以上的 MOSFET 功率。
盡管 IGBT 具有低傳導(dǎo)損耗,但大多數(shù) 600V IGBT 是 PT(穿通)器件。PT 器件具有 NTC(負(fù)溫度系數(shù))特性,不能并聯(lián)?;蛟S,這些器件可以通過匹配器件 VCE (sat)、VGE (TH)(柵極觸發(fā)閾值電壓)和機(jī)械封裝來實(shí)現(xiàn)有限的并聯(lián),從而使 IGBT 芯片的溫度保持恒定不變。相比之下,MOSFET 具有 PTC(正溫度系數(shù)),可提供良好的電流分流。
VII 關(guān)斷損耗
在硬開關(guān)鉗位電感電路中,由于 IGBT 的拖尾電流,MOSFET 的關(guān)斷損耗比 IGBT 低得多,這與圖 1 中 PNP BJT 的少數(shù)載流子去除有關(guān)。圖 7 顯示了函數(shù)集電極電流 ICE 的 Eoff 和結(jié)溫 Tj,其曲線在大多數(shù) IGBT 數(shù)據(jù)表中都有提供。這些曲線基于鉗位電感電路,具有相同的測試電壓并包含拖曳電流能量損失。
圖 7:具有 ICE 和 Tj 變化的 IGBT Eoff
圖 2顯示了用于測量 IGBT Eoff 的典型測試電路。圖 2 中的測試電壓 VDD 因不同制造商和單個設(shè)備的 BVCES 而異。在比較器件時應(yīng)考慮此測試條件下的 VDD,因?yàn)樵谳^低的 VDD 鉗位電壓下進(jìn)行測試和操作會導(dǎo)致較低的 Eoff 功耗。
降低柵極驅(qū)動關(guān)斷電阻對降低 IGBT Eoff 損耗影響不大。如圖 1 所示,當(dāng)?shù)刃Ф噍d流子 MOSFET 關(guān)斷時,IGBT 少數(shù)載流子 BJT 中仍有一個存儲時間延遲 td (off) I。但是,降低 Eoff 驅(qū)動阻抗將降低由于米勒電容 CRES 和 dv/dt 在 VCE 關(guān)閉的情況下電流注入柵極驅(qū)動環(huán)路的風(fēng)險(xiǎn),防止器件偏置到導(dǎo)通狀態(tài),從而導(dǎo)致多個 Eoff-產(chǎn)生開關(guān)動作。
ZVS 和 ZCS 拓?fù)浣档土?MOSFET 和 IGBT 的關(guān)斷損耗。然而,ZVS 的好處在 IGBT 中并沒有那么大。當(dāng)集電極電壓上升到允許多余存儲電荷消散的電位時,會產(chǎn)生拖尾浪涌電流 Eoff。ZCS 拓?fù)淇梢蕴岣?IGBT 的最大 Eoff 性能。正確的柵極驅(qū)動順序允許在第二個集電極電流過零之前不清除 IGBT 柵極信號,從而顯著降低 IGBT ZCS Eoff。
MOSFET 的 Eoff 能耗是其米勒電容 Crss、柵極驅(qū)動速度、柵極驅(qū)動關(guān)斷源阻抗和源電源電路路徑中的寄生電感的函數(shù)。電路寄生電感 Lx(圖 8)產(chǎn)生一個電位,通過限制電流速度下降來增加關(guān)斷損耗。關(guān)機(jī)時,電流下降率di/dt,由Lx和VGS(th)決定。如果 Lx = 5nH,VGS (th) = 4V,則最大電流下降率為 VGS (th) / Lx = 800A / μs。
圖 8:典型硬開關(guān)應(yīng)用中的柵極驅(qū)動電路
八、如何選擇MOSFET和IGBT
MOSFET 和 IGBT 正在迅速取代大部分較舊的固態(tài)和機(jī)械設(shè)備。這一運(yùn)動看起來也不會很快放緩,尤其是隨著碳化硅 (SiC) 材料質(zhì)量的發(fā)展。SiC 功率器件向開發(fā)人員展示了損耗更少、尺寸更小和效率更高等優(yōu)勢。此類創(chuàng)新將繼續(xù)將 MOSFET 和 IGBT 的極限推向更高電壓和更高功率的應(yīng)用。因此,在許多應(yīng)用中可能會繼續(xù)進(jìn)行權(quán)衡和重疊。在這種情況下,當(dāng)面臨為 SMPS 應(yīng)用選擇晶體管的任務(wù)時,仔細(xì)分析器件本身可能是最合乎邏輯的解決方案。
在選擇電源開關(guān)器件時沒有全面的解決方案。電路拓?fù)?、工作頻率、環(huán)境溫度和物理尺寸都在做出最佳選擇方面發(fā)揮著重要作用。在具有最小 Eon 損耗的 ZVS 和 ZCS 應(yīng)用中,MOSFET 可以在更高的頻率下工作,因?yàn)樗鼈兙哂懈斓拈_關(guān)速度和更少的開關(guān)損耗。MOSFET 寄生二極管的恢復(fù)行為可能是硬開關(guān)應(yīng)用的一個缺點(diǎn)。相比之下,出色的軟恢復(fù)二極管與更高速的 SMPS 器件兼容,因?yàn)?IGBT 封裝中的二極管是為特定應(yīng)用量身定制的。
結(jié)論:MOSFE和IGBT沒有本質(zhì)區(qū)別。人們常問“MOSFET好還是IGBT好”的問題本身就是一個錯誤。為什么我們有時用MOSFET,有時用IGBT而不用MOSFET?不能簡單地描述好壞的一面來區(qū)分和確定,需要用辯證的方法來考慮這個問題。
MOSFET在新能源電動車中的應(yīng)用
MOSFET具備控制功率小、開關(guān)速度快的特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于低中高壓的電路中,是功率半導(dǎo)體的基礎(chǔ)器件。在如今興起的新能源電動車中,硅基MOSFET是不可或缺的存在。MOSFET是汽車電子中的核心元件,汽車引擎、驅(qū)動系統(tǒng)中的變速箱控制器以及制動、轉(zhuǎn)向控制,都離不開MOSFET。
其實(shí)在進(jìn)入新能源汽車時代前,MOSFET已應(yīng)用于燃油車中涉及電動功能的區(qū)域,而在傳統(tǒng)的燃油車中輔助剎車、助力轉(zhuǎn)向和座椅等控制系統(tǒng),單車用量約100個。
隨汽車電動化開啟,MOSFET需求激增。新能源汽車以電制動的方式使得中高壓MOEFET作為DC-DC、OBC等電源重要組成部分應(yīng)用于汽車動力域以完成電能的轉(zhuǎn)換與傳輸,單車用量提升至200個以上;此外,隨著汽車智能化發(fā)展,ADAS、安全、信息娛樂等功能需MOSFET作為電能轉(zhuǎn)換的基礎(chǔ)器件支撐數(shù)字、模擬等芯片完成功能實(shí)現(xiàn),使得中高端車型單車用量可增至400個以上。
汽車智能化是中低壓MOSFET器件的增量空間,汽車電動化是超結(jié)MOSFET等中高壓器件的發(fā)力方向,這兩類都是金譽(yù)半導(dǎo)體生產(chǎn)經(jīng)營多年的產(chǎn)品。20-26年全球MOSFET市場將從74億美金增至89億美金,汽車應(yīng)用占比從25%增加至30%。
氮化硼(Boron nitride,BN)是一種具有獨(dú)特性質(zhì)的二維材料。它由硼和氮原子組成,呈現(xiàn)出類似于石墨烯的層狀結(jié)構(gòu)。氮化硼在納米尺度下僅有兩個原子層厚度,具有優(yōu)異的絕緣性能、熱穩(wěn)定性和光學(xué)特性。其晶體結(jié)構(gòu)類似于石墨烯,但硼和氮原子的不同排列方式賦予了氮化硼獨(dú)特的性質(zhì)。氮化硼的絕緣性能使其成為高溫環(huán)境下的理想絕緣材料,可用于電子器件的隔離層和熱管理應(yīng)用。此外,由于其優(yōu)異的熱導(dǎo)性,氮化硼也可用于熱界面材料和散熱器的制備。在光學(xué)方面,氮化硼表現(xiàn)出寬的透明窗口,對可見光和紫外光有良好的透過性,因此在光學(xué)器件和光學(xué)涂層中具有廣泛的應(yīng)用潛力。此外,氮化硼還具有良好的機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性,使其在納米機(jī)械系統(tǒng)、傳感器和電化學(xué)催化等領(lǐng)域具有潛在的應(yīng)用價(jià)值。它還可以與其他二維材料如石墨烯和過渡金屬二硫化物進(jìn)行復(fù)合,形成新型異質(zhì)結(jié)構(gòu),拓展其應(yīng)用范圍。總之,氮化硼作為一種重要的二維材料,具有優(yōu)異的絕緣性能、熱穩(wěn)定性和光學(xué)特性,以及良好的機(jī)械強(qiáng)度和化學(xué)穩(wěn)定性。這些獨(dú)特的性質(zhì)使得氮化硼在電子學(xué)、光電子學(xué)、熱管理、傳感器和催化等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用潛力。未來的研究將進(jìn)一步探索氮化硼的性質(zhì)和應(yīng)用,以推動其在新型納米器件和技術(shù)中的應(yīng)用發(fā)展。
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