過去,仿真的基礎(chǔ)是行為和具有基本結(jié)構(gòu)的模型,它們主要適用于簡單集成電路技術(shù)中使用的器件。但是,當(dāng)涉及到功率器件時(shí),這些簡單的模型通常無法預(yù)測與為優(yōu)化器件所做的改變相關(guān)的現(xiàn)象?,F(xiàn)在,通過引入物理和可擴(kuò)展建模技術(shù),安森美(onsemi)使仿真精度進(jìn)一步提升到更高的水平,此前我們?yōu)榇蠹医榻B了物理和可擴(kuò)展仿真模型功能以及使用Cauer網(wǎng)絡(luò)仿真熱行為及評估各項(xiàng)因素對開關(guān)損耗的影響,本文將為大家?guī)硎褂梦锢砗涂蓴U(kuò)展仿真模型進(jìn)行拓?fù)浞治觥?
飛跨電容升壓
在圖28中,飛跨電容升壓(FCB)是一種用于太陽能應(yīng)用的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。由于面板輸出電壓隨功率而增加,因此使用的標(biāo)稱電壓在1000V以上,而 1200V器件額定電壓不足以在這些情況下提供安全裕量。如果無法獲得額定電壓較高的器件或其效率較低時(shí),堆棧拓?fù)渫ǔ?梢越鉀Q這一問題。FCB就是其中的一種。它具有單輸入和輸出電壓的優(yōu)勢——不需要使用復(fù)雜或額外的平衡回路來控制中點(diǎn)電壓以獲得分總線電壓。
圖28.飛跨電容升壓原理圖
達(dá)到穩(wěn)態(tài)后,我們可以使用圖29至31中的結(jié)果分析該工作點(diǎn)的幾個(gè)參數(shù)。
圖29.飛跨電容升壓開關(guān)電流波形
圖30.飛跨電容升壓電容電流波形
圖31.飛跨電容升壓電容電壓波形
我們可以局部放大MOSFET和二極管的導(dǎo)通與關(guān)斷。
圖32.飛跨電容升壓開關(guān)導(dǎo)通和關(guān)斷電流波形
圖33顯示QL和QH在導(dǎo)通時(shí)出現(xiàn)明顯的電流尖峰。這種存儲在SiC二極管肖特基勢壘中的電容能量看起來像是一種反向恢復(fù)。我們使用2.5Ω 外部門極電阻,在QL和QH導(dǎo)通和關(guān)斷時(shí)的dV/dt和di/dt會非常高。通過增加外部柵極電阻,我們將限制這些現(xiàn)象,但會增加導(dǎo)通持續(xù)時(shí)間(和關(guān)斷持續(xù)時(shí)間,如果導(dǎo)通和關(guān)斷使用相同的電阻,如本仿真原理圖所示)和導(dǎo)通損耗(和關(guān)斷損耗)。這始終是一種折衷方案。
利用熱電仿真模型獲得熱電等效性,可以直接獲取器件的平均功率損耗。如我們所知,在這種等效關(guān)系中,電流代表功率(而電壓代表溫度)。因此,測量從TCase引腳流出的電流將可提供功率流。作為器件熱阻抗模型的內(nèi)部Cauer網(wǎng)絡(luò)充當(dāng)“非?!钡屯?a href="http://www.wenjunhu.com/tags/濾波器/" target="_blank">濾波器,對該功率流進(jìn)行濾波。因此,如果我們構(gòu)建一個(gè)DC-DC功率級,在“長時(shí)間”尺度(大多數(shù)時(shí)間為1毫秒左右)上進(jìn)行仿真,可以得出每個(gè)有源元件的平均功率損耗。
讓我們看一下這個(gè)飛跨電容升壓的效果。
圖33.使用“TCase”引腳電流/功率流和結(jié)溫升高測量損耗
Tj曲線在導(dǎo)通和關(guān)斷時(shí)突然升高。所有有源器件的損耗和Tj都不相同,因?yàn)轱w跨電容電壓值不等于輸出電壓值的一半。這也是電感電流不是鋸齒狀的原因(圖33)。
我們使用不同的外部柵極電阻值(Rg=2.5Ω;5Ω;10Ω)。圖34和表5 顯示了MOSFET導(dǎo)通期間對電流尖峰的影響。
圖34.飛跨電容升壓MOSFET導(dǎo)通電流波形局部放大
(使用不同的外部柵極電阻)
深色曲線為Rg=2.5Ω時(shí);中色曲線為Rg=5Ω時(shí);淺色曲線為Rg=10Ω時(shí)。
表5.不同外部柵極電阻的電流尖峰值
圖35顯示了使用Rg=10Ω的電阻對損耗和結(jié)溫上升的影響。
圖35.高外部柵極電阻下的損耗和結(jié)溫升高
對于圖35中Rg=10Ω時(shí)的損耗和結(jié)溫上升,我們使用與圖33中Rg=2.5Ω時(shí)相同的坐標(biāo)刻度。我們可以比較二極管負(fù)尖峰降低和開關(guān)時(shí)間延長對損耗和結(jié)溫上升的影響。由于存儲在二極管中的電容能量會在 MOSFET中耗散,因此二極管不受外部柵極變化效應(yīng)的影響。兩種情況下的損耗和結(jié)溫上升相同。但是,正如預(yù)期的那樣,Rg=10Ω時(shí)較長的換向持續(xù)時(shí)間會導(dǎo)致兩個(gè)MOSFET的損耗增加和結(jié)溫上升。溫度差異約為1°C,損耗差異約為2至3W。
I型與T型中性點(diǎn)箝位
能源基礎(chǔ)設(shè)施中的許多應(yīng)用廣泛使用這兩種類型(或三種,若考慮A-NPC)的開關(guān)單元,如圖36所示。
圖36.I-NPC(灰色表示A-NPC)和T-NPC單元
借助仿真,我們可以對其進(jìn)行比較并提取不同工作點(diǎn)的性能參數(shù)。
這里,我們將在降壓級(針對逆變器應(yīng)用)比較這三種結(jié)構(gòu),該降壓級的工作電壓從400V降至至200V,電流為20A。為了加快仿真速度,我們將在DC-DC中運(yùn)行各單元,因此只有高壓側(cè)開關(guān)在工作。我們將使用自振蕩控制來避免反饋回路穩(wěn)定性問題,并在100kHz開關(guān)頻率附近工作。這樣,將在2個(gè)周期內(nèi)達(dá)到一個(gè)幾乎穩(wěn)定的點(diǎn)。然后,運(yùn)行仿真以達(dá)到熱平衡,這需要花費(fèi)更長時(shí)間,因?yàn)闊嶙杩故欠浅5偷臅r(shí)間常數(shù)。
可以采用兩種柵極驅(qū)動(dòng)策略:首先,使用MOSFET體二極管在中性箝位分支中進(jìn)行續(xù)流,其次,通過用于主開關(guān)的互補(bǔ)開關(guān)信號(表6中的 SR T-NPC)驅(qū)動(dòng)該續(xù)流MOSFET。我們將嘗試不同的結(jié)構(gòu),采用不同代技術(shù)的二極管和MOSFET。
我們的第二代650V SiC MOSFET(M2)不能用于在如此高的開關(guān)頻率下運(yùn)行,而我們的第三代(M3S)完全可以。因此,我們預(yù)計(jì)650V M2的損耗高于1200V M3S。
表6.不同中性點(diǎn)箝位設(shè)置的導(dǎo)通和關(guān)斷能量
如果我們分析表6中的結(jié)果,A-NPC雖然有恢復(fù)損耗,但壓降低于肖特基,它并不會帶來更高的效率。兩者之間的更優(yōu)選擇仍然是I-NPC。這種折衷還取決于開關(guān)頻率,即90kHz,在更低開關(guān)頻率下,較佳選擇則可能是A-NPC。
由于存在SiC MOSFET的P-N結(jié)體二極管,即使我們使用M3S器件,在關(guān)斷期間不驅(qū)動(dòng)中性箝位器件的T-NPC也會產(chǎn)生糟糕的結(jié)果。但是,如果我們像驅(qū)動(dòng)同步整流器(SR T-NPC)一樣驅(qū)動(dòng)SiC MOSFET,則M3S 可獲得良好的效率,而M2則由于高頻性能較差使得效率更低。SR T-NPC單元結(jié)構(gòu)很受歡迎,它具有良好的性能,并且與I-NPC或A-NPC需要六個(gè)器件相比,只需四個(gè)器件,因此在新設(shè)計(jì)中被廣泛采用。
6-Pack升壓有源前端
在快速直流充電中,當(dāng)功率流為雙向時(shí),通常使用6-Pack升壓(圖 37)作為有源前端或功率因數(shù)校正器。
圖37.6-Pack升壓功率級
控制涉及D-Q變換。可以加入或激活三次諧波注入,用于降低總線電壓或調(diào)制指數(shù),以分析對總損耗的影響。我們還實(shí)施了前饋操作,盡可能減少反饋效應(yīng),從而根據(jù)輸入電壓和理論輸出值預(yù)測工作占空比(圖41和42)。因此,控制環(huán)路僅補(bǔ)償動(dòng)態(tài)效應(yīng)(如溫度、色散和延遲等)以及理論輸出電壓與瞬時(shí)輸出電壓之間的不匹配。我們使用正弦波脈沖寬度調(diào)制(SPWM)來生成每個(gè)占空比。這不是最有效的方法,但易于實(shí)現(xiàn)。此外還需要一個(gè)簡單的雙斜坡鋸齒信號,為所有帶有簡單比較器的開關(guān)進(jìn)行雙邊沿對稱調(diào)制。
由于該拓?fù)涫请p向的,因此無不連續(xù)模式有利于補(bǔ)償器設(shè)計(jì)。我們在外部輸出電壓控制環(huán)路中配置了一個(gè)PI補(bǔ)償器。對于兩個(gè)內(nèi)部電流環(huán)路,我們還為直接和二次成分應(yīng)用了PI補(bǔ)償器。圖40顯示了反饋誤差和歸一化控制變量,無論有沒有三次諧波,它們都是相同的。
圖38.無三次諧波注入的輸入和輸出波形
圖39.有三次諧波注入的輸入和輸出波形
圖40.控制變量和誤差變量??刂坪驼`差不受三次諧波的影響
我們將在此示例中使用歐洲電網(wǎng)平均電壓值(230VAC,50Hz)。輸出電壓為950VDC,輸出功率為52kW(圖38和39)。
我們添加了一些寄生元件,其實(shí)際值取自升壓電感和輸出電容的元件數(shù)據(jù)手冊。對于SiC MOSFET,每個(gè)位置都使用新一代22mΩ 1200V M3S TO247-4L(NTH4L022N120M3S)器件。如果并聯(lián)使用多個(gè)器件,我們可以將其組合到一個(gè)子電路中,以便重復(fù)使用該原理圖。這也提供了靈活性,如果我們希望針對不同的輸出功率嘗試并聯(lián)1個(gè)、2個(gè)或更多個(gè)開關(guān)并找到優(yōu)化配置,就可以更快速地更改開關(guān)配置。例如,附錄中的原理圖使用了三個(gè)并聯(lián)器件。
此處的目的是研究碳化硅MOSFET的開關(guān)性能并提取系統(tǒng)損耗。我們將分別在無三次諧波注入和有三次諧波注入的情況下進(jìn)行此分析。
圖41.無三次諧波注入的前饋和占空比
圖42.有三次諧波注入的前饋和占空比
為避免仿真器因損耗計(jì)算而過載,我們將在最后使用一個(gè)腳本執(zhí)行這些計(jì)算,并將結(jié)果顯示為文本和曲線。
圖43.在電網(wǎng)周期內(nèi)無三次諧波注入的損耗
圖44.在電網(wǎng)周期內(nèi)有三次諧波注入的損耗
分析圖43和44,我們可以得出結(jié)論:使用三次諧波可改善每個(gè)正弦波半周期內(nèi)高壓側(cè)和低壓側(cè)開關(guān)間損耗的平衡。在無三次諧波注入的情況下,每個(gè)半周期的兩個(gè)峰值約為122W和185W,而有三次諧波注入時(shí),峰值約為140W和165W。
運(yùn)行該腳本得到一個(gè)電網(wǎng)周期內(nèi)的平均結(jié)果,具體如下表7所示。
表7.一個(gè)電網(wǎng)周期內(nèi)的平均損耗
如果我們考慮由于長時(shí)間仿真期間的數(shù)值精度導(dǎo)致的一些誤差,可以說,無論是否有三次諧波注入,總損耗都是相同的。這一說法眾所周知,利用物理和可擴(kuò)展模型的仿真證實(shí)了這一點(diǎn)。
審核編輯:湯梓紅
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原文標(biāo)題:SiC仿真攻略手冊——使用仿真模型進(jìn)行拓?fù)浞治?/p>
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