臺積電于昨日公布了其董事長劉德音的退休計劃,同時,公司“提名及公司治理暨永續(xù)委員會”已向董事會提議由副董事長兼總裁魏哲家接替他。據(jù)業(yè)內(nèi)人士分析,劉德音離任后,臺積電將步入旨在提升技術(shù)水平和擴大服務(wù)范圍的“3.0時代” 。
然而,魏哲家履新后仍需面對諸多嚴峻挑戰(zhàn)。其中包括處理海外工廠如美國鳳凰城、日本熊本等的實際運營難題,應(yīng)對日益加劇的地緣政治風險、晶圓制造工藝即將進入應(yīng)用新材料的新時代以及整個行業(yè)競爭激烈等問題。
首先,臺積電原有的海外工廠主要集中在中國南京、松江以及美國舊金山州的華盛頓廠區(qū),但如今新建設(shè)的熊本廠和鳳凰城廠均為高端制程。據(jù)報道,熊本廠預定明天2月舉行開幕儀式,得到日本政府的大力支持。反觀鳳凰城廠,建設(shè)進度滯后且補貼申請進展緩慢,成為魏哲家上任后的首要挑戰(zhàn)之一。
其次,當前美中貿(mào)易爭端升級為科技角力,美國對中國半導體產(chǎn)業(yè)實施全方面遏制政策,導致許多半導體公司紛紛從中國撤出,迫使客戶選擇在大陸及非大陸市場采購,下單意愿減弱。此外,據(jù)業(yè)內(nèi)人士透露,臺積電南京廠產(chǎn)能利用率近期降至僅50%,工廠管理壓力趨增。
同時,臺積電還需要面對其主要競品三星和新加入者英特爾帶來的競爭壓力。英特爾計劃明年起試產(chǎn)代表1.8納米的18A制程工藝,與此相比,臺積電預計2納米制程將于2025年實現(xiàn)量產(chǎn)。在此背景下,臺積電面臨的先進制程競爭壓力倍增。
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