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全方位理解功率MOSFET的雪崩失效現(xiàn)象

冬至子 ? 來源:電源工程獅養(yǎng)成記 ? 作者:Asianxll ? 2023-12-04 15:57 ? 次閱讀

1 引言

功率MOSFET電力電子設(shè)備中應(yīng)用十分廣泛,因其故障而引起的電子設(shè)備損壞也比較常見。分析研究功率MOSFET故障的原因、后果,對于MOSFET的進一步推廣應(yīng)用具有重要意義。

其中MOSFET的雪崩擊穿失效導致的故障是功率MOSFET比較典型的故障之一。本文就對功率MOSFET雪崩擊穿的特性,以及在電源案例中的典型故障進行了簡單的分析,來全方位的理解功率MOSFET的雪崩失效現(xiàn)象。

2 功率MOSFET雪崩擊穿理論分析

在功率MOSFET雪崩分析之前,需要對數(shù)據(jù)手冊中的相關(guān)參數(shù)進行說明。一般數(shù)據(jù)手冊中包含如下圖所示的單脈沖雪崩能量EAS、重復脈沖雪崩能量EAR、單次脈沖雪崩電流IAS等。這些參數(shù)反映了該功率MOSFET的雪崩能力。

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圖1 MOSFET的相關(guān)雪崩參數(shù)

圖2為MOSFET的體內(nèi)等效電路,闡述了雪崩擊穿的原因。其中含有一個寄生的雙極性晶體管V2,它的集電極、發(fā)射極同時也是MOSFET的漏極和源極。當MOSFET漏極存在大電流Id,高電壓Vd時,器件內(nèi)電離作用加劇,出現(xiàn)大量的空穴電流,經(jīng)Rb流入源極,導致寄生三極管基極電勢Vb升高,出現(xiàn)所謂的“快回(Snap- back) ”現(xiàn)象,即在Vb升高到一定程度時,寄生三極管V2導通,集電極(即漏極)電壓快速返回達到晶體管基極開路時的擊穿電壓(增益很高的晶體管中該值相對較低),從而發(fā)生雪崩擊穿,如圖2所示。

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(a) 功率MOSFET體內(nèi)等效電路圖

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(b) 外部分析電路

圖2 MOSFET 等效電路

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圖3 雪崩擊穿時I -V 曲線

3 功率 MOSFET 雪崩擊穿的微觀分析

雙極性器件在發(fā)生二次擊穿時,集電極電壓會在故障瞬間很短時間內(nèi)(可能小于1ns)衰減幾百伏。這種電壓銳減主要是由雪崩式注入引起的, 主要原因在于:二次擊穿時, 器件內(nèi)部電場很大, 電流密度也比較大, 兩種因素同時存在, 一起影響正常時的耗盡區(qū)固定電荷,使載流子發(fā)生雪崩式倍增。

對于不同的器件,發(fā)生雪崩式注入的情況是不同的。對于雙極性晶體管,除了電場應(yīng)力的原因外, 正向偏置時器件的熱不穩(wěn)定性, 也有可能使其電流密度達到雪崩式注入值。而對于MOSFET,由于是多數(shù)載流子器件,通常認為其不會發(fā)生正向偏置二次擊穿,而在反向偏置時, 只有電氣方面的原因能使其電流密度達到雪崩注入值, 而與熱應(yīng)力無關(guān)。以下對功率MOSFET 的雪崩擊穿作進一步的分析。

如圖2所示,在MOSFET 內(nèi)部各層間存在寄生二極管、晶體管(三極管)器件。從微觀角度而言,這些寄生器件都是器件內(nèi)部 PN 結(jié)間形成的等效器件,它們中的空穴、電子在高速開關(guān)過程中受各種因素的影響,會導致MOSFET 的各種不同的表現(xiàn)。

導通時,正向電壓大于門檻電壓,電子由源極經(jīng)體表反轉(zhuǎn)層形成的溝道進入漏極,之后直接進入漏極節(jié)點;漏極寄生二極管的反向漏電流會在飽和區(qū)產(chǎn)生一個小的電流分量。而在穩(wěn)態(tài)時,寄生二極管、晶體管的影響不大。

關(guān)斷時,為使MOSFET體表反轉(zhuǎn)層關(guān)斷,應(yīng)當去掉柵極電壓或加反向電壓。這時,溝道電流 (漏極電流)開始減少, 感性負載使漏極電壓升高以維持漏極電流恒定。漏極電壓升高,其電流由溝道電流和位移電流(漏極體二極管耗盡區(qū)生成的,且與dVDS /dt成比例)組成。漏極電壓升高的比率與基極放電以及漏極耗盡區(qū)充電的比率有關(guān);而后者是由漏-源極電容、漏極電流決定的。在忽略其它原因時,漏極電流越大電壓會升高得越快。

如果沒有外部鉗位電路,漏極電壓將持續(xù)升高,則漏極體二極管由于雪崩倍增產(chǎn)生載流子,而進入持續(xù)導通模式(Sustaining Mode)。此時,全部的漏極電流(此時即雪崩電流)流過體二極管,而溝道電流為零。由上述分析可以看出,可能引起雪崩擊穿的三種電流為漏電流、位移電流(即dVDS/dt電流)、雪崩電流,三者理論上都會激活寄生晶體管導通。寄生晶體管導通使MOSFET由高壓小電流迅速過渡到低壓大電流狀態(tài),從而發(fā)生雪崩擊穿。

4 雪崩擊穿時能量與溫度的變化

在開關(guān)管雪崩擊穿過程中,能量集中在功率器件各耗散層和溝道中,在寄生三極管激活導通發(fā)生二次擊穿時,MOSFET會伴隨急劇的發(fā)熱現(xiàn)象,這是能量釋放的表現(xiàn)。以下對雪崩擊穿時能量耗散與溫升的關(guān)系進行分析。

雪崩擊穿時的耗散能量與溫升的關(guān)系為

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其中,A是硅片面積,K常數(shù)與硅片的熱性能相關(guān)。

而雪崩能量為

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由上述公式可以看出,在功率MOSFET發(fā)生雪崩擊穿時,器件溫度與初始功率,以及器件本身的性能有關(guān)。在雪崩擊穿后如果沒有適當?shù)木彌_、抑制措施, 隨著電流的增大,器件發(fā)散內(nèi)部能量的能力越來越差, 溫度上升很快, 很可能將器件燒毀。

5 雪崩能量的測量

雪崩能量通常在非鉗位感性開關(guān)UIS條件下測量,通常包括二組值:單脈沖雪崩能量EAS和單脈沖雪崩電流IAS,重復脈沖雪崩能量EAR和重復脈沖雪崩電流IAR。單脈沖雪崩能量和雪崩電流的測試的電路有二種:去耦的EAS測量電路和非去耦的EAS測量電路,如圖4、圖5所示。

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圖4 去耦的EAS測量電路

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圖5 非去耦的EAS測量電路

對于一些中、低壓的器件,VDS - VDD變得很小,使用非去耦電路測量會產(chǎn)生較大的差異,因此對于中、低壓的功率MOSFET,通常使用去耦的EAS測量電路。

在去耦的EAS測量電路中,當測試的功率MOSFET和控制管同時關(guān)斷時,由于MOSFET的D、S之間有寄生電容CDS,因此在二極管導通續(xù)流時,電感L和CDS形成諧振回路,L的電流降低使CDS上的電壓上升,直到電感的電流為0時,續(xù)流二極管D自然關(guān)斷,電感L中儲存的能量應(yīng)該全部轉(zhuǎn)換到CDS中。

如果電感L=0.1mH,IAS=10A,CDS=1nF,理論上,電壓VDS為:

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得VDS=3100V。

這樣高的電壓值是不可能的,那么為什么會有這樣的情況?從實際的工作原理來看,MOSFET的D、S內(nèi)部相當于一個反并聯(lián)的二極管。當這個二極管兩端加上反向電壓,因此其工作在反向工作區(qū),隨著VDS增加,高過BVDSS,增加到接近于對應(yīng)二極管的鉗位電壓時,VDS的電壓就不會再明顯的增加,而是維持在鉗位電壓值基本不變。此時,MOSFET工作于雪崩區(qū),最大的平臺鉗位電壓就是雪崩電壓。

為了保障MOSFET工作在雪崩區(qū)不失效,還必須考慮MOSFET的雪崩能量與溫升的關(guān)系,

比如在去耦的EAS測試電路中,單次雪崩能量為

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雪崩功率為

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結(jié)合式(2), (4), (5)可以得出雪崩功率,再由式(6)即可估算出MOSFET的節(jié)溫的溫升。

圖6給出了兩個不同的估算結(jié)果,差異還是比較大的,所以具體應(yīng)用時,應(yīng)以具體的條件參數(shù)估算溫升,防止過溫損壞。

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圖6 不同測試條件下的溫升測試結(jié)果

6 雪崩能量的失效機理

功率MOSFET的雪崩損壞有三種模式:熱損壞、寄生三極管導通損壞和VGS尖峰誤觸發(fā)導通損壞。

1) 熱損壞

功率MOSFET在功率脈沖的作用下進入雪崩的工作狀態(tài),VDS電壓增加,體到epi-結(jié)的電場也增加,當場強增加到臨界值時(硅中大約為300kV/cm),產(chǎn)生載流子的雪崩倍增,導致電流突然急劇增加。雪崩倍增并不是一個損壞的過程,在這個過程中,由于功耗增加導致硅片的結(jié)溫升高,當結(jié)溫升高到硅片特性允許的臨界值,失效將發(fā)生。

2) 寄生三極管導通損壞

前文已詳細分析了雪崩現(xiàn)象的產(chǎn)生。寄生三極管的失效分為熱擊穿和二次擊穿,如圖7所示。

熱擊穿:耗散功率轉(zhuǎn)化為熱,使集電結(jié)結(jié)溫升高,集電結(jié)結(jié)電流進一步增大,使三極管燒毀。

二次擊穿:局部大電流導致三極管燒通,使VCE擊穿電壓急劇降低,IC電流增大,使三極管燒毀。

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圖7 寄生三極管雪崩失效

3) VGS尖峰誤觸發(fā)導通損壞

功率MOSFET在雪崩過程中硅片的溫度升高,VGS的閾值急劇降低,同時在雪崩過程中,VDS的電壓耦合到G極,在G、S上產(chǎn)生的電壓VGS高于的閾值,MOSFET誤觸發(fā)而開通,導致瞬態(tài)的大電流流過硅片局部區(qū)域,產(chǎn)生電流熔絲效應(yīng),從而損壞功率MOSFET,在這個過程中,通常也會疊加寄生三極管導通的損壞機理。在實際應(yīng)用中,UIS雪崩較少以這種方式發(fā)生失效。

7 雪崩能量的應(yīng)用與預防措施

在實際的應(yīng)用中,雪崩的損壞常發(fā)生在過壓過流高溫等極端條件下。如高溫下,系統(tǒng)輸出短路及過載測試,輸入過電壓測試以及動態(tài)的老化測試中,MOSFET的損壞需要考慮雪崩能量導致的擊穿。

MOSFET的電壓尖峰產(chǎn)生時,例如反激應(yīng)用,MOSFET關(guān)斷時會產(chǎn)生較大的電壓尖峰:VIN+輸出反射電壓+漏感,這時需要考慮雪崩能量,必要時,需加一些防護措施(加鉗位電路),保證MOSFET不被損壞。

發(fā)生在電感上的沒有預料到的瞬態(tài)電壓,如輸出短路時,變壓器原邊電感飽和,引起瞬態(tài)大電流的變化,器件需要考慮雪崩擊穿的可能。相應(yīng)的預防措施有a) 加開短路的系統(tǒng)響應(yīng),以降低漏極電流;b) 優(yōu)化電路以及變壓器設(shè)計,減小漏感和線路雜散電感;c) 加緩沖電路抑制di/dt.

8 總結(jié)

本文闡述和分析了MOSFET的雪崩現(xiàn)象的相關(guān)問題,包括雪崩擊穿的理論分析,雪崩能量以及溫升的關(guān)系,雪崩能量的測量和應(yīng)用中如何考慮雪崩現(xiàn)象和相關(guān)的預防措施。今后在工作中可以針對MOSFET的使用以及失效時有一個更明確的認識和分析,給出更具有針對性的措施。

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