繼半導(dǎo)體后 韓國將顯示專利申請指定為優(yōu)先審查對象

知識產(chǎn)權(quán)機(jī)構(gòu)韓國特許廳31日表示，從11月1日開始的一年時(shí)間里，將國內(nèi)研究開發(fā)和生產(chǎn)的顯示器領(lǐng)域的專利申請指定為優(yōu)先審查對象。

其中包括與顯示器材料、配件、裝備、制造、設(shè)計(jì)技術(shù)直接相關(guān)的申請、在國內(nèi)生產(chǎn)或準(zhǔn)備生產(chǎn)顯示器相關(guān)產(chǎn)品、裝備等的企業(yè)的申請、與顯示器相關(guān)的國家研究開發(fā)（r&d）事業(yè)的成果相關(guān)的申請等。

專利廳預(yù)計(jì)，通過該制度，平均需要16個(gè)月左右的一般專利審查周期將減少到平均2個(gè)月以內(nèi)。

與此同時(shí)，將于10月31日結(jié)束的半導(dǎo)體領(lǐng)域的優(yōu)先審查對象的指定也將延長1年。如果申請與半導(dǎo)體材料、零部件、裝備、制造、設(shè)計(jì)技術(shù)直接相關(guān)的專利，就可以優(yōu)先接受審查。

另外，考慮到在申請優(yōu)先審查時(shí)，很難預(yù)測專利分類（cpc）是否合適的情況較多，決定刪除現(xiàn)有的半導(dǎo)體相關(guān)專利分類條件。

據(jù)悉，在顯示器領(lǐng)域的國際專利糾紛不斷深化的情況下，此舉是為了支援韓國企業(yè)盡快獲得專利。