ASML：年底前可以向中國出貨受限芯片制造設(shè)備

asml發(fā)言人表示，雖然出口限制規(guī)定從今年9月開始實行，但公司截至年底已經(jīng)獲得了對在中國受到限制的半導(dǎo)體制造設(shè)備的出口許可證。

據(jù)彭博社31日報道，美國對中國限制尖端技術(shù)出口的努力正在損害asml的利益。中國是asml的第三大市場。美國政府敦促荷蘭政府禁止asml在沒有許可證的情況下向中國出口侵入式duv***，新的限制規(guī)定于9月1日正式生效。

asml發(fā)言人表示：“從9月開始的4個月時間里，asml可以盡到與中國客戶簽訂合同的義務(wù)。但在沒有獲得新的出口許可證的情況下，將從1月份開始向中國出口3款先進(jìn)的浸入式‘深度紫外線***（DUV）?！?/p>

荷蘭通過今年6月末公布的新的出口控制措施，要求半導(dǎo)體制造企業(yè)在出口部分尖端紫外線面板（duv）系統(tǒng)時申請出口許可。據(jù)了解內(nèi)情的人士透露，在新規(guī)定生效之前，中國半導(dǎo)體制造企業(yè)一直爭相購買重要設(shè)備。根據(jù)海關(guān)數(shù)據(jù)，從今年到現(xiàn)在，中國從荷蘭進(jìn)口的這類設(shè)備已經(jīng)超過了2022年全年的總量。

該規(guī)定包含了芯片制造技術(shù)中非常先進(jìn)的部分設(shè)備，其中包括深度紫外線光刻（duv）和原子層沉積設(shè)備。asml表示，該公司的最新duv設(shè)備符合新規(guī)定，但主要duv設(shè)備不符合新規(guī)定。該公司從2019年開始禁止向中國出口更先進(jìn)的euv（極紫外線）光板。