0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫(xiě)文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
电子发烧友
开通电子发烧友VIP会员 尊享10大特权
海量资料免费下载
精品直播免费看
优质内容免费畅学
课程9折专享价
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

平面拋光機(jī)的工藝要求

深圳市科瑞特自動(dòng)化技術(shù)有限公司 ? 2023-08-28 08:08 ? 次閱讀

光學(xué)加工是一個(gè)非常復(fù)雜的過(guò)程。難以通過(guò)單一加工方法加工滿足各種加工質(zhì)量指標(biāo)要求的光學(xué)元件。平面拋光機(jī)的基礎(chǔ)是加工材料的微去除。實(shí)現(xiàn)這種微去除的方法包括研磨加工、微粉顆粒拋光和納米材料拋光。根據(jù)不同的加工目的選擇不同的加工方法。

平面拋光機(jī)需要粗磨、細(xì)磨和拋光,以不斷提高加工零件的表面精度并降低表面粗糙度。超精密磨削的范圍很廣,主要包括機(jī)械磨削、彈性發(fā)射加工、浮動(dòng)磨削等加工方法。光學(xué)平面磨削技術(shù)通常是指利用硬度高于待加工材料的微米級(jí)磨粒,在硬磨盤(pán)的作用下產(chǎn)生微切削和滾壓作用,去除待加工表面的微量材料,減少加工變質(zhì)層,降低表面粗糙度,達(dá)到工件形狀和尺寸精度的目標(biāo)值。

以氧化鋁陶瓷光盤(pán)的雙面加工為例,介紹和分析了光學(xué)平面的一般加工工藝,并實(shí)現(xiàn)了加工工藝。

根據(jù)光學(xué)平面的加工質(zhì)量要求,首先分析加工要求,進(jìn)行工藝設(shè)計(jì),然后選擇合適的工藝和方法,確定各工序達(dá)到的精度,進(jìn)行加工實(shí)踐,達(dá)到預(yù)定的加工目標(biāo)。

針對(duì)氧化鋁陶瓷盤(pán)的平面度要求,采用金剛石微粉大塊磨料磨削工藝進(jìn)行磨削加工,并根據(jù)當(dāng)前加工的表面形狀進(jìn)行調(diào)整,達(dá)到平面度要求。針對(duì)氧化鋁陶瓷圓盤(pán)雙面平行度的要求,選擇了一臺(tái)圓臺(tái)平面磨床磨削工件平面。針對(duì)氧化鋁陶瓷盤(pán)的表面粗糙度要求,采用金剛石顆粒固定磨料對(duì)氧化鋁陶瓷盤(pán)的平面進(jìn)行拋光,拋光作為加工工序。拋光工藝選擇了固定磨料的拋光形式,解決了游離磨料在研磨拋光過(guò)程中暴露出來(lái)的缺點(diǎn)。固定磨料是松散磨料的固結(jié),它可以在研磨平面拋光機(jī)上高速研磨和拋光工件。

在陶瓷盤(pán)的平面加工工藝中,除了圓臺(tái)表面磨床、平面磨削和平面拋光的步驟外,還在被加工表面附著一層保護(hù)膜,從而在被加工零件的后續(xù)加工或保存過(guò)程中保護(hù)被加工零件的加工表面的完整性,避免因擦傷和磨粒污染而對(duì)被加工零件的表面造成擦傷和損傷。

處理和測(cè)試總是不可分割的。為了確定工件是否滿足加工質(zhì)量精度的要求,需要相應(yīng)的測(cè)量?jī)x器進(jìn)行測(cè)量,測(cè)量結(jié)果作為工件加工過(guò)程中的數(shù)據(jù)反饋和加工表面的確認(rèn)。針對(duì)氧化鋁陶瓷板的加工質(zhì)量要求,用數(shù)字千分尺測(cè)量陶瓷板加工零件的平行度,用表面粗糙度測(cè)量?jī)x測(cè)量氧化鋁陶瓷板平面的表面粗糙度,用激光平面干涉儀測(cè)量氧化鋁陶瓷板平面的表面形狀。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫(xiě)或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 精密
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    106

    瀏覽量

    18819
  • 材料
    +關(guān)注

    關(guān)注

    3

    文章

    1323

    瀏覽量

    27740
  • 拋光機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    0

    文章

    37

    瀏覽量

    7036
收藏 0人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    氬離子拋光儀/CP離子研磨截面拋光案例

    樣品切割和拋光配溫控液氮冷卻臺(tái),去除熱效應(yīng)對(duì)樣品的損傷,有助于避免拋光過(guò)程中產(chǎn)生的熱量而導(dǎo)致的樣品融化或者結(jié)構(gòu)變化,氬離子切割制樣原理氬離子切割制樣是利用氬離子束(?1mm)來(lái)切割樣品,以獲得相比
    的頭像 發(fā)表于 05-26 15:15 ?79次閱讀
    氬離子<b class='flag-5'>拋光</b>儀/CP離子研磨截面<b class='flag-5'>拋光</b>案例

    防震基座在半導(dǎo)體晶圓制造設(shè)備拋光機(jī)詳細(xì)應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司

    在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,晶圓拋光作為關(guān)鍵工序,對(duì)設(shè)備穩(wěn)定性要求近乎苛刻。哪怕極其細(xì)微的振動(dòng),都可能對(duì)晶圓表面質(zhì)量產(chǎn)生嚴(yán)重影響,進(jìn)而左右芯片制造的成敗。以下為您呈現(xiàn)一個(gè)防震基座在半導(dǎo)體晶圓制造設(shè)備拋光機(jī)上的經(jīng)典應(yīng)用案例。
    的頭像 發(fā)表于 05-22 14:58 ?104次閱讀
    防震基座在半導(dǎo)體晶圓制造設(shè)備<b class='flag-5'>拋光機(jī)</b>詳細(xì)應(yīng)用案例-江蘇泊蘇系統(tǒng)集成有限公司

    化學(xué)機(jī)械拋光液的基本組成

    化學(xué)機(jī)械拋光液是化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝中關(guān)鍵的功能性耗材,其本質(zhì)是一個(gè)多組分的液體復(fù)合體系,在拋光過(guò)程中同時(shí)起到化學(xué)反應(yīng)與機(jī)械研磨的雙重作用,目的是實(shí)現(xiàn)晶圓表面多材料的平整化處理。
    的頭像 發(fā)表于 05-14 17:05 ?254次閱讀
    化學(xué)機(jī)械<b class='flag-5'>拋光</b>液的基本組成

    Pea Puffer非球面:周長(zhǎng)優(yōu)化的非球面CCP拋光

    的包絡(luò)球面進(jìn)行非球面拋光(右),生成非球面(N-BK7, 3/2(1),直徑80 mm,非球面6 um)。非球面拋光鏈比直接非球面制造鏈每個(gè)透鏡便宜13歐元,并且對(duì)非球面生成機(jī)器的容量要求更低
    發(fā)表于 05-09 08:48

    什么是氬離子拋光?

    氬離子拋光技術(shù)氬離子拋光技術(shù)(ArgonIonPolishing,AIP)作為一種先進(jìn)的樣品制備方法,為電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)分析提供了高質(zhì)量的樣品表面。下面將介紹氬離子
    的頭像 發(fā)表于 04-27 15:43 ?168次閱讀
    什么是氬離子<b class='flag-5'>拋光</b>?

    DLP4500固定在機(jī)構(gòu)件上是否有平面要求平面度是否影響影像?

    DLP4500固定在機(jī)構(gòu)件上是否有平面要求,平面度是否影響影像?
    發(fā)表于 02-28 07:51

    制備用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析的氬離子拋光和化學(xué)拋光(CP)截面樣品

    氬離子束拋光技術(shù)(ArgonIonBeamPolishing,AIBP),一種先進(jìn)的材料表面處理工藝,它通過(guò)精確控制的氬離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行加工,以實(shí)現(xiàn)平滑無(wú)損傷的拋光效果。技術(shù)概述氬離子束
    的頭像 發(fā)表于 02-10 11:45 ?394次閱讀
    制備用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析的氬離子<b class='flag-5'>拋光</b>和化學(xué)<b class='flag-5'>拋光</b>(CP)截面樣品

    電鏡樣品制備:氬離子拋光優(yōu)勢(shì)

    氬離子拋光技術(shù)的原理氬離子拋光技術(shù)基于物理濺射機(jī)制。其核心過(guò)程是將氬氣電離為氬離子束,并通過(guò)電場(chǎng)加速這些離子,使其以特定能量和角度撞擊樣品表面。氬離子的沖擊能夠有效去除樣品表面的損傷層和雜質(zhì),從而
    的頭像 發(fā)表于 02-07 14:03 ?402次閱讀
    電鏡樣品制備:氬離子<b class='flag-5'>拋光</b>優(yōu)勢(shì)

    劃片機(jī)工藝要求

    劃片機(jī)工藝要求嚴(yán)格且復(fù)雜,直接關(guān)系到芯片的質(zhì)量和生產(chǎn)成本。以下是劃片機(jī)工藝要求的主要方面:一、切割精度基本要求:劃片
    的頭像 發(fā)表于 12-26 18:04 ?578次閱讀
    劃片<b class='flag-5'>機(jī)</b>的<b class='flag-5'>工藝</b><b class='flag-5'>要求</b>

    單面拋光吸附墊是什么?

    單面拋光吸附墊是拋光技術(shù)領(lǐng)域中的一種重要配件,主要用于晶圓等半導(dǎo)體材料的單面拋光過(guò)程中。以下是對(duì)單面拋光吸附墊的詳細(xì)介紹: 一、定義與功能 單面
    的頭像 發(fā)表于 12-13 11:04 ?428次閱讀
    單面<b class='flag-5'>拋光</b>吸附墊是什么?

    晶圓單面拋光的裝置及方法

    晶圓單面拋光的裝置及方法主要涉及半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,以下是對(duì)其詳細(xì)的介紹: 一、晶圓單面拋光裝置 晶圓單面拋光裝置通常包含以下關(guān)鍵組件: 工作臺(tái):作為整個(gè)拋光裝置的基礎(chǔ),用于支撐和
    的頭像 發(fā)表于 12-12 10:06 ?566次閱讀
    晶圓單面<b class='flag-5'>拋光</b>的裝置及方法

    機(jī)械拋光用的什么設(shè)備和輔助品

    關(guān)于機(jī)械拋光設(shè)備和輔助品的介紹: 機(jī)械拋光設(shè)備 拋光機(jī) 手動(dòng)拋光機(jī) :適用于小批量或精細(xì)操作,操作者可以通過(guò)手動(dòng)控制拋光速度和壓力。 自動(dòng)
    的頭像 發(fā)表于 09-11 15:43 ?1106次閱讀

    等離子拋光和電解拋光區(qū)別在哪

    等離子拋光和電解拋光是兩種不同的表面處理技術(shù),它們?cè)诓牧霞庸?、表面處理、光學(xué)元件制造、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。這兩種技術(shù)各有特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì),適用于不同的材料和應(yīng)用場(chǎng)景。 1. 原理 等離子拋光
    的頭像 發(fā)表于 09-11 15:41 ?2705次閱讀

    機(jī)械拋光和電解拋光的區(qū)別是什么

    機(jī)械拋光和電解拋光是兩種常見(jiàn)的金屬表面處理技術(shù),它們?cè)诠I(yè)制造、精密工程、醫(yī)療器械、汽車(chē)制造、航空航天等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。這兩種技術(shù)各有特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì),適用于不同的材料和場(chǎng)合。下面將介紹這兩種拋光技術(shù)
    的頭像 發(fā)表于 09-11 15:40 ?2234次閱讀

    材料認(rèn)識(shí)-硅拋光片和外延片

    前言硅片按照產(chǎn)品工藝進(jìn)行分類,主要可分為硅拋光片、外延片和SOI硅片。上期我們已經(jīng)介紹SOI硅片,本期關(guān)注硅拋光片和外延片。硅拋光片硅拋光
    的頭像 發(fā)表于 06-12 08:09 ?3188次閱讀
    材料認(rèn)識(shí)-硅<b class='flag-5'>拋光</b>片和外延片

    電子發(fā)燒友

    中國(guó)電子工程師最喜歡的網(wǎng)站

    • 2931785位工程師會(huì)員交流學(xué)習(xí)
    • 獲取您個(gè)性化的科技前沿技術(shù)信息
    • 參加活動(dòng)獲取豐厚的禮品