新一期《光學(xué)學(xué)報(bào)》發(fā)表特邀綜述，透露我國(guó)EUV光刻物鏡系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)進(jìn)展

國(guó)內(nèi)光學(xué)領(lǐng)域的權(quán)威雜志《光學(xué)學(xué)報(bào)》第43卷第15號(hào)（網(wǎng)絡(luò)出版2023 - 08 - 15）登載題為《極紫外***曝光系統(tǒng)光學(xué)設(shè)計(jì)研究與進(jìn)展》的特別邀請(qǐng)，發(fā)表了一篇論述，北京理工大學(xué)光電學(xué)院光電影像技術(shù)及系統(tǒng)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室李燕（艷秋組對(duì)國(guó)內(nèi)外相關(guān)科研進(jìn)展，發(fā)表了一篇論述。

論文介紹說(shuō)，2002年，中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械及物理研究所研制出國(guó)內(nèi)最早由Schwarzschild物鏡組成的euv光角原理實(shí)驗(yàn)裝置，實(shí)現(xiàn)了0.75米特征大小的曝光。2017年，中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所開發(fā)了小時(shí)礦場(chǎng)euv暴露光學(xué)系統(tǒng)，報(bào)告顯示由雙面反光鏡組成的投影物鏡波譜差rms優(yōu)于0.75納米。建立了euv靜止曝光裝置，獲得了32納米線寬的光刻膠曝光圖形。建立了euv***核心技術(shù)驗(yàn)證及工程測(cè)試平臺(tái)。

對(duì)于euv物鏡系統(tǒng)設(shè)計(jì)，本論文評(píng)價(jià)說(shuō)，國(guó)內(nèi)對(duì)均勻率euv光角物鏡系統(tǒng)設(shè)計(jì)進(jìn)行了很多研究。目前物鏡系統(tǒng)的光學(xué)設(shè)計(jì)已達(dá)到國(guó)際先進(jìn)水平。變化倍率光角物鏡的光學(xué)設(shè)計(jì)在國(guó)內(nèi)外都處于深入研究階段。北京理工大學(xué)和中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械及物理研究所對(duì)na為0.33和na為0.55的euv曝光系統(tǒng)的光學(xué)設(shè)計(jì)進(jìn)行了長(zhǎng)期的深入研究，設(shè)計(jì)方法和效果可以與國(guó)際上已經(jīng)公開的同類設(shè)計(jì)相媲美。

綜述總結(jié)，目前在國(guó)內(nèi)的研究中，物鏡聚焦系統(tǒng)和照明系統(tǒng)的設(shè)計(jì)，誤差分析暴露；熱變形分析及控制研究系統(tǒng)北京理工大學(xué)和中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所高性能很久euv照片大物及照明系統(tǒng)的設(shè)計(jì)研究，智慧及有效的國(guó)際公布的同類設(shè)計(jì)類似的水平，中國(guó)的euv的***的研制打下了良好的基礎(chǔ)，培養(yǎng)了大量的人才。