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電弧離子鍍技術(shù)是什么?

LD18688690737 ? 來源:光電資訊 ? 2023-08-17 10:31 ? 次閱讀

電弧離子鍍是一種高能沉積工藝。基體為陽極,電弧靶為陰極?;陉帢O真空電弧放電原理進行鍍膜。

鍍膜時,電弧針在磁場的作用下移動到靶面,使周圍的氣體分子電離并點燃電弧源,陰極靶面上出現(xiàn)大量的陰極弧斑,這些弧斑在靶面上迅速進行不規(guī)則地移動,并引起電弧靶燃燒,使陰極靶表面蒸發(fā)并發(fā)生電離,從而產(chǎn)生大量金屬正離子。

這些金屬離子一方面維持著電弧靶的電弧放電,另一方面在負偏壓作用下,它們直接沉積在基底上或與其他離子結(jié)合沉積在基底上。

在電弧離子鍍中,由于電弧等離子體是從靶材中發(fā)射并電離的致密金屬物質(zhì),具有裝置結(jié)構(gòu)簡單、金屬電離率高、膜基結(jié)合力強、沉積離子能量高等優(yōu)點。

然而,電弧離子鍍存在著基體負偏壓大、粒子攜帶能量大、鍍層應力大、對基體材料有一定損傷等缺點。

除此之外,比較大的問題是在實驗過程中會有大量的金屬液滴沉積在薄膜表面,這些大液滴有的只是簡單的附著在薄膜表面,有的則會穿透整個膜表層,從而增加了膜層的表面粗糙度,產(chǎn)生了內(nèi)部缺陷,進而影響薄膜的光學性能。

這些金屬液滴形成的主要原因是在沉積薄膜時,電弧放電所產(chǎn)生的局部高溫會在靶材表面產(chǎn)生一些微小的熔池,熔出大液滴并沉積在基底上。一般來說,在多弧離子鍍設備中,真空度、負偏壓、溫度和蒸發(fā)距離等都是影響薄膜生長的關(guān)鍵因素。

隨著科學技術(shù)的進步和高端制造業(yè)的發(fā)展,電弧離子鍍技術(shù)取得了很大的進步,可以制備出結(jié)構(gòu)和性能更好的薄膜。

機器視覺半導體設備、3D成像和打印、太陽能和光伏發(fā)電、生命科學和醫(yī)療等產(chǎn)品的研發(fā)過程中,我們經(jīng)常需要一些比較精密的LED光源,目前市場上主要是LED+導光板的簡單形狀組合,在過去的時代尚能使用,在AI時代,達到光學精度級別的光源才能滿足您的需求。

以下是為您推出的一些精密的光學精度的光源系列產(chǎn)品:LumiPro3D

(工業(yè)和商業(yè))

具有廣闊的景深和高分辨率成像 (NA0.11, f/4.5),可在455-460nm的尺寸下進行脈沖操作。這款帶有偽隨機點云網(wǎng)紋可用于立體視覺的強大圖案投影儀是滿足您3D掃描需求的解決方案。

Lumi3D

(工業(yè)和商業(yè))

具有25-32W的紫外線功率。 單個照明器的多光譜輸出,可快速斷開連接,實現(xiàn)無溢出耦合。專為DLP9000設計, 包裝中含有專用驅(qū)動器/控制器。

LumiBright

(醫(yī)藥和生命科學,工業(yè)和商業(yè))

具有非成像光學器件,可將 LED陣列發(fā)出的光線引導至所需的錐角,具有高度均勻的照明。光功率高達 30W / 4000 流明,范圍從紫外光到近紅外光。

LumiFiber

(醫(yī)藥和生命科學,工業(yè)和商業(yè))

具有強而穩(wěn)定的光功率,是光纖應用的理想選擇。 支持最大2mm的光纖束。 高達25W的紫外光至近紅外光。專為SMA905連接器或?qū)舆B接器而設計。

LumiBlaze

(工業(yè)和商業(yè))

定制鏡頭具有多種波長選擇,具有高均勻性和高亮度的特點,適合在光線充足的地方使用。操作模式包括CW、PWM 模式和脈沖模式。

LumiBlazeR

(工業(yè)和商業(yè))

具有多個領(lǐng)域可更換的精密標線選項與標準或自定義模式,專為1英寸C型鏡頭設計,能進行高強度的長距離工作,操作模式包括CW、PWM 模式和脈沖模式。

LumiFlood & LumiLine

(工業(yè)和商業(yè))

具有高度均勻的輸出、緊湊而堅固的設計適用于紫外線固化和其他可見應用。50x50mm,工作距離為27mm。

LumiPro

(醫(yī)藥和生命科學)

具有可調(diào)節(jié)焦距和集成濾光片選項。可在一個單元中應用單波長或多波長。可單獨尋址的波長。

LumiXP

(微電子與半導體)

具有高均勻性和高功率的特點,可實現(xiàn)快速生產(chǎn)。用于接觸式曝光系統(tǒng)。在一個單元內(nèi)可混合使用各種波長。金屬模具可單獨尋址。

LumiDL

(微電子和半導體,工業(yè)和商業(yè))

具有高輻射功率(>30W)的特點,可從單個照明器輸出多波長。具有快速斷開的無泄漏接頭。DLP9500和DLP7000在DMD上能高均勻度輸出。

LumiSpectra

(醫(yī)藥和生命科學,工業(yè)和商業(yè))

具有兩種不同的選擇:透鏡和光纖(最大6mm)。 輻射功率輸出>0.30mW/(nm-mm2- sr)連續(xù)光譜為400nm-990nm,可擴展至 1700nm。

LumiSunTM-50

(太陽能和光伏發(fā)電)

具有符合 IEC AAA 級標準且輸出光譜可調(diào)節(jié)的特點。采用多光譜 LED 和用戶友好型的前面板 GUI,提供 0.1 至1.5 SUNS 的均勻和穩(wěn)定的照明。50x50 mm。

LumiSunTM-OEM

(太陽能和光伏發(fā)電)

具有0.4 至 1.5 SUNS 的輻照度,適用于光伏電池測試和研究、光化學、生物學以及材料測試。不含汞和臭氧,可用于硅或CdTe光譜的型號。 50x50 mm。

審核編輯:湯梓紅

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原文標題:電弧離子鍍技術(shù)

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