如下表所示,接口信號(hào)能工作在8Gbps及以上速率,由于速率很高,PCB布線設(shè)計(jì)要求會(huì)更嚴(yán)格,在前幾篇關(guān)于PCB布線內(nèi)容的基礎(chǔ)上,還需要根據(jù)本篇內(nèi)容的要求來進(jìn)行PCB布線設(shè)計(jì)。
高速信號(hào)布線時(shí)盡量少打孔換層,換層優(yōu)先選擇兩邊是GND的層面處理。盡量收發(fā)信號(hào)布線在不同層,如果空間有限,需收發(fā)信號(hào)走線同層時(shí),應(yīng)加大收發(fā)信號(hào)之間的布線距離。
針對(duì)以上高速信號(hào)還有如下方面的要求:
一、BGA焊盤區(qū)域挖參考層
如果接口的工作速率≥8Gbps,建議在BGA區(qū)域,挖掉這些信號(hào)正下方的L2層參考層,以減小焊盤的電容效應(yīng),挖空尺寸R=10mil。
如果接口的工作速率<8Gbps,例如DP接口只工作在5.4Gbps,那么不用挖BGA區(qū)域的參考層,如下圖所示。
二、避免玻纖編織效應(yīng)
PCB基板是由玻璃纖維和環(huán)氧樹脂填充壓合而成。玻璃纖維的介電常數(shù)大約是6,樹脂的介電常數(shù)一般不到3。在路徑長度和信號(hào)速度方面發(fā)生的問題,主要是由于樹脂中的玻璃纖維增強(qiáng)編織方式引起的。
較為普通的玻璃纖維編織中的玻璃纖維束是緊密絞合在一起的,因此束與束之間留出的大量空隙需要用樹脂填充,PCB中的平均導(dǎo)線寬度要小于玻璃纖維的間隔,因此一個(gè)差分對(duì)中的一條線可能有更多的部分在玻璃纖維上、更少的部分在樹脂上,另一條線則相反(樹脂上的部分比玻璃纖維上的多)。這樣會(huì)導(dǎo)致D+和D-走線的特性阻抗不同,兩條走線的時(shí)延也會(huì)不同,導(dǎo)致差分對(duì)內(nèi)的時(shí)延差進(jìn)而影響眼圖的質(zhì)量。
當(dāng)接口的信號(hào)速率達(dá)到8Gbps,且走線長度超過1.5inch,需謹(jǐn)慎處理好玻纖編織效應(yīng)。建議采用以下方式之一來避免玻纖編織效應(yīng)帶來的影響。
方式一:改變走線角度,如按10°~ 35°,或PCB生產(chǎn)加工時(shí),將板材旋轉(zhuǎn)10°以保證所有走線都不與玻纖平行,如下圖所示。
方式二:使用下圖走線,則W至少要大于3倍的玻纖編織間距,推薦值W=60mil,θ=10°,L=340mil。
三、差分過孔建議
1、高速信號(hào)盡量少打孔換層,換層時(shí)需在信號(hào)孔旁邊添加GND過孔。地過孔數(shù)量對(duì)差分信號(hào)的信號(hào)完整性影響是不同的。無地過孔、單地過孔以及雙地過孔可依次提高差分信號(hào)的信號(hào)完整性。
2、選擇合理的過孔尺寸。對(duì)于多層一般密度的PCB設(shè)計(jì)來說,選用0.25mm/0.51mm/0.91mm(鉆孔/焊盤/POWER隔離區(qū))的過孔較好;對(duì)于一些高密度的PCB也可以使用0.20mm/0.46mm/0.86mm 的過孔,也可以嘗試盲埋孔設(shè)計(jì)。
3、過孔中心距的變化,對(duì)差分信號(hào)的信號(hào)完整性影響是不同的。對(duì)于差分信號(hào),過孔中心距過大或過小,均會(huì)對(duì)信號(hào)完整性產(chǎn)生不利影響。
4、如果接口的工作速率≥8Gbps,那么這些接口差分對(duì)的過孔尺寸建議根據(jù)實(shí)際疊層進(jìn)行仿真優(yōu)化。
以下給出基于EVB一階HDI疊層的過孔參考尺寸:
R_Drill=0.1mm (鉆孔半徑)
R_Pad=0.2mm (過孔焊盤半徑)
D1:差分過孔中心間距
D2:表層到底層的反焊盤尺寸
D3:信號(hào)過孔與回流地過孔的中心間距
四、耦合電容優(yōu)化建議
1、耦合電容的放置,按照設(shè)計(jì)指南要求放置。如果沒有設(shè)計(jì)指南時(shí),若信號(hào)是IC到IC,耦合電容靠近接收端放置;若信號(hào)是IC到連接器,耦合電容請(qǐng)靠近連接器放置。
2、盡可能選擇小的封裝尺寸,減小阻抗不連續(xù)。
3、如果接口的信號(hào)工作速率≥8Gbps,那么這些接口的差分隔直電容建議按如下方式進(jìn)行優(yōu)化:
1)根據(jù)接口選擇挖空一層或者兩層地平面,如果挖空電容焊盤正下方L2地參考層,需要隔層參考,即L3層要為地參考層;
2)如果挖空L2和L3地參考層,那么L4層要為地參考層。挖空尺寸需根據(jù)實(shí)際疊層通過仿真確定;以下給出基于EVB一階HDI疊層的參考尺寸。
【注】D1:差分耦合電容之間的中心距;L:挖空長度;H:挖空寬度。
4、在耦合電容四周打4個(gè)地通孔以將L2~L4層的地參考層連接起來,如下圖所示。
五、ESD優(yōu)化建議
1、ESD保護(hù)器件的寄生電容必須足夠低,以允許高速信號(hào)傳輸而不會(huì)降級(jí)。
2、ESD需放置在被保護(hù)的IC之前,但盡量與連接器/觸點(diǎn)PCB側(cè)盡量靠近;放置在與信號(hào)線串聯(lián)任何電阻之前;放置在包含保險(xiǎn)絲在內(nèi)的過濾或調(diào)節(jié)器件之前。
3、如果接口的信號(hào)工作速率≥8Gbps,那么這些接口的差分對(duì)ESD器件建議按以下方式優(yōu)化。挖空ESD焊盤正下方L2和L3地參考層,L4層作為隔層參考層,需要為地平面。挖空尺寸需結(jié)合 ESD型號(hào)并根據(jù)實(shí)際疊層通過仿真確定。
以下給出基于基于EVB一階HDI疊層的所用ESD型號(hào)為ESD73034D的參考尺寸:
4、同時(shí)在每個(gè)ESD四周打4個(gè)地通孔,以將L2~L4層的地參考層連接起來,如下圖所示。
六、連接器優(yōu)化建議
1、在連接器內(nèi)走線要中心出線。如果高速信號(hào)在連接器有一端信號(hào)沒有與GND相鄰PIN時(shí),設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)在其旁邊加GND孔。
2、如果接口的信號(hào)工作速率≥8Gbps,那么這些接口的連接器要能符合相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)要求(如HDMI2.1/DP1.4/PCI-E3.0協(xié)議標(biāo)準(zhǔn))。推薦使用這些廠商的連接器:Molex、Amphenol、HRS等等。
3、根據(jù)接口選擇挖空一層或者兩層地平面,如果挖空連接器焊盤正下方的L2地參考層,需隔層參考,即L3層要作為地參考層;如果挖空L2和L3的地參考層,那么L4層需要為地平面,作為隔層參考層。挖空尺寸需結(jié)合連接器型號(hào)并根據(jù)實(shí)際疊層通過仿真確定。
4、建議在連接器的每個(gè)地焊盤各打2個(gè)地通孔,且地孔要盡可能靠近焊盤。
以下給出基于EVB一階HDI疊層的挖空參考尺寸:
連接器推薦布線方式:
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