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法國(guó)CEA-Leti正計(jì)劃新建一條工藝引導(dǎo)線

微云疏影 ? 來(lái)源:綜合整理 ? 作者:綜合整理 ? 2023-07-20 09:12 ? 次閱讀

歐洲三大微電子研究所之一的法國(guó)cea-leti計(jì)劃以fd-soi(完全消耗硅)技術(shù)為基礎(chǔ),開發(fā)10納米低電力技術(shù)模塊。該技術(shù)將擴(kuò)展到7納米技術(shù),這是duv光刻技術(shù)的局限性。

機(jī)構(gòu)方面表示,新的fd-soi技術(shù)將與18、22、28納米的現(xiàn)有設(shè)計(jì)進(jìn)行互換,還將包括嵌入式非揮發(fā)性存儲(chǔ)器(envm)技術(shù)。該項(xiàng)目在法國(guó)政府的資助下被分離為《歐盟芯片法案》。

據(jù)報(bào)道,位于法國(guó)格勒諾布的3000平方米無(wú)塵室將于今年9月動(dòng)工建設(shè),目前正在生產(chǎn)fd-soi零部件的晶體管半導(dǎo)體和格子工程模塊將被開發(fā)出來(lái)。新的工程將在三年內(nèi)準(zhǔn)備好,使用st. semiconductor在克勞斯附近的新合資晶片工廠和soitec的soi晶片。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
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