實(shí)驗(yàn)名稱:
高壓放大器基于掃描式固體腔F-P干涉儀的設(shè)計(jì)與優(yōu)化中的應(yīng)用
測(cè)試設(shè)備:
光源,準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng),待測(cè)電光晶體(包含驅(qū)動(dòng)),4f系統(tǒng)和CCD,信號(hào)源,ATA-2161高壓放大器,示波器等。
實(shí)驗(yàn)內(nèi)容:
為實(shí)現(xiàn)全天時(shí)邊界層內(nèi)大氣溫度絕對(duì)探測(cè),即精細(xì)獲取大氣Rayleigh散射譜形,借鑒F-P干涉濾波技術(shù)和晶體的電光特性,設(shè)計(jì)了一種掃描式固體腔F-P干涉儀,測(cè)試其濾波性能并進(jìn)行優(yōu)化。
實(shí)驗(yàn)過(guò)程:
如圖是搭建的透射型馬赫曾德干涉儀光路,此光路用做全息圖的記錄,主要包括以下幾個(gè)部分:光源,準(zhǔn)直擴(kuò)束系統(tǒng),待測(cè)電光晶體(包含驅(qū)動(dòng)),4f系統(tǒng)和CCD。電光晶體高壓驅(qū)動(dòng),函數(shù)發(fā)生器,使其產(chǎn)生一個(gè)脈沖方波信號(hào),然后經(jīng)過(guò)ATA-2161高壓放大器使其放大,最終把放大后的信號(hào)加載到晶體上,完成晶體電光性能的測(cè)試。
測(cè)量晶體內(nèi)部均勻性和折射率調(diào)制度關(guān)系的系統(tǒng)圖實(shí)驗(yàn)結(jié)果:
01
不同電壓下CCD上記錄的全息圖;
02
不同電壓場(chǎng)下,對(duì)應(yīng)晶體折射率的改變量。
對(duì)圖相位圖中晶體相位的改變量進(jìn)行平均處理,得到不同電壓場(chǎng)下,對(duì)應(yīng)的晶體的相位改變量,再由公式計(jì)算得出,不同電壓場(chǎng)下,對(duì)應(yīng)晶體折射率的改變量。
高壓放大器ATA-2161參數(shù)指標(biāo):
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注:此實(shí)驗(yàn)案例參考至知網(wǎng)論文《掃描式固體腔F-P干涉儀的設(shè)計(jì)與優(yōu)化》
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摘要
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由于組件傾斜引起的干涉條紋
由于偏移傾斜引起的干涉條紋
**文件信息
**
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