Microdefects
撰稿人:浙江大學 馬向陽
https://www.zju.edu.cn/
審稿人:浙江大學 楊德仁
9.3硅材料中的缺陷與雜質(zhì)
第9章 集成電路專用材料
《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》下冊
????????ADT 12寸全自動雙軸晶圓切割機
詳情:切割機(劃片機).ADT. 8230 12寸全自動雙軸晶圓切割機 成倍提高生產(chǎn)率
日本晶圓清洗設(shè)備,大量裝機,提供SiC晶圓、GaN基板、藍寶石晶圓及臭氧水(超氧水)生成設(shè)備
臺灣舊設(shè)備:AIXTRON (MOCVD) TS CCSH31*2" 13臺、TS19*2" 11臺;Disco-DFL7340
現(xiàn)有日本2條6寸晶圓生產(chǎn)線在售,直接向日本公司投標,全套設(shè)備完整
往期內(nèi)容:
9.3.4 體缺陷∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.3.3 面缺陷∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.3.2 線缺陷∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.3.1 點缺陷∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.2.7 硅片清洗與包裝∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.2.6 拋光工藝和拋光片∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.2.5 研磨工藝∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.2.4 切片工藝∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.2.3 晶錠切斷工藝∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.2.2 晶體定向∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.2.1 晶體熱處理∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.12 硅基發(fā)光材料∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.11 硅基石墨烯∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.10 硅基碳管∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.9 硅基應(yīng)變硅薄膜∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.8 硅基SiGe薄膜∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.7 SOI材料∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.6 硅外延單晶薄膜∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.5 納米硅材料∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.4 非晶硅薄膜∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.3 單晶硅∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.2 高純多晶硅∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1.1 集成電路對硅材料的要求∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
9.1 硅材料
第9章 集成電路專用材料
8.13.6 液體顆粒計數(shù)儀(LPC)∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
8.13 生產(chǎn)線其他相關(guān)設(shè)備
8.12.8 測試議表∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
8.12 集成電路測試設(shè)備
8.11.14 反應(yīng)腔室∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
8.11 主要公用部件
8.10.16 激光打標設(shè)備∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
8.9 工藝檢測設(shè)備8.8.12 電化學鍍銅設(shè)備(Cu-ECP)∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》8.8 濕法設(shè)備
8.7.18 等離子體刻蝕設(shè)備中的靜電吸盤∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
8.7 等離子體刻蝕設(shè)備
8.6.25 勻膠機(Spin Coater)∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》8.6薄膜生長設(shè)備8.5.9 快速熱處理設(shè)備∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》
8.5擴散及離子注入設(shè)備
8.4.14 濕法去膠設(shè)備∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》8.4光刻設(shè)備
二手設(shè)備
激光隱形切割-8寸晶圓切割機-激光切割機
商品名稱: Disco DFL7340
規(guī)格介紹:切割晶圓、藍寶石等
Manufacturer : Disco
Model : DFL 7340
Category : SCRIBING / DICING
Voltage : 3Φ 220V
FULL LOAD AMPS : 10A
MACHINE MAIN BREAKER RATING : 20A
AMPERE RATING OF LARGEST LOAD : 5A
說明:有3臺,年份在2014-2016年;1臺機狀OK,另二臺雷射功率不足,須維修,機臺在臺灣。
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集成電路
+關(guān)注
關(guān)注
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