目前,F(xiàn)C-BGA 都是在C4 的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)上,再進(jìn)行封裝與工藝技術(shù)的設(shè)計(jì)與研發(fā)的。
FC-BGA 的結(jié)構(gòu)與外形如圖所示
FC-BGA 是將芯片倒裝在有機(jī)基板 上,在芯片輸出端的電極上制作金屬凸塊,再將金屬凸塊焊接在有機(jī)基板上的。 依據(jù)產(chǎn)品應(yīng)用的不同,目前金屬凸塊分別有金屬釘頭、金凸塊、錫凸塊及銅桂凸塊等。 依據(jù)不同凸塊的種類(lèi)與應(yīng)用:芯片輸出端的凸塊間距也會(huì)有所不同。
倒裝(FC)工藝所需的金屬凸塊有很多種。 目前比較流行的錫凸塊 FC-BGA 封裝關(guān)鍵工藝流程如圖所示。
在FC-BGA 封裝關(guān)鍵工藝流程中,圓片減薄、倒裝芯片和底部填充是3個(gè)關(guān)鍵工序。
1.圓片減薄
凸塊圓片減薄 ( Wafer Grinding with Bump) 就是根據(jù)產(chǎn)品應(yīng)用及封裝結(jié)構(gòu)的要求,將圓片的厚度研磨到需要的厚度,如圖所示。 在倒裝芯片的工藝中,圓片來(lái)料上已經(jīng)完成了凸塊的制作,因此圓片正面并不平整。 由于圓片設(shè)有凸塊的區(qū)域是空心結(jié)構(gòu),所以在研磨過(guò)程中,圓片會(huì)產(chǎn)生振動(dòng),容易造成圓片龜裂甚至破片,尤其是超薄園片的研磨更有風(fēng)險(xiǎn)。 為了解決有凸塊不平整的研磨問(wèn)題,大部分的研磨會(huì)采用底部填充工藝技術(shù),使圓片正面能夠保持平整,從而保證研磨過(guò)程的穩(wěn)定。 目 前采用這種填充技術(shù)可將圓片厚度研磨至小于 200 μm。
倒裝芯片 ( Flip Chip)
這是一種高精度的表面貼裝技術(shù)(SMT),是將芯片翻轉(zhuǎn) 180°形成芯片與錫凸塊面朝下,并采用高精度坐標(biāo)對(duì)準(zhǔn)技術(shù),將芯片錫凸塊焊接在高密度線路基板上,如圖所示。
在芯片倒裝工藝中,比較常用的焊接方法是高溫?zé)釅喊搴附臃ㄅc高溫回流焊接法。
高溫?zé)釅喊搴附臃ň褪窃谛酒戏讲捎脽岚逯苯觽鲗?dǎo)熱量到錫球,使錫球與錫膏軟化,再與基板進(jìn)行焊接,待冷卻后形成年固的倒裝焊接,如圖所示。
高溫回流焊接法是將芯片放置在基板上,再將基板放置于高溫回流爐中,利用封閉式高溫回流爐進(jìn)行問(wèn)接加熱,將熱量傳導(dǎo)到錫球上,使錫球與錫齊同時(shí)軟化,待冷卻后形成牢固的倒裝焊接,如圖所示。
在倒裝芯片作業(yè)過(guò)程中,在各方應(yīng)力相互拉扯下,基板很容易產(chǎn)生翹曲現(xiàn)象,這會(huì)造成焊接出; 現(xiàn)偏移、冷焊、橋接短路等質(zhì)量問(wèn)題。
3.底部填充 ( Under Fill )
底部填充就是在芯片、錫凸塊及基板了種材料之間填充底部填充料,以避免3種材料因膨賬系數(shù)(CTE)不同而產(chǎn)生剪應(yīng)力破壞。 底部填充涉及流體力學(xué)、化學(xué)、熱力學(xué)及應(yīng)力學(xué)等知識(shí),其關(guān)鍵因素是黏度、溫度、流動(dòng)長(zhǎng)度與時(shí)間。 常見(jiàn)的底部填充方法有毛細(xì)滲膠法 與異方性焊按法。 目前比較常用的是毛細(xì)滲膠法,如圖所示。 依據(jù)芯片面積與填充空間的不同,毛細(xì)滲膠法又分為單針單側(cè)滲膠法與雙針雙側(cè)滲膠法。
審核編輯:湯梓紅
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