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芯片堆疊FPBGA產(chǎn)品翹曲度分析研究

1770176343 ? 來源:半導(dǎo)體封裝工程師之家 ? 2023-02-01 10:12 ? 次閱讀

摘要:

翹曲問題廣泛存在于基板類封裝產(chǎn)品中,對(duì)于堆疊芯片FPBGA 產(chǎn)品來說,控制產(chǎn)品的翹曲十分重要。在分析堆疊芯片F(xiàn)PBGA 產(chǎn)品翹曲度與材料的熱膨脹系數(shù)、體積、溫度變化量關(guān)系的基礎(chǔ)上,將翹曲仿真模擬和DOE 相結(jié)合,確定出模塑料和芯片是影響翹曲度的主要因素,并找到最優(yōu)化值。測量基板和產(chǎn)品的實(shí)際翹曲度,對(duì)比印證了仿真模擬的正確性,為設(shè)計(jì)開發(fā)類似產(chǎn)品時(shí)減小翹曲度提供了有效參考。

1 引言

電子封裝產(chǎn)品中,因?yàn)楦鞣N材料的熱膨脹系數(shù)(coefficient of thermal expansion,縮寫為CTE)不同,加上各材料的模量差異,在封裝生產(chǎn)過程中又經(jīng)過不同的溫度變化,產(chǎn)品很容易出現(xiàn)翹曲變形的問題。對(duì)于一些高端封裝產(chǎn)品來說,翹曲的程度對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量及可靠性尤其重要,特別是一些超薄堆疊芯片和微間距球柵陣列(Fine pitch ball grid array,縮寫FPBGA)封裝的產(chǎn)品,如果在前期產(chǎn)品設(shè)計(jì)時(shí)未充分考慮到翹曲問題,在后面的實(shí)際產(chǎn)品中就會(huì)有很大的風(fēng)險(xiǎn)出現(xiàn)產(chǎn)品內(nèi)部芯片裂損、材料分層、產(chǎn)品外部平面度異常等一系列問題,最終可能造成產(chǎn)品無法成功生產(chǎn)。針對(duì)產(chǎn)品翹曲問題,國內(nèi)外研究人員做過很多相關(guān)的分析研究,有關(guān)于模塑料原因產(chǎn)生的翹曲分析與解決,有關(guān)于堆疊芯片的翹曲仿真模擬分析,還有倒轉(zhuǎn)芯片產(chǎn)品的翹曲改善,但對(duì)于超薄芯片堆疊的FPBGA 產(chǎn)品的翹曲研究很少涉及。本文以一款超薄芯片堆疊FPBGA 產(chǎn)品為實(shí)例,通過翹曲理論分析和仿真模擬、試驗(yàn)設(shè)計(jì)(Design of experiment,縮寫為DOE)與產(chǎn)品實(shí)際翹曲相結(jié)合,分析影響產(chǎn)品翹曲的關(guān)鍵因素,找到改善產(chǎn)品翹曲的途徑。

2 翹曲影響因素與類型

2.1 堆疊芯片F(xiàn)PBGA 產(chǎn)品封裝結(jié)構(gòu)

該產(chǎn)品為一款典型的堆疊芯片封裝,球柵陣列的節(jié)距為0.50 mm,錫球采用Ф0.22 mm 的,根據(jù)產(chǎn)品的存儲(chǔ)容量不同,存儲(chǔ)芯片堆疊數(shù)目也不同,分為1 層、2層、4 層和8 層,產(chǎn)品第二顆和第三顆芯片之間采用線上蓋膜FOW(Film over wire)工藝,其他均采用通用裝片膜工藝,圖1 為前期設(shè)計(jì)概念圖,產(chǎn)品為5 層堆疊芯片的剖面圖,產(chǎn)品尺寸為13 mm×11.5 mm×1.3 mm,存儲(chǔ)芯片尺寸為12mm×10.7mm,控制芯片尺寸為4.8mm×1.5 mm。

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2.2 產(chǎn)品翹曲影響因素

由于不同封裝材料的熱膨脹系數(shù)不同,在溫度發(fā)生變化后,導(dǎo)致各種材料的收縮率不一致;同時(shí)這些材料的彎曲模量也不同,當(dāng)溫度發(fā)生變化后,CTE 大的材料其收縮率也大,如果其模量也大于其他材料,那么其他材料一定會(huì)被迫拉伸變形,當(dāng)拉伸力達(dá)到超過不同種材料間的粘合力時(shí),不同材料間的粘合處就會(huì)出現(xiàn)分層/剝離,如CTE 差異大的模塑料和基板經(jīng)過高低溫循環(huán)后,會(huì)出現(xiàn)翹曲甚至導(dǎo)致模塑料與基板分層;當(dāng)拉伸力超過某種材料模量的極限強(qiáng)度時(shí),就會(huì)造成該材料裂損,如翹曲導(dǎo)致的模塑料的拉伸力大于芯片的彎曲強(qiáng)度,導(dǎo)致芯片碎裂,如圖2 所示。產(chǎn)品是否會(huì)發(fā)生分層還是發(fā)生材料拉裂,受材料間的粘合力與材料彎曲強(qiáng)度影響。

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將圖2 所示產(chǎn)品簡化結(jié)構(gòu)建立如圖3 所示的簡化模型:將多層復(fù)合基板作為一種合應(yīng)力材料;芯片裝片膜模量遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于芯片且非常薄,對(duì)整個(gè)產(chǎn)品的影響可忽略不計(jì),最終簡化模型由模塑料、芯片、基板組成,結(jié)合產(chǎn)品受力模型圖,對(duì)產(chǎn)品不同受力情況進(jìn)行分析,溫度變化后,產(chǎn)品組成材料的CTE 不同產(chǎn)生的合應(yīng)力使產(chǎn)品發(fā)生形變,隨著產(chǎn)品形變逐漸變大,需要的形變力也會(huì)增大,從而逐漸抵消因CTE 不同而產(chǎn)生的合應(yīng)力,最終使產(chǎn)品受力平衡,產(chǎn)品翹曲形變停止。

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公式(1)中,F(xiàn) 為溫度變化時(shí)不同材料產(chǎn)生的合應(yīng)力,F(xiàn)a、Fb、Fc 為模塑料、芯片、基板由于溫度變化產(chǎn)生的應(yīng)力,ΔT 為溫度變化量,Va、Vb、Vc 分別為模塑料、芯片、基板的體積,Ea、Eb、Ec 表示模塑料、芯片、基板的拉伸模量,La、Lb、Lc 表示模塑料、芯片、基板的彈性模量。

假設(shè)產(chǎn)品在175℃塑封模具中所有材料的應(yīng)力為初始狀態(tài),當(dāng)溫度降低或者上升時(shí),不同材料的應(yīng)力開始發(fā)生變化,同時(shí)不同材料模量不同,合應(yīng)力F 不斷變化,為使產(chǎn)品整體受力為零以達(dá)到平衡狀態(tài),產(chǎn)品發(fā)生翹曲。

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公式(2)是產(chǎn)品翹曲穩(wěn)定后,各材料因CTE 不同在溫度變化后產(chǎn)生的應(yīng)力。各材料變形既有橫向拉伸力,也有縱向彎曲力,如Fax、Fay、Faz 為模塑料翹曲后在X 方向、Y 方向和Z 方向產(chǎn)生的應(yīng)力。由于翹曲后方向通常都趨向于材料模量大的一側(cè),實(shí)際封裝結(jié)構(gòu)復(fù)雜使應(yīng)力方向比較復(fù)雜,很難得到準(zhǔn)確的翹曲角度。

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公式(3)是產(chǎn)品翹曲穩(wěn)定后,通過各材料收縮量不同引起的應(yīng)力。ΔVa、ΔVb、ΔVc 表示模塑料、芯片、基板收縮量(體積變化量)。

根據(jù)力學(xué)原理,在力的平衡下,產(chǎn)品整體受力平衡,即F1=F2,得出公式(4):

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ΔT×α×V 實(shí)際上就是材料體積變化量ΔV,通過公式(4)可以發(fā)現(xiàn),產(chǎn)品溫度發(fā)生變化,產(chǎn)品的體積跟著變化(收縮或膨脹),而各材料的CTE 不同,體積變化也不同,隨著溫度變化越大,各材料的體積變化量差異越大,這種體積變化差異的不匹配,最終只能以翹曲的形式出現(xiàn)在產(chǎn)品上。各材料產(chǎn)生的應(yīng)力ΔT×α×V× (E+L)和溫度變化量、熱膨脹系數(shù)、總體積及模量都有關(guān)系。

2.3 翹曲類型

以6 mm×6 mm×0.7 mm 的柵格陣列封裝產(chǎn)品為例,裸芯片尺寸為4 mm×4 mm×0.2 mm,基板厚度為0.2 mm,由于產(chǎn)品各材料的CTE 不同,溫度變化不同,各材料收縮/膨脹量的不匹配使產(chǎn)品出現(xiàn)不同類型的翹曲:正向翹曲(笑臉型)與反向翹曲(哭臉型),如圖4所示。正向翹曲是由于模塑料和芯片的CTE 大,從注塑高溫降低后,模塑料和芯片層收縮/膨脹大于基板的收縮/膨脹,就產(chǎn)生應(yīng)力差,當(dāng)這個(gè)應(yīng)力差大于基板抗形變的力度時(shí),基板因受力被迫變形。反向翹曲產(chǎn)生的機(jī)理則與之相反。

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3 基板與產(chǎn)品翹曲仿真模擬

產(chǎn)品發(fā)生翹曲的影響因素較多,使用ANSYS13.0軟件進(jìn)行翹曲仿真模擬,并結(jié)合DOE 驗(yàn)證,如圖5 所示,對(duì)該FPBGA 產(chǎn)品建立模型,分別仿真模擬整條基板和單顆產(chǎn)品的翹曲程度。該產(chǎn)品基板翹曲太大將無法進(jìn)行錫球焊接,在對(duì)產(chǎn)品翹曲仿真進(jìn)行模擬的同時(shí),也對(duì)基板翹曲程度進(jìn)行仿真模擬。

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封裝產(chǎn)品的各材料特性如表1 所示。

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由于芯片的CTE 和模量是定值,DOE 中只取芯片厚度為變量因子;模塑料厚度由塑封模具厚度0.9mm確定,模塑料CTE 為變量因子,其體積隨芯片厚度變化而改變;基板厚度固定為200 μm,取其CTE 為變量因子(以基板CTE 為準(zhǔn)),DOE 設(shè)計(jì)如表2 所示,產(chǎn)品、基板翹曲程度分別為翹曲1 和翹曲2(175 ℃塑封時(shí)為初始狀態(tài),冷卻到室溫25℃時(shí))。

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將DOE 結(jié)果展開如圖6 所示,從圖上可以看出,模塑料CTE 和芯片厚度是影響產(chǎn)品、基板翹曲的主要因素,基板CTE 是影響翹曲的次要因素。結(jié)合2.2 節(jié)應(yīng)力大小由ΔT×α×V×(E+L)決定,可以推斷出模塑料CTE 是影響產(chǎn)品、基板翹曲的主要因素。模塑料CTE與體積乘積量大,影響因子大;芯片厚度的變化也在改變模塑料的體積,這更進(jìn)一步說明模塑料是影響產(chǎn)品、基板翹曲的最關(guān)鍵因素。

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通過DOE 響應(yīng)優(yōu)化圖(圖7)找到產(chǎn)品最小翹曲的因子組合,當(dāng)模塑料、基板的CTE 最小、芯片厚度為445 μm 時(shí),基板翹曲和產(chǎn)品翹曲最小。

4 基板與產(chǎn)品翹曲測量驗(yàn)證

通過測量制作樣品的翹曲,確認(rèn)是否和仿真模擬結(jié)果相同,為了減少樣品試驗(yàn)數(shù),僅驗(yàn)證確認(rèn)芯片在不同厚度下的翹曲程度,樣品中有2 層、3 層、4 層、5層堆疊芯片,芯片總厚度分別為200 μm、300 μm、400 μm、500 μm,分別測量基板翹曲和產(chǎn)品翹曲。

4.1 基板翹曲測量與分析

測量在175 ℃塑封、150 ℃后固化、錫球260 ℃焊接、175 ℃降翹曲烘烤后的基板翹曲,結(jié)果如圖8 所示。400 μm 和500 μm 芯片厚度(4 層芯片和5 層芯片) 的基板經(jīng)過各溫度條件后回到室溫翹曲最小, 200 μm 芯片厚(2 層芯片)的基板翹曲最大,后固化后基板翹曲都稍有降低,主要是模塑料進(jìn)一步充分反應(yīng)以及部分應(yīng)力受熱釋放;降翹曲烘烤基板翹曲減低較小,外在機(jī)械矯正時(shí)應(yīng)力已經(jīng)非常小,應(yīng)力釋放有限。

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4.2 產(chǎn)品翹曲實(shí)際測量與分析

使用投影波紋儀shadow morie 測量實(shí)際產(chǎn)品在不同溫度下的翹曲:從25 ℃到175 ℃,所有產(chǎn)品呈反向翹曲由大變??;從175℃到260℃,所有產(chǎn)品呈正向翹曲由小變大;無論是室溫25 ℃還是高溫260 ℃, 200 μm 芯片厚度的產(chǎn)品翹曲都是最大的,如圖9 所示。

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從翹曲仿真模擬翹曲度和實(shí)際產(chǎn)品翹曲度來看,模塑料和芯片的厚度是影響產(chǎn)品翹曲度的主要因素,通過選擇低CTE 模塑料和改變芯片厚度/體積可以有效地減小基板和產(chǎn)品的翹曲度。

將基板和產(chǎn)品的仿真模擬翹曲度和實(shí)際產(chǎn)品翹曲度(從175 ℃降到室溫25 ℃時(shí))進(jìn)行比較,如圖10所示,翹曲度存在一定的差異,這是由于實(shí)際產(chǎn)品中芯片厚度及其堆疊厚度均會(huì)有一定的誤差而影響其一致性,但翹曲度隨芯片厚度變化的變化趨勢(shì)是一致的———隨著芯片厚度/體積增加(模塑料體積減小),翹曲度減小。

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5 結(jié)論

文章以一款典型堆疊芯片F(xiàn)PBGA 產(chǎn)品為實(shí)例,從理論上分析產(chǎn)品翹曲是由于各種材料CTE 不匹配、體積收縮不一致造成應(yīng)力不同而導(dǎo)致,其與溫度變化量、材料CTE 和總體積相關(guān)。研究分析表明,模塑料CTE 和芯片厚度/體積比是影響翹曲的最主要因素,低CTE 的模塑料和基板、厚芯片能夠降低基板翹曲和產(chǎn)品翹曲,為類似堆疊芯片F(xiàn)PBGA 產(chǎn)品設(shè)計(jì)時(shí)減小翹

曲提供了較好的參考。

審核編輯 :李倩

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