二次離子質(zhì)譜(SIMS)是一種分析方法。具有高空間分辨率和高靈敏度的工具。它使用高度聚焦的離子束(通常是氧氣或(無(wú)機(jī)樣品用銫離子)“濺射”樣品表面上選定區(qū)域的材料。
噴射出的“二次離子”通過(guò)質(zhì)量。分光計(jì),它將離子按照它們的質(zhì)量/電荷比,實(shí)際上提供了化學(xué)物質(zhì)分析一個(gè)很小的取樣量。
編輯:黃飛
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原文標(biāo)題:聚焦離子束工藝技術(shù)詳解(178頁(yè)P(yáng)PT)
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