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RS瑞森半導體在電動工具、鋰電保護板上的應用

jf_19612427 ? 來源:jf_19612427 ? 作者:jf_19612427 ? 2022-10-28 15:03 ? 次閱讀

RS40N130G是一款低壓MOS-SGT工藝產品,SGT技術獨特的器件結構和芯片設計提升了產品的耐用度,減少芯片面積,實現了屏蔽柵極與漂移區(qū)的作用 ,同時也減小了米勒電容以及柵電荷,即使器件的開關速度加快也能降低減低其損耗,被廣泛應用于電動工具、逆變器、鋰電保護板等產品。

一、SGT MOSFET優(yōu)勢介紹

MOSFET分類:

Trench (溝槽型)MOSFET:主要用于低壓領域;

SGT(Shielded Gate Transistor,屏蔽柵溝槽)MOSFET:主要用于中壓和低壓領域;

平面型MOSFET、COOL(超結)MOSFET:主要在高壓領域應用。

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圖1:應用于同步整流SGT MOS

二、SGT技術優(yōu)勢

提升功率密度:

SGT工藝比普通溝槽工藝挖掘深度深3-5倍,在柵電極下方增加了一塊多晶硅電極,即屏蔽電極或耦合電極。屏蔽電極與源電極相連,既實現了屏蔽柵極與漂移區(qū)的作用,又減小了米勒電容以及柵電荷,使器件的開關速度得以加快,降低損耗。與此同時又實現了電荷耦合效應,減小了漂移區(qū)臨界電場強度,器件的導通電阻得以減小,降低導通損耗,所以與普通溝槽式MOSFET相比,SGT MOSFET的內阻要低2倍以上。

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圖2:Trench MOS和SGT MOS柵電荷對比

極低的開關損耗:

SGT工藝相對傳統(tǒng)Trench結構,具有低Qg 的特點,它的技術革新改變了MOSFET內部電場的形態(tài),將傳統(tǒng)的三角形電場變更為梯形電場,可以進一步減小EPI層的厚度,降低導通電阻Rds(on),有助于降低器件在開關電源應用中的開關損耗。

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圖3:Trench MOS和SGT MOS器件結構

更好的EMI優(yōu)勢和抗雪崩EAS能力:

由于SGT MOSFET具有較深的溝槽深度,可以利用更多的晶硅體積來吸收EAS能量,所以SGT在雪崩時性能更強,更能承受雪崩擊穿和浪涌電流。同時SGT結構中寄生的CD-shield和Rshield可以吸收器件關斷時dv/dt變化帶來的尖峰和震蕩,具有更好的EMI特性。

RS40N130G特點與應用:

漏源擊穿電壓40V,漏極電流最大為130A;開啟延遲典型值為18.8nS,關斷延遲時間典型值為136.8nS,上升時間70.1nS,下降時間92.3nS,反向傳輸電容55pF,反向恢復時間56nS,正向電壓的最大值1.3V。Rds(on)典型值為1.45mΩ,推薦用于鋰電池保護板、同步整流、電動工具等。

瑞森半導體作為一家功率器件整體方案提供商,在中壓MOS-SGT系列產品上以先進的生產工藝,優(yōu)越的性能,良好的口碑,受到眾多品牌的信任與支持。

附:瑞森半導體部分低壓MOSFET-SGT產品選型表

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