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微系統(tǒng)技術(shù)的現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢

今日半導(dǎo)體 ? 來源:今日半導(dǎo)體 ? 作者:今日半導(dǎo)體 ? 2022-05-06 14:49 ? 次閱讀

摘要:

電力電子產(chǎn)品系統(tǒng)逐漸向小型化、高度集成化的方向發(fā)展,微系統(tǒng)匯集了多門學(xué)科技術(shù)的創(chuàng)新與突破,無論在軍事還是民用領(lǐng)域已有廣泛的應(yīng)用。本文詳述了國內(nèi)外微系統(tǒng)技術(shù)的現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢,其技術(shù)創(chuàng)新點在于多功能芯片一體化、智能傳感、異質(zhì)集成、堆疊式系統(tǒng)級封裝技術(shù)的突破和新型半導(dǎo)體材料的應(yīng)用;文末總結(jié)了微系統(tǒng)技術(shù)發(fā)展的意義,并提出展望。

微系統(tǒng)技術(shù)融合了微電子、微機電和微光電技術(shù),通過系統(tǒng)架構(gòu)和軟件算法,將微傳感器、微控制器、微執(zhí)行器、微能源及各種接口等構(gòu)成一體化軟、硬件多功能集成,采用微納制造及微集成工藝實現(xiàn)系統(tǒng)結(jié)構(gòu)的微納尺度化。它被公認為21世紀的革命性技術(shù)之一。

微系統(tǒng)具有高集成度、微小型化、低功耗、高可靠性、高效率等優(yōu)點。微系統(tǒng)技術(shù)上的新材料、新方法、新工藝等技術(shù)變革必將對軍民兩用的系統(tǒng)研發(fā)和制造帶來顛覆性影響。

20世紀60年代以來,微系統(tǒng)技術(shù)經(jīng)歷了從微器件的設(shè)想到微壓力傳感器的問世,逐步實現(xiàn)技術(shù)突破和制造工藝的改進,至今進入集成技術(shù)大力發(fā)展階段,在信息、生物、航天、軍事等領(lǐng)域已有廣泛應(yīng)用。美國等發(fā)達國家在二十世紀末已將微系統(tǒng)技術(shù)列為現(xiàn)代前沿核心技術(shù),并納入國防科技攻關(guān)計劃,掌握微系統(tǒng)技術(shù)對于國家保持技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢具有重要意義。微系統(tǒng)技術(shù)和產(chǎn)業(yè)發(fā)展如今也受到我國各部門、相關(guān)高校和科研機構(gòu)的高度重視和大力支持,深入研究勢在必行。

本文結(jié)合國內(nèi)外微系統(tǒng)技術(shù)的現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢,重點從單片微波集成電路(MMIC)、多芯片模塊(MCM)、微機電系統(tǒng)(MEMS)、片上系統(tǒng)(SOC)、系統(tǒng)級封裝(SIP)等有代表性的微系統(tǒng)技術(shù)的發(fā)展,總結(jié)出微系統(tǒng)正在尋求“單片高功率多功能芯片、多芯片三維組裝(3DMCM)、異構(gòu)集成、智能傳感、堆疊式系統(tǒng)級封裝”技術(shù)的創(chuàng)新和突破;本文對微系統(tǒng)各領(lǐng)域的應(yīng)用進行了舉例;對微系統(tǒng)技術(shù)發(fā)展面臨的挑戰(zhàn)進行了評述。并提出我國應(yīng)在武器裝備方面加緊微系統(tǒng)技術(shù)的研究和應(yīng)用,以盡快提升我軍的戰(zhàn)斗能力。

1 國外微系統(tǒng)技術(shù)的現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢

微系統(tǒng)技術(shù)的發(fā)展主要集中在MMIC、MCM、MEMS、SOC、SIP等技術(shù)上,下面從這幾項主要技術(shù)分別介紹微系統(tǒng)技術(shù)的現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢。

1.1 MMIC技術(shù)現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢

MMIC(MonolithicMicrowaveIntegratedCircuit)即單片微波集成電路,國外MMIC芯片的頻率已經(jīng)向太赫茲方向發(fā)展,封裝上正在向三維立體MMIC(3DMMIC)發(fā)展,產(chǎn)品覆蓋了從微波到毫米波的頻段范圍,種類多,性能優(yōu)良。

從半導(dǎo)體材料來說,寬禁帶半導(dǎo)體的異軍突起為微系統(tǒng)技術(shù)提供了有力的基石;國外以GaAs為代表的第二代半導(dǎo)體已發(fā)展成熟,正大力發(fā)展以GaN為代表的第三代半導(dǎo)體MMIC器件。表1是幾種半導(dǎo)體材料的特性參數(shù)對比,圖1是半導(dǎo)體輸出功率極限與頻率關(guān)系。

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表1及圖1顯示,GaN頻率特性更好,能應(yīng)用在更高電壓、更高溫度、更寬的工作頻率上。GaN器件與Si和GaAs器件相比,功率密度更高、更耐高溫、禁帶寬度更理想,GaN的原子體積約為GaAs的一半,因此,在微系統(tǒng)中采用GaN制作組件,能使結(jié)構(gòu)進一步微縮,且重量減輕。GaN技術(shù)縮小工藝尺寸的優(yōu)勢在微系統(tǒng)中日益凸顯,目前,GaN工藝尺寸正向納米級開發(fā)挺進。

近年開發(fā)出化學(xué)鍵更強、更細、更高效的eGaNFET器件,采用了第四代氮化鎵場效應(yīng)電晶體,有高電場耐受極限的優(yōu)勢,其晶體管各電端子間距比普通器件縮短10倍,電阻損耗更低,也極大縮短電子轉(zhuǎn)換時間,還具有極佳的散熱性能,為微系統(tǒng)技術(shù)發(fā)展的瓶頸提供解決思路。

經(jīng)過幾十年的發(fā)展,3DMMIC技術(shù)已從單個器件向集成收發(fā)于一體的多功能芯片發(fā)展,把多片、多級放大器集成于一個芯片,提高單片性能的同時,縮小了設(shè)計和制造的結(jié)構(gòu)空間。例如,TRIQ公司的Ka頻段低噪聲放大器TGA4507(1.86mm×0.85mm×0.1mm),其一只芯片內(nèi)部集成了三級放大器,增益達到22dB。3DMMIC主要結(jié)構(gòu)如圖2所示。

單片高功率方面,國外正大力發(fā)展以GaN為代表的第三代半導(dǎo)體MMIC器件。GaN器件功率容量大、效率高,功率密度比砷化鎵器件高10倍,GaN器件不僅帶寬更寬、放大器增益更高,器件尺寸更優(yōu)化,效率也有相應(yīng)提高,單片功率放大器的輸出功率已從幾百毫瓦發(fā)展到70W,而效率提升到45%。

因此,MMIC技術(shù)正向著寬禁帶半導(dǎo)體快速升級、單片高功率、多功能芯片一體化等方向發(fā)展。

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1.2 MCM技術(shù)現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢

MCM(多芯片模塊,即Multi-chipModule)綜合了多層PCB、高密度互連、SMT、微封裝幾項技術(shù),在國外通信市場、軍事應(yīng)用上已相當(dāng)成熟和廣泛,是系統(tǒng)化、小型化的重要途徑。目前MCM技術(shù)的集成度越來越高,正從二維向三維多芯片組裝(3DMCM)方向發(fā)展。美國和日本兩國在多芯片組裝技術(shù)的發(fā)展上較為領(lǐng)先。

3DMCM關(guān)鍵是實現(xiàn)將不同功能的微波多芯片模塊疊層互聯(lián)的垂直微波互聯(lián)技術(shù),目前有兩種實現(xiàn)方法:(1)無焊接垂直互聯(lián),采用毛紐扣結(jié)構(gòu);(2)環(huán)氧樹脂包封垂直互聯(lián)。

圖3展示了一種多芯片模塊之間采用毛紐扣垂直互聯(lián)結(jié)構(gòu)的三維MCM示意圖,可見,在垂直排列且互聯(lián)的二維MCM之間,采用了金屬環(huán)形框?qū)崿F(xiàn)固定,用金屬框完成信號連接、隔離以及接地,且易于實現(xiàn)每個模塊的散熱。

圖4展示了一種環(huán)氧樹脂包封的垂直互聯(lián)電路結(jié)構(gòu)示意圖和實物。加工時將立體堆疊的二維MCM用環(huán)氧樹脂進行包封,環(huán)氧樹脂既是密封材料,也是堆疊芯片的空間支撐物,同時作為MCM的絕緣介質(zhì)。

1.3 MEMS技術(shù)現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢

微機電系統(tǒng)(即Micro-electro-mechanicalSystem,簡稱MEMS),由微傳感器、微執(zhí)行器和微能源等部分組成,實現(xiàn)了微電子技術(shù)與精密機械加工技術(shù)的有機融合。它采用硅微加工工藝,在一個硅片上能制造上千個微型機電裝置,解決了傳統(tǒng)工藝大批量生產(chǎn)的瓶頸,從而降本提效。

從技術(shù)分類而言,MEMS技術(shù)有傳感MEMS技術(shù)、生物MEMS技術(shù)、光學(xué)MEMS技術(shù)、射頻MEMS技術(shù),甚至量子MEMS技術(shù)等,在使用端分別實現(xiàn)微型加速度傳感、面陣觸覺傳感、壓力傳感等多方面的信息通信,或是與微機械技術(shù)、光電子技術(shù)相結(jié)合形成光通信器件等[4]。

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MEMS技術(shù)的一個趨勢是高度集成,實現(xiàn)小體積、低功耗的單芯片集成化的片上系統(tǒng),將傳感器、執(zhí)行器、信號處理電路制造成一體化的微機械結(jié)構(gòu)。實現(xiàn)途徑有:(1)單個硅片上加工MEMS微機械結(jié)構(gòu)和處理電路;(2)一個基板上對ASIC電路和MEMS結(jié)構(gòu)分別加工。前者采用CMOS和MEMS集成制造工藝,后者采用薄膜、厚膜、低溫共燒陶瓷(LTCC)等混合集成制造工藝。

MEMS的另一個趨勢是尺度向小型化集中,即納米機電系統(tǒng)(NEMS)。研究人員已開始采用納米材料進行微系統(tǒng)制造,隨著納米加工技術(shù)的發(fā)展,NEMS傳感器、NEMS超微型飛行器等將會問世。美國大學(xué)學(xué)者將二氧化釩(VO2)器件集成于硅晶圓上,研究出多功能自旋微型電子智能傳感器?;谔技{米管(CNT)或納米線等納米材料和納米尺度結(jié)構(gòu)的應(yīng)用,可實現(xiàn)更高性能的器件集成。

MEMS的下一步趨勢是研發(fā)智能傳感及新結(jié)構(gòu)和新材料應(yīng)用。

新一代MEMS傳感器,是具有感知和自知能力的智能傳感器,是智能系統(tǒng)的關(guān)鍵元件。智能傳感器集成了多種半導(dǎo)體傳感技術(shù),MEMS的新材料和新結(jié)構(gòu)、新工藝也同時得以發(fā)展;表面Si微機械加工技術(shù)和單片多功能集成CMOS-MEMS工藝等并存。由遠程監(jiān)控和自適應(yīng)傳感器網(wǎng)絡(luò)接口的需求逐漸形成第五代多功能集成的新器件,集更低功耗、更高精度、更微型化的電子學(xué)設(shè)計創(chuàng)新于一身。

若將S&A單片或異構(gòu)集成在CMOS平臺上,可提高器件性能、減小器件尺寸,并降低成本。德州儀器的微鏡制造過程就實現(xiàn)了超大規(guī)模S&A與CMOS的結(jié)合。

光譜傳感技術(shù)研究方面,美國BANPIL公司已制成多譜圖像傳感器(單片器件)。另外,采用量子技術(shù)還能實現(xiàn)集成在手機芯片上的量子傳感裝置。

此外,現(xiàn)代軍用MEMS慣性傳感器技術(shù)、MEMS固體波動陀螺諧振子研發(fā)、RF_MEMS開關(guān)的研究都是MEMS技術(shù)的熱門。國外在微型慣性測量裝置方面的研制水平已具備戰(zhàn)術(shù)級精度,制導(dǎo)武器上已有大量應(yīng)用。

1.4 微系統(tǒng)集成技術(shù)的發(fā)展趨勢

片上系統(tǒng)SOC(SystemonChip),是微電子集成電路的未來,系統(tǒng)包括CPU、存儲器及外圍電路等。其以嵌入式系統(tǒng)為核心,集軟、硬件于一體,SOC技術(shù)能最大限度地簡化電路設(shè)計,將整個產(chǎn)品系統(tǒng)中軟件和硬件設(shè)計的穩(wěn)定性、可靠性、低功耗等都簡化到IC設(shè)計中去解決。

SOC對信號的采集、轉(zhuǎn)換、存儲以及處理完成一整套服務(wù),進而催生了更多技術(shù)的研究,像深亞微米技術(shù)、低噪音設(shè)計、多通道陣列信號處理可重構(gòu)異構(gòu)SOC設(shè)計等,SOC采用的是軟硬件協(xié)同技術(shù)。

微系統(tǒng)中的架構(gòu)技術(shù)是多功能集成的核心,主要技術(shù)途徑為:(1)包括SIP和SOP等類似于微納米與介觀尺度的組裝技術(shù);(2)空間疊層集成技術(shù),同質(zhì)2.5D集成已成熟、正向3D集成邁進;(3)異質(zhì)集成技術(shù),是實現(xiàn)芯片級系統(tǒng)平臺目標的關(guān)鍵,即在同一襯底上實現(xiàn)不同材料、不同工藝的微納器件的集成,技術(shù)路線有所不同,比如直接異質(zhì)集成、晶圓級或芯片級三維異質(zhì)集成等。

國外在異質(zhì)集成方面的研究主要為單片異質(zhì)集成:兼容Si基CMOS工藝制作出來的Si基CMOS微電子器件;III-V族微電子器件和光電子器件、單片MEMS器件等。2016年,瑞典的研究人員,兼容微測熱輻射計陣列和CMOS工藝后,單片異質(zhì)集成了讀出電路。

集成微系統(tǒng)時代,在成像傳感、光集成、慣性傳感、射頻、生物等微系統(tǒng)和邏輯微系統(tǒng)的三維集成技術(shù)均有新突破,包含MEMS和IC的3D異構(gòu)集成、SIP3D集成和異質(zhì)3D集成,都有不同程度的新進展。

因此,異質(zhì)集成是微系統(tǒng)集成技術(shù)發(fā)展的重點。

1.5 微系統(tǒng)封裝技術(shù)的發(fā)展趨勢

微系統(tǒng)封裝主要基于集成電路工藝方法的進步,發(fā)展趨勢即系統(tǒng)級封裝(SIP)技術(shù),它通過多次的薄膜淀積、光刻、擴散注入、刻蝕等基本工藝操作來實現(xiàn)。微系統(tǒng)制造技術(shù)也依賴于微機械加工技術(shù)的微型化、集成化、智能化發(fā)展,有微結(jié)構(gòu)加工技術(shù)如濕法刻蝕、干法深刻蝕、表面加工技術(shù)等,以及特殊微加工技術(shù)如鍵合、光刻模鑄電鍍成型技術(shù)LIGA技術(shù)、納米壓印技術(shù)、高深寬比制造技術(shù)等。

片上系統(tǒng)(SOC)發(fā)展到深次微米以下,將有極大的技術(shù)瓶頸,唯有將封裝的內(nèi)盒功能擴展到實現(xiàn)系統(tǒng)或子系統(tǒng)功能,才可能做到整體更加微型化,于是,系統(tǒng)級封裝SIP的研究和發(fā)展,成為微系統(tǒng)技術(shù)發(fā)展的重要方向。

圖5所示為電子封裝結(jié)構(gòu)發(fā)展路線圖,展現(xiàn)了電子封裝結(jié)構(gòu)隨著技術(shù)進步正向高集成度、低成本、高性能的3D微系統(tǒng)封裝方向發(fā)展。

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芯片技術(shù)隨著產(chǎn)品高性能和小型化的要求而被大量使用,如COB(ChipsonBoard)技術(shù)和FCBGA/CSP即倒裝芯片封裝。到2020年,封裝技術(shù)將更新到芯片埋入和堆疊封裝形式:EmbeddedSiP(芯片埋入式系統(tǒng)級封裝)、3DIC(三維集成電路)、FOPoP(扇出型封裝疊封裝)、FOSiP(扇出型系統(tǒng)級封裝)。此外,TSV硅片通道、SiP射頻、3D圓片級的再布線封裝與50μm及以下超薄芯片的三維堆疊封裝技術(shù),如今也被廣泛應(yīng)用到電子封裝的實踐中。

微系統(tǒng)的封裝技術(shù)最終要滿足微小型化、多功能集成和高密度MEMS傳感的要求,WLCSP、SOC和SIP、低溫鍵合等封裝技術(shù)已逐漸得以應(yīng)用和成熟,在傳感器內(nèi)核晶圓片上已創(chuàng)新實現(xiàn)了批量3D組裝、3D折疊工藝、金屬基低溫鍵合、扇出晶圓級封裝等技術(shù)。

2 國內(nèi)微系統(tǒng)技術(shù)的現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢

2.1 國內(nèi)微電子技術(shù)的發(fā)展

近年來,我國正從政策和各方條件保障逐步加大對微系統(tǒng)技術(shù)的扶持力度,微電子技術(shù)也有了新突破:超深亞微米集成技術(shù),該方面研究已達到國際先進水平;芯片設(shè)計等集成電路的設(shè)計水平已有明顯提高。在數(shù)字電視、高端IC卡、3G手機、多媒體信號處理及信息安全等多個領(lǐng)域,我國已有自主設(shè)計的芯片產(chǎn)品。我國自主知識產(chǎn)權(quán)的核心芯片的開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化也取得了可觀的突破(IC設(shè)計水平已達到0.13μm)。微電子技術(shù)方面,我國逐漸從“低端模仿”走向以技術(shù)創(chuàng)新為主的“高端替代”。在國內(nèi)相關(guān)政策的有力支持下,硅基微電子技術(shù)水平也與國外在逐漸縮小差距。

2.2 國內(nèi)微系統(tǒng)的發(fā)展

我國的微系統(tǒng)技術(shù)已有一定進展,ASIC器件已經(jīng)進行了在軌試驗并開始進行空間應(yīng)用,但在制造工藝水平上有待提高?,F(xiàn)階段我國將“制造屬于自己的微器件”作為我國微系統(tǒng)的發(fā)展目標,將在利用現(xiàn)有資源和借鑒國外先進技術(shù)經(jīng)驗的同時進行自我創(chuàng)新,在研發(fā)和生產(chǎn)方面不懈努力,早日實現(xiàn)我國的微系統(tǒng)行業(yè)繁榮發(fā)展。

中國首批院級戰(zhàn)略研究中心———中物院微系統(tǒng)與太赫茲研究中心(簡稱微太中心)把發(fā)展目標定為:大力推進微系統(tǒng)與太赫茲的科學(xué)技術(shù)研究,10~15年實現(xiàn)在微系統(tǒng)和太赫茲科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域的重大跨越,掌握一系列核心關(guān)鍵技術(shù),產(chǎn)生具有國際重大影響的研究成果,引領(lǐng)微系統(tǒng)和太赫茲科學(xué)技術(shù)的發(fā)展。目前主要研究方向包括集成微系統(tǒng)材料、物理模型與架構(gòu)技術(shù)、固態(tài)高壓微系統(tǒng)技術(shù)、SOC技術(shù),MEMS/NEMS技術(shù)、微系統(tǒng)三維異構(gòu)集成技術(shù)、微納點真空技術(shù)、微電池技術(shù),及一系列前沿的太赫茲科學(xué)技術(shù)。

近年來,眾多新型微納米加工工藝、新封裝技術(shù)、新材料在國內(nèi)技術(shù)平臺中得以深入研究,縱觀第五屆微系統(tǒng)與納米工程國際研討峰會,國內(nèi)微系統(tǒng)的發(fā)展趨勢為:(1)微系統(tǒng)的可靠性和穩(wěn)定性大幅提升;(2)在物理和醫(yī)療結(jié)合方面的研究及應(yīng)用前景廣闊;(3)微納米器件的集成及加工技術(shù)發(fā)展已提上日程。

2.3 國內(nèi)異質(zhì)集成技術(shù)研究進展

異質(zhì)集成技術(shù)方面,我國已有研究機構(gòu)和公司開展了該技術(shù)的研究,但基于對Si基材料的研究深度不夠和系統(tǒng)級封裝方面兼容CMOS工藝沒有掌握核心技術(shù)等制約,國內(nèi)的開發(fā)尚在起步階段。國內(nèi)主要從異質(zhì)外延方面著手,在Si襯底上外延生長Ⅲ-Ⅴ族化合物,但晶格失配和熱失配問題尚未解決,因此做出的器件可靠性較低,外延層的質(zhì)量不高。

目前已有學(xué)者提出用“低溫晶片鍵合”解決晶格失配,異質(zhì)集成技術(shù)的關(guān)鍵點也在于研究如何突破異質(zhì)材料之間的物理、化學(xué)特性的匹配和兼容性。

2015年,南京電子器件研究所專家,基于外延層剝離轉(zhuǎn)移、異類器件互聯(lián)等技術(shù),實現(xiàn)了GaAsPHEMT與Si基CMOS器件異質(zhì)集成的單片數(shù)字控制開關(guān)電路,芯片面積比傳統(tǒng)的GaAsPHEMT單片電路減小了15%。

2.4 國內(nèi)電子封裝技術(shù)現(xiàn)狀

國內(nèi)相關(guān)研制人員和企業(yè)進行了多年不懈的努力,在電子封裝技術(shù)方面有了一定的技術(shù)沉淀,我國封裝產(chǎn)業(yè)在半導(dǎo)體創(chuàng)新技術(shù)的研發(fā)和產(chǎn)品制造也有了快速發(fā)展,2012年我國已擁有電子封裝技術(shù)研究團隊,國內(nèi)25家電子封裝產(chǎn)業(yè)鏈相關(guān)單位組建了“集成電路封測產(chǎn)業(yè)鏈技術(shù)創(chuàng)新聯(lián)盟”,建立高密度IC封裝技術(shù)工程實驗室,主要研究被國外發(fā)達國家壟斷的封裝技術(shù),在封測應(yīng)用工程的進展對電子封裝產(chǎn)業(yè)鏈起到了有效的輻射作用。

近年來,我國電子封裝技術(shù)的國際競爭力水平逐步提升,主要表現(xiàn)在以下幾方面:CSP、MCP和BGA等新型封裝技術(shù)已在部分電子封裝產(chǎn)線中應(yīng)用;TSV硅片通道、SiP射頻、50μm及以下超薄芯片的三維堆疊封裝技術(shù)等已被廣泛應(yīng)用;SPFN、MIS和FBP等電子封裝技術(shù)也獲得自主知識產(chǎn)權(quán)。此外,國內(nèi)在MIS倒裝封裝技術(shù)的創(chuàng)新研發(fā)能夠有效地降低封裝成本,且技術(shù)上對現(xiàn)階段的主流封裝技術(shù)也實現(xiàn)了良好支持。

3 微系統(tǒng)技術(shù)的應(yīng)用

3.1 導(dǎo)彈武器系統(tǒng)上的應(yīng)用

在導(dǎo)彈武器系統(tǒng)中采用系統(tǒng)級封裝或片上系統(tǒng)技術(shù)實現(xiàn)了功能整合,信息傳輸長度大大縮減,延遲顯著降低,對付高速高機動目標具有重要的意義。這些采用了微系統(tǒng)技術(shù)的小型化武器都能實施機動、精確打擊,并能縮小殺傷范圍,降低戰(zhàn)場附帶損傷。

美歐日等國家處在微系統(tǒng)技術(shù)發(fā)展的前沿,在導(dǎo)彈武器系統(tǒng)研制上已大量采用微系統(tǒng)技術(shù),尤其在小型化導(dǎo)彈方面有大量應(yīng)用。典型的有美國的“長釘”導(dǎo)彈,采用激光制導(dǎo),是一種可裝備無人機的新一代多兵種、多平臺超小型導(dǎo)彈,具有“發(fā)射后不管”的特點,彈徑56mm、發(fā)射質(zhì)量僅2.4kg、最大射程為3.2km,見圖6。

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英國泰勒斯公司的輕型多用途導(dǎo)彈(LMM),以兩級固體火箭發(fā)動機為推進系統(tǒng)、INS/GPS導(dǎo)航,發(fā)射質(zhì)量13kg、最大射程8km,用以打擊海陸空多種目標,見圖7。

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美國洛馬公司的激光制導(dǎo)子彈,彈徑僅為12.7mm,彈長僅10.16cm,適合于普通點50口徑的槍族武器,且飛行時能自動調(diào)整方向,像微型導(dǎo)彈一樣集中瞄準1.6km以外的目標,見圖8。

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QN-202微型導(dǎo)彈由中國高德紅外有限公司研制,2018年珠海航空航天展展出,長度只有60cm,彈口直徑有6~8cm,射程為2km,重約1.2kg,采用紅外成像制導(dǎo)系統(tǒng),能自動搜索和跟蹤目標,實現(xiàn)“發(fā)射后不管”。這個單兵便攜式導(dǎo)彈發(fā)射系統(tǒng)由一個7.5kg的背包和導(dǎo)彈發(fā)射器組成,背包一般可以裝載6枚導(dǎo)彈,見圖9。

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3.2 雷達應(yīng)用

美國的F-15、F-16戰(zhàn)斗機的相控陣雷達中都用到MMIC。MMIC還在精確制導(dǎo)等靈巧武器和軍事通信中得到廣泛應(yīng)用,其優(yōu)越性在海灣戰(zhàn)爭中得以體現(xiàn)。

美國DARPA(美國國防高級研究計劃局)的“用于雷達上可重構(gòu)收發(fā)機的擴展型毫米波體系架構(gòu)”和“三維微電磁射頻系統(tǒng)”兩個項目,主要研究了微系統(tǒng)器件的3D層疊架構(gòu)和3D加工技術(shù)。

目前,雷達系統(tǒng)中的有源電路、天線、濾波器等部件已利用SOC和SOP技術(shù)來實現(xiàn)。對于體積較小的部件或雷達系統(tǒng),通過3D微加工實現(xiàn)一體化成型已是未來趨勢。

美國軍方已將GaN器件應(yīng)用于新的雷達系統(tǒng)。軍工企業(yè)如雷聲公司、洛克希德·馬丁公司等,都在將現(xiàn)有雷達系統(tǒng)中的GaAs器件更換成GaN器件。美國新一代“空間監(jiān)視系統(tǒng)”采用了GaN器件。“阿利·伯克”級驅(qū)逐艦上的雷達系統(tǒng)主要T/R組件采用GaN替代GaAs,功率密度、耐壓和耐電流特性及熱傳導(dǎo)效率都有極大提升[2]。

3.3 通信應(yīng)用

日本NEC公司在衛(wèi)星微波通信系統(tǒng)中采用MCM-LTCC技術(shù),大大縮小了衛(wèi)星微波通信系統(tǒng)收發(fā)組件的尺寸,體積僅為傳統(tǒng)SMT組件的1/10~1/20。

日本幾家通訊公司和日本國家信息與通信技術(shù)研究所聯(lián)合研發(fā)出世界首個300GHz太赫茲無線通信緊湊型收發(fā)器。磷化銦(InP)基高電子遷移率晶體管(HEMT)的使用與單片集成技術(shù),在這套微系統(tǒng)中發(fā)揮了至關(guān)重要的作用。

3.4 醫(yī)療應(yīng)用

針對數(shù)字助聽器等醫(yī)療器件中的幾個關(guān)鍵部件,已有企業(yè)采用微系統(tǒng)技術(shù)中裸芯片三維堆疊封裝工藝,使醫(yī)療器件主體部分體積大大縮小,見圖10[17]。

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3.5 電子戰(zhàn)應(yīng)用

美國戰(zhàn)略與國際研究中心發(fā)布《國防2045:為國防政策制定者評估未來的安全環(huán)境及影響》報告,提出先進計算技術(shù)/人工智能、3D打印、合成生物學(xué)與性能增強、機器人、納米技術(shù)與材料科學(xué)五大顛覆性技術(shù)[18]。

為了應(yīng)對復(fù)雜多變的電磁環(huán)境干擾,美國海軍已啟動“下一代干擾機(NGJ)研發(fā)計劃”,將采用GaN組件有源電掃陣列天線,大幅提高發(fā)射功率和抗干擾效果,可與EA-18G電子戰(zhàn)飛機的機載電子設(shè)備實現(xiàn)無縫集成,提高美海軍的全頻譜抗干擾能力。

多功能芯片和多功能基板等微系統(tǒng)集成,已應(yīng)用于實際的電子戰(zhàn)接收機架構(gòu)中。

3.6 其他應(yīng)用

在汽車領(lǐng)域,已使用微系統(tǒng)中的MEMS壓力傳感器對燃油壓力、輪胎壓力、氣囊壓力以及管道壓力進行測量;在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域,微系統(tǒng)技術(shù)已用于診斷系統(tǒng)及檢測系統(tǒng);在工業(yè)領(lǐng)域,微系統(tǒng)作用于提升精度、功耗和可靠度這三個指標;在消費電子領(lǐng)域,微系統(tǒng)更是無處不在,小型無人機、運動手表、穿戴設(shè)備等皆是微系統(tǒng),能實現(xiàn)系統(tǒng)的運動/墜落檢測、導(dǎo)航數(shù)據(jù)補償、游戲/人機界面交互等功能。

4 微系統(tǒng)技術(shù)發(fā)展面臨的挑戰(zhàn)

(1)集成技術(shù)因工藝和外圍限制受影響。微系統(tǒng)集成的工藝還不完善,工藝步驟多且復(fù)雜,且工藝精度要求較高,集成器件的一致性難以得到保證。三維集成技術(shù)雖然完成了芯片的空間堆疊,但分配給每個電路模塊的引腳數(shù)實際上有所減少,因而也增大外圍控制難度。

(2)散熱困難和可靠性降低。微系統(tǒng)通常體積小、輸出功率高,多種器件集成于有限的芯片面積和空間后,往往不能實現(xiàn)很好的散熱,或因工作溫度過高影響器件性能和系統(tǒng)工作;在可靠性方面,往往不同的材料,可靠性難以找到平衡,技術(shù)攻關(guān)可能涉及的矛盾點較多,對材料的失效機理需要更到位的物理分析和測試,一個較復(fù)雜微系統(tǒng)的可靠性設(shè)計難以在短時間內(nèi)完成。

(3)檢測和測試資源的支持不能及時到位。在器件級、系統(tǒng)級的設(shè)計、仿真、加工和檢測、驗證方面,需要更智能化、更高速、運行效率更高的軟件系統(tǒng);需要同時云集各類不同器件的通信協(xié)議和硬件協(xié)調(diào)才能得以實現(xiàn),未來微系統(tǒng)的創(chuàng)新型架構(gòu)對軟件升級也不斷提出新挑戰(zhàn)。微系統(tǒng)新架構(gòu)和新SOC的制造也會隨時對測試設(shè)備、工藝指導(dǎo)性文件和操作人員的專業(yè)化不斷提出新要求。

5 結(jié)束語

從全球各領(lǐng)域建設(shè)的現(xiàn)實需求來看,微系統(tǒng)技術(shù)正向多功能一體化、三維堆疊、混合異構(gòu)集成、智能傳感等方向發(fā)展;微系統(tǒng)產(chǎn)品也正從芯片級、部件級向復(fù)雜程度更高的系統(tǒng)級應(yīng)用發(fā)展。MCM、MEMS、SOC及SIP等微系統(tǒng)技術(shù)的發(fā)展正聚集于前沿科技創(chuàng)新的重要領(lǐng)域,尤其在軍事領(lǐng)域,未來也將有更多的武器系統(tǒng)基于微系統(tǒng)技術(shù)實現(xiàn)微小型化、高度集成化、智能化、輕量化,這些承載了眾多高精尖技術(shù)的微系統(tǒng)武器將會對未來戰(zhàn)場的作戰(zhàn)模式產(chǎn)生顛覆性的變革!大力推進微系統(tǒng)技術(shù)在武器系統(tǒng)上的應(yīng)用,對提升我國武器裝備系統(tǒng)的研制能力和發(fā)展水平都具有重要的戰(zhàn)略意義。期望在國家科研政策的大力支持下,我國的微系統(tǒng)技術(shù)研究在不久的將來迎頭趕上國際先進水平。

審核編輯 :李倩

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原文標題:微系統(tǒng)技術(shù)現(xiàn)狀及發(fā)展綜述

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