0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評(píng)論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會(huì)員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

佳能時(shí)隔7年更新了面向小型基板的半導(dǎo)體光刻機(jī)

旺材芯片 ? 來(lái)源:旺材芯片 ? 作者:旺材芯片 ? 2021-01-07 17:04 ? 次閱讀

日本佳能正通過(guò)***加快搶占高功能半導(dǎo)體市場(chǎng)。佳能時(shí)隔7年更新了面向小型基板的半導(dǎo)體***,提高了生產(chǎn)效率。在用于純電動(dòng)汽車(EV)的功率半導(dǎo)體和用于物聯(lián)網(wǎng)傳感器需求有望擴(kuò)大的背景下,佳能推進(jìn)支持多種半導(dǎo)體的產(chǎn)品戰(zhàn)略。目標(biāo)是在三大巨頭壟斷的***市場(chǎng)上確立自主地位。

佳能將于2021年3月發(fā)售新型***“FPA-3030i5a”,該設(shè)備使用波長(zhǎng)為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板。分辨率為0.35微米,更新了測(cè)量晶圓位置的構(gòu)件和軟件。這是其i-line(365nm波長(zhǎng))步進(jìn)式光刻系統(tǒng)系列的最新產(chǎn)品,支持包括化合物半導(dǎo)體在內(nèi)的器件制造。新系統(tǒng)的設(shè)計(jì)還有助于降低擁有成本。

FPA-3030i5a步進(jìn)式***設(shè)計(jì)用于處理直徑在50mm(2英寸)至200mm(8英寸)之間的小型襯底。

它不僅支持硅晶圓,還支持碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)等常見的化合物半導(dǎo)體材料,這有助于制造各種未來(lái)可能出現(xiàn)需求增長(zhǎng)的器件,例如用于汽車電氣化的大功率器件和用于5G通信的高帶寬視頻處理和通信器件。

FPA-3030i5a步進(jìn)式***的硬件和軟件已在其前代產(chǎn)品FPA-3030i5步進(jìn)式***(2012年6月發(fā)布)基礎(chǔ)上進(jìn)行了升級(jí),以幫助降低CoO。FPA-3030i5a繼承了FPA-3030i5的解像力,可以曝光0.35μm3的線寬圖案,同時(shí)提供了強(qiáng)大的對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)并提高了生產(chǎn)效率。新系統(tǒng)采用高速晶圓進(jìn)給系統(tǒng),可配置處理各種晶圓材料和尺寸,包括直徑為50-200mm的化合物半導(dǎo)體。

FPA-3030i5a采用新的離軸對(duì)準(zhǔn)范圍來(lái)照亮和測(cè)量晶圓對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。不用通過(guò)投影透鏡觀察標(biāo)記,對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)可以采用寬范圍的照明波長(zhǎng)來(lái)幫助優(yōu)化對(duì)準(zhǔn)條件。配備有可選的通硅對(duì)位(TSA)系統(tǒng)的FPA-3030i5a步進(jìn)式***也可以利用紅外光透過(guò)襯底進(jìn)行背面對(duì)準(zhǔn)。新的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)還縮短了對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記測(cè)量時(shí)間。

縮短的對(duì)準(zhǔn)時(shí)間、高速的進(jìn)給系統(tǒng)和升級(jí)的軟件使FPA-3030i5a對(duì)200mm(8英寸)晶圓實(shí)現(xiàn)了123片/小時(shí)(wph)的產(chǎn)出,與上一代產(chǎn)品相比,生產(chǎn)效率提高了約17%。新***還采用了新的腔室溫度控制系統(tǒng),可使光刻系統(tǒng)保持在清潔的環(huán)境和恒定的溫度水平。與前代機(jī)型相比,新設(shè)計(jì)有助于降低約20%的功耗,并且通過(guò)這種改進(jìn),該系統(tǒng)有助于降低CoO。

佳能總結(jié)說(shuō),通過(guò)引進(jìn)FPA-3030i5a和使用其先進(jìn)功能,該系統(tǒng)擁有者能夠用尺寸從50mm到200mm的、包括硅和SiC、GaN等化合物半導(dǎo)體在內(nèi)的多種晶圓材料,制造特種電源和通信設(shè)備。

在半導(dǎo)體***領(lǐng)域,荷蘭ASML和日本的佳能、尼康3家企業(yè)占據(jù)了全球9成以上的份額。在促進(jìn)提升半導(dǎo)體性能的精細(xì)化領(lǐng)域,可使用短波長(zhǎng)的“EUV”光源的ASML目前處于優(yōu)勢(shì)地位。佳能光學(xué)設(shè)備業(yè)務(wù)本部副業(yè)務(wù)部長(zhǎng)三浦圣也表示,佳能將根據(jù)半導(dǎo)體材料和基板尺寸等客戶制造的半導(dǎo)體種類來(lái)擴(kuò)大產(chǎn)品線。

按照客戶的需求,對(duì)機(jī)身及晶圓臺(tái)等平臺(tái)、投影透鏡、校準(zhǔn)示波器三個(gè)主要單元進(jìn)行開發(fā)和組合,建立齊全的產(chǎn)品群。 佳能還致力于研發(fā)“后期工序”(制作半導(dǎo)體芯片之后的封裝加工等)中使用的***。2020年7月推出了用于515毫米×510毫米大型基板的***。以此來(lái)獲取把制成的多個(gè)芯片排列在一起、一次性進(jìn)行精細(xì)布線和封裝的需求。佳能還致力于“納米壓印”(將嵌有電路圖案的模板壓在硅晶圓的樹脂上形成電路)光刻設(shè)備的研發(fā)。據(jù)悉還將著力開展新一代生產(chǎn)工藝的研發(fā)。

責(zé)任編輯:lq

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場(chǎng)。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問(wèn)題,請(qǐng)聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 半導(dǎo)體
    +關(guān)注

    關(guān)注

    334

    文章

    27595

    瀏覽量

    220733
  • 晶圓
    +關(guān)注

    關(guān)注

    52

    文章

    4950

    瀏覽量

    128152
  • 光刻機(jī)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1155

    瀏覽量

    47478

原文標(biāo)題:資訊 | 佳能推出適合高功能半導(dǎo)體的光刻機(jī)

文章出處:【微信號(hào):wc_ysj,微信公眾號(hào):旺材芯片】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處。

收藏 人收藏

    評(píng)論

    相關(guān)推薦

    光刻機(jī)的分類與原理

    本文主要介紹光刻機(jī)的分類與原理。 ? 光刻機(jī)分類 光刻機(jī)的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?156次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的分類與原理

    組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    ? 本文介紹組成光刻機(jī)的各個(gè)分系統(tǒng)。 光刻技術(shù)作為制造集成電路芯片的重要步驟,其重要性不言而喻。光刻機(jī)是實(shí)現(xiàn)這一工藝的核心設(shè)備,它的工作原理類似于傳統(tǒng)攝影中的曝光過(guò)程,但精度要求極高
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?277次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的各個(gè)分系統(tǒng)介紹

    用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)介紹

    ? 本文介紹用來(lái)提高光刻機(jī)分辨率的浸潤(rùn)式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過(guò)去半個(gè)多世紀(jì),摩爾定律一直推動(dòng)著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,但當(dāng)
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?809次閱讀
    用來(lái)提高<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>分辨率的浸潤(rùn)式<b class='flag-5'>光刻</b>技術(shù)介紹

    光刻機(jī)的工作原理和分類

    ,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過(guò)程對(duì)精度要求極高,光刻機(jī)通過(guò)一系列復(fù)雜的技術(shù)手段,將光束透射過(guò)畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補(bǔ)償各種光學(xué)誤差,將線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使用化學(xué)方法顯影,得到刻在硅片上的電路圖
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?1988次閱讀

    中國(guó)半導(dǎo)體的鏡鑒之路

    日本企業(yè),除了索尼是1951時(shí)候才創(chuàng)立的新興企業(yè),其他5個(gè)企業(yè)都是世界上比較古老的大型工業(yè)集團(tuán),所以 日本的模式是由大型工業(yè)集團(tuán)進(jìn)軍半導(dǎo)體,去與美國(guó)競(jìng)爭(zhēng), 其中有一個(gè)大家都知道,尼康。尼康的光刻機(jī)現(xiàn)在
    發(fā)表于 11-04 12:00

    半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)速:Hyper-NA EUV光刻機(jī)挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存

    。在這場(chǎng)技術(shù)競(jìng)賽中,光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備,其重要性不言而喻,而荷蘭巨頭阿斯麥(ASML)無(wú)疑是這一領(lǐng)域的領(lǐng)航者。
    的頭像 發(fā)表于 07-03 14:46 ?2462次閱讀

    俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)問(wèn)世

    據(jù)外媒報(bào)道,目前,俄羅斯首臺(tái)光刻機(jī)已經(jīng)制造完成并正在進(jìn)行測(cè)試。 俄羅斯聯(lián)邦工業(yè)和貿(mào)易部副部長(zhǎng)瓦西里-什帕克(Vasily Shpak)表示,已組裝并制造第一臺(tái)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī),作為澤廖諾格勒技術(shù)生產(chǎn)線
    的頭像 發(fā)表于 05-28 15:47 ?807次閱讀

    臺(tái)積電A16制程采用EUV光刻機(jī),2026下半年量產(chǎn)

    據(jù)臺(tái)灣業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電并未為A16制程配備高數(shù)值孔徑(High-NA)EUV光刻機(jī),而選擇利用現(xiàn)有的EUV光刻機(jī)進(jìn)行生產(chǎn)。相較之下,英特爾和三星則計(jì)劃在此階段使用最新的High-NA EUV光刻機(jī)
    的頭像 發(fā)表于 05-17 17:21 ?1041次閱讀

    光刻機(jī)的常見類型解析

    光刻機(jī)有很多種類型,但有時(shí)也很難用類型進(jìn)行分類來(lái)區(qū)別設(shè)備,因?yàn)橛行┓诸悆H是在某一分類下的分類。
    發(fā)表于 04-10 15:02 ?2017次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的常見類型解析

    光刻機(jī)的發(fā)展歷程及工藝流程

    光刻機(jī)經(jīng)歷5代產(chǎn)品發(fā)展,每次改進(jìn)和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機(jī)所能實(shí)現(xiàn)的最小工藝節(jié)點(diǎn)。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV;按照工作原理依次從接觸接近式光刻機(jī)
    發(fā)表于 03-21 11:31 ?6576次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>的發(fā)展歷程及工藝流程

    ASML 首臺(tái)新款 EUV 光刻機(jī) Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    EUV 光刻機(jī)持續(xù)更新升級(jí),未來(lái)目標(biāo)在 2025 推出 NXE:4000F 機(jī)型。 上兩代 NXE 系列機(jī)型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點(diǎn)生產(chǎn),德
    的頭像 發(fā)表于 03-14 08:42 ?580次閱讀
    ASML 首臺(tái)新款 EUV <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b> Twinscan NXE:3800E 完成安裝

    ASML光刻機(jī)技術(shù)的領(lǐng)航者,挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存

    ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色,其光刻機(jī)技術(shù)和市場(chǎng)地位對(duì)于全球半導(dǎo)體制造廠商來(lái)說(shuō)都具有重要意義。
    發(fā)表于 03-05 11:26 ?1337次閱讀

    光刻膠和光刻機(jī)的區(qū)別

    光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料,可以通過(guò)光刻機(jī)上的模板或掩模來(lái)進(jìn)行曝光。
    的頭像 發(fā)表于 03-04 17:19 ?4846次閱讀

    佳能預(yù)計(jì)到2024出貨納米壓印光刻機(jī)

    Takeishi向英國(guó)《金融時(shí)報(bào)》表示,公司計(jì)劃于2024開始出貨其納米壓印光刻機(jī)FPA-1200NZ2C,并補(bǔ)充說(shuō)芯片可以輕松以低成本制造。202311月,該公司表示該設(shè)備的價(jià)格將比ASML的EUV機(jī)器便宜一位數(shù)。
    的頭像 發(fā)表于 02-01 15:42 ?1024次閱讀
    <b class='flag-5'>佳能</b>預(yù)計(jì)到2024<b class='flag-5'>年</b>出貨納米壓印<b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>

    光刻機(jī)結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理

    光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備,廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中,光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
    發(fā)表于 01-29 09:37 ?3743次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機(jī)</b>結(jié)構(gòu)及IC制造工藝工作原理