11月30日最新報(bào)道,近日荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)又送來一則好消息,該司已經(jīng)與比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC共同完成了1nm光刻機(jī)的設(shè)計(jì)工作。 據(jù)了解,先進(jìn)制程的光刻機(jī)對于曝光設(shè)備的分辨率要求更高。與此同時(shí),ASML已經(jīng)完成了0.55NA曝光設(shè)備的基本設(shè)計(jì)工作。按照阿斯麥的計(jì)劃,預(yù)計(jì)相應(yīng)的曝光設(shè)備全線準(zhǔn)備好之后,會在2022年實(shí)現(xiàn)商業(yè)化。
然而,這家荷蘭企業(yè)的光刻機(jī)制造技術(shù)卻變得重大突破之際,我國芯片制造巨頭——中芯國際自阿斯麥訂購的EUV光刻機(jī)至今卻還未到貨。據(jù)悉,中芯國際于2018年自阿斯麥(ASML)手上購買了一臺價(jià)值約1.2億美元(折合約7.9億元人民幣)的EUV光刻機(jī)。 由于訂購的設(shè)備一直沒到手,中芯國際也在11月11日當(dāng)天下調(diào)了一部分資本支出,將原本約457億元的開支計(jì)劃減少了55億元至約402億元。那么,之后中芯國際有沒有可能徹底取消這筆買賣呢?恐怕還不好說,畢竟當(dāng)前全球能造出EUV光刻機(jī)的僅有阿斯麥一家。
不過,中企也很有可能從韓國身上找到“轉(zhuǎn)機(jī)”。據(jù)韓國媒體11月16日報(bào)道,韓國知識產(chǎn)權(quán)局(KIPO)發(fā)布的報(bào)告顯示,經(jīng)過長達(dá)10年的發(fā)展與鉆研(2011-2020年),該國EUV光刻專利已經(jīng)高達(dá)193項(xiàng)。而在此之前,全球光刻市場是美國企業(yè)Cymer公司“一家獨(dú)大”。
要知道,當(dāng)前韓國電子巨頭三星正盼能從我國半導(dǎo)體市場“分得一塊蛋糕”。據(jù)悉,11月12日當(dāng)天,三星首次面向我國發(fā)布了芯片產(chǎn)品——Exynos1080,還宣布將向我國智能手機(jī)制造巨頭vivo供應(yīng)5nm高端芯片。 來源:TechWeb網(wǎng)站
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原文標(biāo)題:重磅 | 荷蘭巨頭1nm光刻機(jī)迎新突破!中國訂購的EUV光刻機(jī)呢?
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