ASML在自己的展臺上曬出展示了DUV光刻機(jī)

世界光刻機(jī)巨頭ASML亮相第三屆進(jìn)博會。在本次進(jìn)博會上，ASML在自己的展臺上曬出展示了DUV光刻機(jī)。

據(jù)悉，ASML之所以沒有展示新的EUV光刻機(jī)，主要是因?yàn)樗麄兡壳叭圆荒芟蛑袊隹贓UV光刻機(jī)，而此次展示的DUV光刻機(jī)可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。

ASML此次也帶來了其整體光刻解決方案，包括先進(jìn)控制能力的光刻機(jī)臺計(jì)算光刻和測量通過建模、仿真、分析等技術(shù)，讓邊緣定位精度不斷提高。

在這之前，ASML CFO Roger Dassen在財(cái)報(bào)會議的視頻采訪中談到了與中芯國際等中國客戶的業(yè)務(wù)情況，其表示一些情況下，出口光刻機(jī)是不需要許可證的。

Roger Dassen指出，ASML了解美國當(dāng)局目前的規(guī)章制度及其解釋，當(dāng)然也知道這些與特定的中國客戶密切相關(guān)，但如果廣泛的來理解其規(guī)章制度對ASML的總體含義(對于特定的中國客戶)，則意味著ASML將能夠從荷蘭向這些中國客戶提供DUV光刻系統(tǒng)，且無需出口許可證。

美國僅僅是限制了美國不能給中國出口芯片、光刻機(jī)等，但并沒有限制其他國家對中國進(jìn)口，荷蘭并不在美國的禁令范圍內(nèi)。

目前的光刻機(jī)主要分為EUV光刻機(jī)和DUV光刻機(jī)。DUV光刻機(jī)，分為干分式與液浸式兩種。其中，液浸式于ASML手中誕生，其波長雖然有193nm，但等效為134nm，經(jīng)過多重曝光后，液浸式光刻機(jī)也能夠達(dá)到7nm工藝。但是，每多一次曝光都會使得制造成本大大提升，而且良品率也難以控制。

EUV光刻機(jī)采用13.5nm波長的光源，是突破10nm芯片制程節(jié)點(diǎn)必不可少的工具。也就是說，就算DUV（深紫外線）光刻機(jī)能從尼康、佳能那里找到替代，但如果沒有ASML的EUV光刻機(jī)，芯片巨頭臺積電、三星、Intel的5nm產(chǎn)線就無法投產(chǎn)。

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