DUV可解燃眉之急，自研之路仍要走

ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元。媒體稱，臺積電采購的EUV光刻機已經(jīng)超過30臺，三星累計采購的EUV光刻機不到20臺。

圍繞芯片制造要用到的關(guān)鍵設(shè)備——光刻機，一直不缺話題。

比如，一臺EUV光刻機賣多少錢？誰買走了這些EUV光刻機？大陸廠商還能買到光刻機嗎？為何三星高管最近跑去荷蘭拜訪ASML總部？

上面這幾個問題，其實可以在ASML和臺積電最新發(fā)布的三季報及業(yè)績說明會中找到部分答案。兩家公司的地位無需多言，前者是全球頂級光刻機龍頭，后者是全球芯片制造龍頭。

關(guān)于售價，ASML總裁兼首席執(zhí)行官彼得·韋尼克（Peter Wennink）10月14日介紹公司三季度業(yè)績情況時間接給出了答案。他表示，“我們第三季度的新增訂單達到29億歐元，其中5.95億歐元來自4臺EUV設(shè)備?！焙唵螕Q算一下，一臺EUV光刻機的售價為1.48億歐元，折合人民幣高達11.74億元。

這是什么概念？2019年，A股還有1462家上市公司的營業(yè)收入低于11.74億元。換句話說，ASML每年賣一臺EUV光刻機，收入就可完勝A股的1/3公司。

售價這么高，ASML根本不愁買家，公司愁的是產(chǎn)能跟不上需求。

ASML的EUV光刻機是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻機必不可缺。

據(jù)了解，EUV光刻機不需要多重曝光，一次就能曝出想要的精細圖形，沒有超純水和晶圓接觸，在產(chǎn)品生產(chǎn)周期、光學鄰近效應(yīng)矯正的復(fù)雜程度、工藝控制、良率等方面都有明顯優(yōu)勢。

ASML的EUV光刻機也在推陳出新。公司10月14日還公布了EUV路線圖上的新機型TWINSCANNXE:3600D的最終規(guī)格，曝光速度達到每小時曝光160片晶圓，提高了18%的生產(chǎn)效率，計劃于2021年的中期開始發(fā)貨。

芯片大廠爭購

ASML的EUV光刻機在2016年正式上市，主要供應(yīng)給英特爾、臺積電和三星這三家大客戶。其EUV光刻機出貨量一直在增加，從2016年的5臺上升到2019年的26臺。

目前，臺積電已將可量產(chǎn)的工藝推到5nm，大幅領(lǐng)先英特爾和三星；同時，按照計劃，公司3nm工藝將在明年試產(chǎn)，2022年下半年正式量產(chǎn)。重要的是，客戶對其7nm工藝和5nm工藝的需求十分強勁，這兩項工藝的收入占比在三季度已達43%。因此，臺積電對EUV光刻機的需求無疑也是最強勁的。

圖片來源：臺積電三季報

近期有媒體報道，由于先進工藝推進順利和訂單擴大，臺積電將加大EUV光刻機的采購力度，預(yù)計到2021年底采購量至55臺左右。臺積電方面回復(fù)中國證券報記者采訪時表示，公司不評論市場傳聞。前述媒體援引半導體供應(yīng)鏈消息稱，臺積電采購的EUV光刻機已經(jīng)超過30臺，三星累計采購的EUV光刻機不到20臺。

在ASML發(fā)布2020年第三季度財報當天，首席財務(wù)官羅杰·達森（Roger Dassen）接受視頻采訪時被問及美國的半導體出口禁令對ASML的業(yè)務(wù)有何種影響，達森回應(yīng)稱，他們注意到了美方的禁令，也意識到了禁令對中國客戶的影響。

隨后達森對ASML的光刻機出口問題作出了解釋，他說：“如果要解釋一下美國的規(guī)定對ASML有什么影響的話，對于的中國客戶，我們還是可以直接從荷蘭向他們出口DUV光刻機，無需任何出口許可?！?/p>

但他隨后也補充稱，如果相關(guān)系統(tǒng)或零件是從美國出口的，那這些設(shè)備仍然需要得到美方的許可。

達森表示，ASML將盡最大努力，盡可能為所有客戶繼續(xù)提供服務(wù)和支持。

根據(jù)公開的財報電話會議錄音，韋尼克也在會議上確認了這一點。韋尼克稱，根據(jù)當前美國的規(guī)定，直接從荷蘭向中國出口的DUV光刻機不受影響。

但達森和韋尼克都強調(diào)的是DUV光刻機出口，并未提到更先進的EUV（極紫外）光刻機。彭博社14日在報道中也強調(diào)，DUV的規(guī)則不適用于EUV光刻機。ASML必須獲得許可證才有可能向中國企業(yè)出口EUV光刻機。但荷蘭政府已經(jīng)暫緩了EUV光刻機出口許可，一直到現(xiàn)在都沒有批準。

“盡管被夾在中美之間，ASML仍積極努力”

EUV光刻機和DUV光刻機有什么不同？

那就是中低端與高端的區(qū)別。

根據(jù)曝光源的不同，光刻機分為EUV型（極深紫外線）、DUV型（深紫外線）。從制程范圍來看，DUV基本上只能做到25nm，而EUV能滿足10nm以下的晶圓制造需求。

有網(wǎng)友直呼：DUV光刻機是二等品，自然不用受限。

EUV光刻機則是實現(xiàn)7nm的關(guān)鍵設(shè)備，如果中國大陸無法引入ASML的EUV光刻機，則意味著大陸將止步于7nm工藝。

目前中芯國際訂購了一臺EUV。價格貴，但不是只買一臺的唯一原因，而是買多了，現(xiàn)在真用不上。

有微電子博士解析，就這一臺，還是著眼于兩三代技術(shù)節(jié)點之后的產(chǎn)品研發(fā)（14nm ->10nm -> 7nm -> 5nm）。必須要用EUV的，是5nm以及以下，直到7nm，DUV都夠用。

三星，英特爾和臺積電瘋搶EUV，是因為他們目前就要用。三星和臺積電都已經(jīng)開始攻堅3nm了。而中芯國際，在logic device領(lǐng)域，確實還是第二梯隊的，下一代和下下代研發(fā)，都不是非EUV不可，DUV完全夠用。需要多沉下心來多琢磨光刻工藝。

根據(jù)ASML發(fā)布的財報，2020年第三季度ASML光刻機凈銷售額達31億歐元，中國大陸市場的營收占到21%。第三季度ASML總計凈銷售額達到約40億歐元，凈收入近11億歐元。值得一提的是，EUV光刻機的收入占比極高，貢獻了66%的光刻機銷售額。

今年5月，ASML與無錫高新區(qū)簽署了戰(zhàn)略合作協(xié)議，在無錫高新區(qū)內(nèi)擴建升級阿斯麥光刻設(shè)備技術(shù)服務(wù)（無錫）基地。此前，ASML已在北京、上海、深圳、無錫等地開設(shè)分公司，為客戶提供服務(wù)和咨詢，其中深圳是其在亞洲最大的軟件研發(fā)中心。

ASML壟斷著全球光刻機市場，但核心資本仍握在美國手里。所以，雖然消息是好消息，但現(xiàn)實情況可能是，DUV可解燃眉之急，自研之路仍要走。

責任編輯：xj原文標題：光刻機可以賣給中國？

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