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這種技術(shù)可能會成為處理器高級高速緩存中使用的SRAM的替代產(chǎn)品

電子工程師 ? 來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察 ? 作者:半導(dǎo)體行業(yè)觀察 ? 2020-11-04 17:31 ? 次閱讀

本月初,由七名Arm Research工程師組成的小組成立了一家名為Cerfe Labs的初創(chuàng)公司,以將過去五年來與位于科羅拉多州的Symetrix共同致力于的實驗存儲技術(shù)商業(yè)化。而這項稱技術(shù)就叫做CeRAM(correlated electron)。按照他們的說法,這種技術(shù)可能會成為當(dāng)今處理器高級高速緩存中使用的快速訪問嵌入式SRAM的非易失性替代產(chǎn)品。除了能夠在沒有沒有電源的情況下保存數(shù)據(jù)之外(SRAM做不到),CeRAM的尺寸可能比SRAM還要小得多,這可能會緩解IC領(lǐng)域的問題,因為業(yè)界保持縮小晶體管的能力已到盡頭。

大多數(shù)半導(dǎo)體物理學(xué)都依賴于可以單獨處理電子的假設(shè)。但是半個多世紀以前, Neville Francis Mott指出,在某些材料中,當(dāng)電子被迫聚在一起時,“ [這些材料]會產(chǎn)生奇怪的事情,”前Arm研究部研究員,現(xiàn)為Cerfe Labs首席技術(shù)官的Greg Yeric說,其中之一是金屬狀態(tài)和絕緣狀態(tài)之間的可逆轉(zhuǎn)換,稱為莫特轉(zhuǎn)換(Mott transition)。世界各地的實驗室一直在研究氧化釩和其他材料中的這種現(xiàn)象,而HP Labs最近則描述了一種依賴該原理的類似神經(jīng)元的設(shè)備。

Yeric說:“通過與Symetrix的合作,我們認為我們擁有的是電控相關(guān)電子(correlated-electron)開關(guān),這種材料可以切換電阻狀態(tài)。”

這些公司正在探索多種材料,但是到目前為止,他們投入最多的材料是碳摻雜的氧化鎳(carbon-doped nickel oxide)。氧化物的自然狀態(tài)是不導(dǎo)電的。也就是說,與原子結(jié)合的電子的允許能態(tài)與自由移動的能態(tài)之間存在間隙。但是隨著碳的摻雜,材料成為導(dǎo)體。碳改變了能帶結(jié)構(gòu)以減小間隙。Yeric解釋說,這種從應(yīng)有的氧化物到金屬的變化是由于“相關(guān)”的電子-電子相互作用。如果從材料中提取出足夠多的電子,則效應(yīng)會降低到臨界點,并且能帶會分開,從而使材料再次成為絕緣體。

Yeric說:“我們有一組材料表現(xiàn)出這種轉(zhuǎn)變,并且重要的是,在每一側(cè)都具有非易失性狀態(tài)”。

設(shè)備本身只是夾在兩個電極之間的相關(guān)電子材料,其結(jié)構(gòu)類似于電阻式RAM,相變RAM和磁性RAM,但復(fù)雜性不如后者。就像這三個一樣,它是在硅上方的金屬互連層中構(gòu)造的,與SRAM的六個晶體管相反,它僅需要硅層中的一個晶體管即可訪問它。Yeric說,該公司已經(jīng)制造出了適合7納米CMOS工藝的設(shè)備,并且它們的尺寸和電壓都應(yīng)可擴展,以適應(yīng)未來的尖端半導(dǎo)體工藝節(jié)點。

但是CeRAM的速度可以使其很好地替代SRAM。迄今為止,他們已經(jīng)使CeRAM具有2納秒的脈沖寬度來寫入數(shù)據(jù),這與處理器的L3高速緩存所需的速度相當(dāng);Yeric說他們希望隨著開發(fā)速度的提高。

碳摻雜的氧化鎳材料還具有遠遠超過當(dāng)今的非易失性存儲器所能實現(xiàn)的性能,但尚未得到充分證明。例如,Cerfe Labs已證明該設(shè)備可在低至1.5開爾文的溫度下工作,這遠遠超出任何非易失性存儲器的工作溫度范圍,并且在量子計算控制電路中的作用范圍內(nèi)。在另一個方向,他們展示了器件在最高150°C的溫度下工作,并表明其在最高400°C的溫度下仍能保持其工作狀態(tài)。但是這些數(shù)字受到該公司可用設(shè)備的限制。此外,該器件的工作原理表明,CeRAM應(yīng)該自然抗電離輻射和磁場干擾。

Symetrix公司還開發(fā)了鐵電RAM,在一項名為FRANC的美國國防高級研究計劃局(DARPA)計劃的理論研究中,探索了相關(guān)的電子材料,從而為新型計算奠定了基礎(chǔ)。Symetrix“將模型放在一起,并能夠預(yù)測材料”,另一位Arm老將CEO Eric Hennenhoefer說。

Yeric說:“系統(tǒng)設(shè)計人員一直在尋求改進的內(nèi)存,因為幾乎每個系統(tǒng)都在某種程度上受到它可以訪問的內(nèi)存的限制?!?“在[Arm]討論可能的未來技術(shù)時,我們遇到了Symetrix技術(shù)。我們最終基于該技術(shù)的許可(非常早且具有推測性),在不折衷的前提下提高了嵌入式內(nèi)存的速度,密度,成本和功耗。

他說,CerfeLab的目標不是制造CeRAM,而是將技術(shù)開發(fā)到大型制造商將要接管開發(fā)的地步。新的內(nèi)存技術(shù)從發(fā)現(xiàn)到商業(yè)化的過程通常至少需要八到九年的時間。他估計,CeRAM大約只需一半的時間。

在尚待解決的問題中,涉及存儲器的耐用性-在存儲器開始出現(xiàn)故障之前可以切換多少次。從理論上講,CeRAM 設(shè)備中沒有任何元件會磨損。但是認為現(xiàn)實世界中不會有問題是天真的。Yeric說:“總是有外在的東西限制耐力?!?/p>

責(zé)任編輯:lq


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原文標題:?【行業(yè)資訊】這種存儲旨在替代SRAM

文章出處:【微信號:gh_c8682fd6f974,微信公眾號:半導(dǎo)體促進會】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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