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GaN-HEMT器件的動態(tài)R DSon值測量實驗分析

電子設(shè)計 ? 來源:powerelectronicsnews ? 作者:powerelectronicsnews ? 2021-03-22 12:42 ? 次閱讀

GaN(氮化鎵)器件由于具有諸如高開關(guān)速度,更高的功率密度和效率之類的能力而在設(shè)計電源轉(zhuǎn)換器時變得越來越流行[2],[3],但是GaN器件的一個缺點是電流損耗會導(dǎo)致電流崩潰。器件關(guān)閉和熱電子效應(yīng)時會捕獲的電荷。因此,GaN器件提供了RDSon(動態(tài)導(dǎo)通狀態(tài)電阻),這使得GaN半導(dǎo)體中的傳導(dǎo)損耗無法預(yù)測。捕獲的電荷通過偏置電壓Voff,偏置時間Toff以及開關(guān)狀態(tài)下電壓和電流之間的重疊來測量[4]。當(dāng)設(shè)備打開時,處于關(guān)閉狀態(tài)的俘獲電荷被釋放,因此諸如打開狀態(tài)時間Ton之類的參數(shù)[5],硬開關(guān)或軟開關(guān)[6],開關(guān)損耗[7]和溫度[8]將影響設(shè)備動態(tài)RDSon從其靜態(tài)RDSon值[1]變化。研究人員試圖觀察電壓,電流和溫度變化對動態(tài)RDSon的影響[9]-[12],可以得出結(jié)論,RDSon比靜態(tài)RDSon增加了50%。動態(tài)RDSon實際上可幫助工程師準(zhǔn)確確定功率轉(zhuǎn)換器中的損耗。本文將重點介紹為GaN器件測量動態(tài)RDSon的模型價值。所提出的模型將在高頻和穩(wěn)定狀態(tài)下進(jìn)行驗證。將使用軟開關(guān),因為它具有消除熱電子效應(yīng)的優(yōu)點,并且還具有較小的開關(guān)損耗。

GaN-HEMT動態(tài)RDSon

圖1示出了用于測量RDSon的電路圖。它由設(shè)備開關(guān)電路(DSC),被測設(shè)備(DUT)和電壓鉗位電路(VCC)[1]組成。圖2顯示了測量電路的原型。DUT和DSC結(jié)合在一起形成H橋,因此可以通過控制四個開關(guān)的信號來設(shè)置DUT的開和關(guān)。VCC用于提高分辨率。在關(guān)斷狀態(tài)下,M1上的電勢將為VDC,而VDS(m)= -VTh,而在DUT的開通狀態(tài)下,?V = 0,因此VDS(m)= VDSon。因此,代替測量VDS,VDS(m)應(yīng)該被測量。齊納二極管Z1和肖特基二極管S1不允許負(fù)載電流流過VCC。建議的VCC將使我們能夠計算DUT的RDSon[1]。

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圖1:測量電路的電路圖

圖2:測量電路的原型

測量方法

GaN半導(dǎo)體器件的動態(tài)RDSon值取決于Ton和Toff[13],[14]。為了獲得由于電荷的俘獲和去俘獲所引起的時間常數(shù),RDSon被表征為具有不同的Ton和Toff。使用的負(fù)載為RL,空載時間為τ。測量過程分為四個階段,如圖3所示。在從0-T1開始的第一階段,DUT和T2處于導(dǎo)通狀態(tài),因此IL為0。第二階段是T1-T2,其中T2和T3處于導(dǎo)通狀態(tài),在這種情況下,對IL進(jìn)行充電在反向循環(huán)中。待測物off是在此階段計算的。第三階段是T2-T3,在此階段T2接通并且DUT在T2的ZVS處接通,并開始反向?qū)?,直到IL達(dá)到0。在第四階段T3-T4DUT和T1都為ON和IL改變方向,并開始朝正方向?qū)?。因此,DUT的Ton由第三和第四間隔定義。因此,將RDSON在反向傳導(dǎo)模式可迅速在納米第二從第三級和將R獲得微秒DSON從第四階段開始,可以在微秒到幾秒的時間內(nèi)獲得正向傳導(dǎo)模式下的導(dǎo)通。

對于該實驗的GaN晶體管是焊料進(jìn)入子板,以確定它的RDSON在VDC=200V和我d= 1個A.通過驗證?關(guān)閉和T上,RDSON可以得到[1]。當(dāng)柵極電壓達(dá)到6V時,我們的設(shè)備開啟,我們將在50ns內(nèi)迅速獲得RDSon。在RDSon值上觀察到了陷獲效應(yīng),它在100us內(nèi)增加了靜態(tài)RDSon值的25%[1]。然后直到1s,它以緩慢的速率增加,從1-10s開始,動態(tài)RDSon迅速增加70%,而在30s之后,它穩(wěn)定下來。如果發(fā)生去陷效應(yīng),則RDSon的值下降直到10us,然后在10ms后穩(wěn)定下來,然后再次下降直到Ton達(dá)到50s。

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圖3:在單脈沖控制信號下的四個工作階段

實驗結(jié)果

在瞬態(tài)和穩(wěn)定狀態(tài)下

首先,H橋在RL負(fù)載下工作,其中T1為OFF,T2為ON,VDC= 200V,IL= 1.3A,f = 100kHz,D = 50%[1]。DUT在反向傳導(dǎo)和軟開關(guān)模式下工作??梢钥刂乒β兽D(zhuǎn)換器工作期間的RDSon變化。RBDSon代表在ON周期開始時測得的RDSon值,REDSon代表在ON周期結(jié)束時測得的RDSon值[1]。結(jié)果表明,當(dāng)電源轉(zhuǎn)換器工作時,RDSon的值緩慢增加直到3s,然后迅速增加直到30s,并且RDSon的值100秒后穩(wěn)定下來。在圖2中也觀察到了這種轉(zhuǎn)變。3.因此,該模型可用于表示功率轉(zhuǎn)換器工作期間GaN器件的瞬態(tài)RDSon值。

在不同的開關(guān)頻率下

在這種情況下,將改變功率轉(zhuǎn)換器的開關(guān)頻率,以檢查對RDSon值的影響。為了提高功率轉(zhuǎn)換器的開關(guān)頻率,我們必須減少附著在GaN晶體管上的損耗,為此,如果不使用RL負(fù)載,我們將使用LC負(fù)載。TZCM(梯形電流模式)用于軟開關(guān)并實現(xiàn)相移。在TZCM中,RDSon是在恒定電流幅度[1]期間測量的。頻率從100kHz增加到1MHz。當(dāng)DUT和T2處于導(dǎo)通狀態(tài)且處于反向?qū)J綍r,可以測量RDSon的值。RDSon的該值將被視為RBDSon。在正向傳導(dǎo)模式下,DUT和T1將導(dǎo)通,并且IL由VDC充電。然后T1將變?yōu)镺FF狀態(tài),并且RDSon的值將在恒定電流幅度下測量,該電流幅度實際上是REDSon。結(jié)果表明,當(dāng)電源的開關(guān)頻率增加時,RBDSon和REDSon之間的差異減小[1]。測量值與模型之間的差異約為10%[1]。

結(jié)論

本文提出了一個模型來計算功率轉(zhuǎn)換器應(yīng)用中GaN-HEMT器件的動態(tài)RDSon值。示出了測量電路,以在不同的ON和OFF狀態(tài)下獲得RDSon值。根據(jù)提出的模型,設(shè)計人員可以成功預(yù)測功率轉(zhuǎn)換器中的傳導(dǎo)損耗和開關(guān)損耗。還對該電路進(jìn)行了瞬態(tài)響應(yīng)和不同開關(guān)頻率的測試。兩個RDSon的差小于10%。已經(jīng)觀察到,在功率轉(zhuǎn)換器操作期間,RDSon的值在100秒后趨于穩(wěn)定。

參考

[1]在高頻功率轉(zhuǎn)換器中對GaN-HEMT動態(tài)導(dǎo)通態(tài)電阻建模在英國諾丁漢大學(xué)的科力電力電子,機(jī)器和控制(PEMC)組中,英國諾丁漢大學(xué)

[2] Huang Q,AQ Huang,R。Yu,P。Liu和W. Yu,“具有GaN AC開關(guān)的高效,高密度單相雙模級聯(lián)降壓-升壓多電平無變壓器PV逆變器, ”《 IEEE電力電子交易》,第1卷。34,第7474-7488頁,2019年8月。

[3] M. Fu,C。Fei,Y。Yang,Q。Li和FC Lee,“鐵路應(yīng)用中基于gan的dc-dc模塊:設(shè)計考慮和高頻數(shù)字控制”,IEEE工業(yè)學(xué)報電子,卷。67,第1638–1647頁,2020年2月。

[4] S. Yang,S。Han,K。Sheng和KJ Chen,“ gan電力設(shè)備中的動態(tài)導(dǎo)通電阻:機(jī)制,特性和建?!?,《 IEEE電力電子新興和精選主題》,第1卷。7,頁1425-1439,2019年9月。

[5] D. Jin和J. Del Alamo,“高壓GaN場效應(yīng)晶體管中動態(tài)導(dǎo)通電阻研究的方法論”,電子設(shè)備,IEEE Transactions60,第3190–3196頁,2013年10月。

[6] R. Li,X。Wu,S。Yang和K. Sheng,“通過雙脈沖和多脈沖在硬開關(guān)和軟開關(guān)條件下對GaN功率器件進(jìn)行動態(tài)導(dǎo)通電阻測試和評估”,《 IEEE交易》關(guān)于電力電子學(xué),第一卷。34,第1044–1053頁,2019年2月。

[7] F. Yang,C。Xu和B. Akin,“開關(guān)瞬態(tài)對GaN HEMT中動態(tài)導(dǎo)通電阻的影響的實驗評估和分析”,《 IEEE電力電子學(xué)報》,第1-1頁,2019年。

[8] R. Hou和J. Lu,“基于gan的硬開關(guān)應(yīng)用中動態(tài)導(dǎo)通態(tài)電阻對系統(tǒng)損耗的影響”,在PCIM Europe 2019上;電力電子,智能運動,可再生能源和能源管理國際展覽和會議,2019年5月,第1至7頁。

[9] BJ Galapon,AJ Hanson和DJ Perreault,“以MHz頻率測量GaN晶體管的動態(tài)導(dǎo)通電阻”,在2018年第19屆電力電子控制與建模研討會(COMPEL)上,第1-8頁,2018年6月。 。

[10] N. Badawi,O。Hilt,E。Bahat-Treidel,J。Bocker,J。W urfl和S. Dieck-erhoff,“研究600 V常關(guān)狀態(tài)的動態(tài)導(dǎo)通電阻和GaN-HEMTs,” IEEE工業(yè)應(yīng)用學(xué)報,第1卷。52,第4955–4964頁,2016年11月。

[11] Y. Cai,AJ Forsyth和R. Todd,“ GaN HEMT動態(tài)導(dǎo)通態(tài)電阻對轉(zhuǎn)換器性能的影響”,在2017年IEEE應(yīng)用功率電子會議暨展覽會(APEC)中,第1689-1694頁,3月2017。

[12] F. Yang,C。Xu和B. Akin,“ EnhancedMode GaN HEMT中不同工作條件對動態(tài)導(dǎo)通電阻的影響的定量分析”,在2018年IEEE第6屆寬帶隙功率器件和應(yīng)用研討會(WiPDA) ),第134-140頁,2018年10月。

[13] MJ Uren,S。Karboyan,I。Chatterjee,A。Pooth,P。Moens,A。Banerjee和M. Kuball,““漏電”模型用于抑制碳摻雜AlGaN / GaN中的動態(tài)Ron HEMTs”,《電子設(shè)備上的IEEE交易》,第1卷。64,第2826-2834頁,2017年7月。

[14] K. Li,PL Evans和CM Johnson,“氮化鎵功率半導(dǎo)體器件動態(tài)導(dǎo)通態(tài)電阻的特性和建?!?,關(guān)于電力電子的IEEE交易,第1卷。33,頁5262-5273,2018年6月。

編輯:hfy

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