結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管的溝道由 N 型半導(dǎo)體或 P 型半導(dǎo)體材料組成,柵極由相反的半導(dǎo)體類型制成。N 溝道摻雜有施主雜質(zhì),其中通過(guò)溝道的電流以電子的形式為負(fù)。P 溝道摻雜受主雜質(zhì),其中電流以空穴的形式流動(dòng)為正。由于與空穴相比,電子通過(guò)導(dǎo)體具有更高的遷移率,因此 N 溝道 JFET 與其等效的 P 溝道類型相比具有更高的溝道導(dǎo)電性。
JFET的結(jié)構(gòu)
輸入阻抗非常高,因?yàn)闁艠O結(jié)是反向偏置的,并且沒(méi)有少數(shù)載流子對(duì)流經(jīng)器件的貢獻(xiàn)。來(lái)自 N 溝道的電荷載流子耗盡用作 JFET 的控制元件。當(dāng)柵極變得更負(fù)時(shí),來(lái)自柵極周圍較大耗盡區(qū)的多數(shù)載流子被耗盡。對(duì)于給定的源漏電壓值,這會(huì)減少電流。
常用JFET的特點(diǎn):
- 快速切換
- 對(duì)于低頻操作,源漏可以互換
- 控制漏極電流的柵極電壓
- 單個(gè)多數(shù)載波
- 體積小
- 高“Z”輸入
結(jié)構(gòu)與功能
FET 可以通過(guò)多種方式制造。重?fù)诫s襯底通常用作硅器件的第二柵極。使用外延或通過(guò)將雜質(zhì)擴(kuò)散到襯底中或通過(guò)離子注入,可以生長(zhǎng)有源N型區(qū)。漏極和源極之間的距離很重要,無(wú)論 FET 使用什么材料,都應(yīng)保持最小距離。
該JFET被摻雜以含有正或負(fù)電荷載體的豐富,因?yàn)樗前雽?dǎo)體材料的長(zhǎng)通道。為了在界面處出現(xiàn) PN 結(jié),柵極端子的摻雜應(yīng)該與圍繞它的溝道的摻雜相反。電荷通過(guò) JFET 的流動(dòng)是通過(guò)收縮載流通道來(lái)控制的,而花園軟管則是通過(guò)擠壓它來(lái)控制水流以減小橫截面。
N溝道和P溝道JFET的原理圖符號(hào)如下所示。P 溝道 JFET 的工作方式與 N 溝道相同,但有以下例外:
– 偏置電壓的極性需要反轉(zhuǎn) – 由于空穴,通道電流為正
JFET 的示意圖符號(hào)
下面顯示的 JFET 橫截面圖像是一個(gè)適當(dāng)偏置的 JFET,其中柵極是反向的,并構(gòu)成到源極到漏極半導(dǎo)體板的二極管結(jié)。如果在源極和漏極之間施加電壓,由于摻雜,N 型條將在任一方向?qū)щ?。反向偏置的程度控制?dǎo)通。施加適度的反向偏壓可以增加耗盡區(qū)的厚度。通過(guò)使溝道變窄,增加了源漏溝道的電阻。對(duì)于低電平漏電池電壓,源漏電流可以在任一方向流動(dòng),因?yàn)樵绰┦强梢曰Q的。
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