2020年10月5日,美國商務(wù)部工業(yè)與安全局(BIS)發(fā)布了最終規(guī)則,對《關(guān)于常規(guī)武器和兩用貨物及技術(shù)出口管制的瓦森納安排》2019年12月全體會議上達(dá)成的六項“新興技術(shù)”實施新的多邊管制。聲稱這些新興技術(shù)“對美國的國家安全至關(guān)重要”,包括黑客取證工具、監(jiān)視軟件、次軌道飛行器,以及制造集成電路和半導(dǎo)體的工具及技術(shù)。
該規(guī)則標(biāo)志著《出口管理條例》(EAR)的《商業(yè)控制清單》(CCL)中對新興技術(shù)和基礎(chǔ)技術(shù)控制的進(jìn)一步多邊實施?!?2018年出口管制改革法案》(ECRA)第1758條創(chuàng)建了一個跨機構(gòu)流程,用于識別“對美國國家安全至關(guān)重要的”新興技術(shù)和基礎(chǔ)技術(shù)。ECRA還指示美國政府提議將此類技術(shù)添加到多邊控制制度中,例如瓦森納安排清單,該清單每年更新一次。
六項新控制的技術(shù)包括:
1,混合增材制造(AM)/計算機數(shù)控(CNC)工具(2B001)。涉及集成的增材制造(也稱為3D打?。┖投噍S計算機數(shù)控(CNC)機器,其體現(xiàn)了自動化機器當(dāng)下和未來的功能,包括但不限于車削,銑削或磨削功能。
2,設(shè)計用于制造極紫外(EUV)掩模(3D003)的計算光刻軟件。該規(guī)則更新了3D003,以控制計算用的極端紫外線光刻(EUVL)軟件,該軟件用于優(yōu)化EUV掩模版母版上的圖案,以在晶片上制作優(yōu)化的光刻膠圖案。
3,用于5nm生產(chǎn)的晶圓精加工技術(shù)(3E004)。該規(guī)則將增加ECCN 3E004,以基于多個參數(shù)來控制用于高端集成電路基板生產(chǎn)的“技術(shù)”。
4,繞過計算機(或計算機設(shè)備)上的身份驗證或授權(quán)控制并提取原始數(shù)據(jù)的數(shù)字取證工具(5A004 / 5D002)。這些工具已被軍隊使用,可以快速分析設(shè)備并恢復(fù)受保護(hù)的信息。根據(jù)最終規(guī)則,“提取原始數(shù)據(jù)”一詞闡明了僅限于提取簡單用戶數(shù)據(jù)的項,例如聯(lián)系人列表,視頻和照片(例如,在手機之間傳輸個人信息)將不受控制。該規(guī)則還將“許可例外” ENC第EAR740.17(b)(3)(iii)(B)條歸類,這意味著在將此類工具導(dǎo)出到第三方之前,需要提交CCATS以及半年銷售報告。
5,用于監(jiān)視和分析的,通過切換接口從電信服務(wù)提供商處獲取的通信和元數(shù)據(jù)的軟件(5D001)。該軟件必須具有根據(jù)通信內(nèi)容或從服務(wù)提供商處獲取的元數(shù)據(jù)的“硬選擇器(hard selectors)”執(zhí)行搜索的能力,并且它必須具有基于關(guān)系網(wǎng)絡(luò)映射或跟蹤目標(biāo)個人移動的能力。不包括用于計費目的的軟件,網(wǎng)絡(luò)服務(wù)質(zhì)量(QoS),體驗質(zhì)量(QoE),中介設(shè)備或移動支付或銀行使用的軟件。
6,次軌道飛行器(9A515)。這是指旨在在平流層上方運行并在不完成軌道的情況下降落在地球上的飛機。因此,它不符合CCL中對“航天器”的當(dāng)前定義,該定義僅限于衛(wèi)星和太空探測器。
上面列出的六種技術(shù)中的每一種都是出于國家安全(NS)的原因而受到控制的。
注意:
標(biāo)準(zhǔn)更加具體:BIS繼續(xù)采取對“新興技術(shù)”實施控制的方式,確定了具體細(xì)則標(biāo)準(zhǔn),而不是BIS在其2018年擬制定規(guī)則的事先通知(ANPRM)中就新興技術(shù)征求公眾意見時列出的寬泛技術(shù)類別。
美國海外投資委員會的影響:這些技術(shù)現(xiàn)在在外國投資交易方面具有重要意義,根據(jù)美國海外投資委員會(CFIUS)的審查和調(diào)查,被認(rèn)定為基礎(chǔ)技術(shù)和新興技術(shù)的技術(shù)被視為“關(guān)鍵技術(shù)”,并可觸發(fā)對某些少數(shù)股權(quán)投資的管轄權(quán)和強制性申報要求。
直接產(chǎn)品規(guī)則:與上述技術(shù)相關(guān)的ECCNs受國家安全控制。因此,根據(jù)傳統(tǒng)的外國直接產(chǎn)品規(guī)則,任何使用美國技術(shù)或軟件的外國產(chǎn)品都可能受到EAR的管轄。
責(zé)任編輯人:CC
-
EUV
+關(guān)注
關(guān)注
8文章
607瀏覽量
86059 -
5nm
+關(guān)注
關(guān)注
1文章
342瀏覽量
26098
原文標(biāo)題:美國對六種新興技術(shù)實施控制:EUV和5nm相關(guān)技術(shù)在列
文章出處:【微信號:Global-Semiconductor,微信公眾號:環(huán)球半導(dǎo)體】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。
發(fā)布評論請先 登錄
相關(guān)推薦
評論