臺(tái)積電N12e性制程工藝，可帶來76%的邏輯密度提升

在臺(tái)積電第26屆技術(shù)研討會(huì)上，臺(tái)積電不僅確認(rèn)5nm、6nm已在量產(chǎn)中，3nm、4nm明年試產(chǎn)后年量產(chǎn)外，也將老邁的12nm進(jìn)行了全新升級(jí)。

新制程工藝節(jié)點(diǎn)名為N12e，綠色LOGO極為醒目，突出的就是其在能耗上的極佳表現(xiàn)。

具體來說，N12e要取代的是22ULL，可帶來76%的邏輯密度提升，給定功耗下49%的頻率提升、給定性能下55%的功耗減少以及SRAM尺寸50%的縮減。

N12e支持的Vdd電壓能夠做到0.4V，可以說完美適配IoT設(shè)備。事實(shí)上臺(tái)積電的規(guī)劃就是，面向5G處理器、基帶、無(wú)線耳機(jī)、智能手表、VR、可穿戴設(shè)備、入門級(jí)SoC等場(chǎng)景領(lǐng)域服務(wù)。

參照臺(tái)積電今年二季度的營(yíng)運(yùn)報(bào)告，雖然7nm在營(yíng)收上份額上已達(dá)36%，妥妥第一大印鈔機(jī)，但16nm（12~16nm）還保有著18%的份額，是絕對(duì)的中堅(jiān)，不可忽視。另外，第三大晶圓廠GF（格芯）退出10nm以下制程研發(fā)后，也是全力優(yōu)化12~14nm工藝，爭(zhēng)搶IoT、低功耗SoC市場(chǎng)的代工份額。

說到臺(tái)積電12nm的忠實(shí)伙伴，NVIDIA絕對(duì)要提，從Volta一路走到當(dāng)下的Turing，可都是12nm加持，“忠心耿耿”。

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